本发明涉及用于对具备防反射层的光学构件的缺陷进行光学性检查的外观检查方法及外观检查装置。
背景技术：
在液晶显示器、有机el显示器等图像显示装置中，已使用了偏振片、相位差膜、覆盖窗等各种光学构件。另外，也使用了在膜、玻璃等基材的表面具备防反射层、透明导电膜等功能性薄膜的光学构件。
这些光学构件如果存在损伤、凹痕等变形、混入异物、表面附着异物、污垢等缺陷，则会导致显示特性的降低。因此，出于防止包含缺陷的产品的流出等目的，在光学构件的制造工序、完成品的出厂前要进行外观检查。光学构件的外观检查例如可通过检查员的目测而进行。另外，也进行了使用检查装置的检查，所述检查装置是向光学构件照射光、利用摄像机对透射光或反射光进行摄像、并基于得到的图像判定缺陷的有无等的检查装置。
例如，在专利文献1中公开了通过对具备防反射膜的透明基板照射光并对其透射光进行摄像，从而检查缺陷的有无的方法。在专利文献2中公开了在成为检查对象的透明构件的背面配置镜子、对透明构件照射紫外光、并利用紫外线摄像机对透过透明构件并由镜子反射的紫外光进行检测的方法，其中记载了下述内容：能够以高对比度在图像中映出存在于透明构件的表面及内部的缺陷，从而辨别缺陷。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2003-172707号公报
专利文献2：日本特开2004-257776号公报
技术实现要素：
发明要解决的问题
一般而言，在对存在于产品的内部、层间的缺陷进行检测时，所进行的是使用了透射光学系统的检查。特别是对于透明构件、偏振片等在基材的表面具备防反射层的光学构件，由于是以使基材与防反射层的界面的光反射量变小的方式设计防反射层的，来自防反射层侧的照射光的反射率小，因此一般要进行利用透射光学系统的检查。
然而，利用透射光学系统，很难实现对遮光性低的缺陷的检测。例如，就防反射膜而言，有时会在基材表面产生来自硅等的污垢以条纹状附着而成的缺陷。附着于基材表面的污垢的光吸收量小，因此，难以利用透射光学系统进行检测，特别是硅的附着污垢等被视觉辨认为白色的污垢，其倾向更显著。另外，在基材表面形成有防反射层、且在基材与防反射层的层间存在污垢的情况下，由于防反射层具有减少来自基材表面的反射光量的作用，因此，利用反射光学系统的缺陷检测也不容易进行。
显示器的高亮度化、高画质化得到了发展，对防反射膜等光学构件的要求特性逐渐提高。与此相伴，像层间的附着污垢那样的利用基于现有的外观检查装置的检查而难以检测到的微细缺陷也被视为问题。鉴于这样的情况，本发明的目的在于提供可检测层间的微细污垢等缺陷的外观检查方法及外观检查装置。
解决问题的方法
在本发明的一个实施方式中，将在具有第一主面及第二主面的基材的第一主面上具备防反射层的光学构件作为检查对象，实施外观检查。在外观检查中，使用具备向光学构件照射波长410nm以下的光的投光部、和对来自光学构件的反射光进行摄像的摄像部的检查装置。在光学检查中，从投光部向光学构件的第一主面(防反射层形成面)照射波长410nm以下的光，并用摄像部对来自光学构件的反射光进行摄像。在外观检查中，可以一边使光学构件向一个方向移动，一边从投光部向光学构件的第一主面照射光，并利用摄像部对反射光进行摄像。
优选摄像部配置于光学构件的法线方向或夹着法线的一方向侧、投光部配置于夹着光学构件的法线的另一方向侧。在沿光学构件的法线方向配置摄像部的情况下，可以在夹着光学构件的法线的一方向侧与另一方向侧这两侧配置投光部。
优选以光学构件的法线方向为基准的投光角度φ大于以光学构件的法线方向为基准的摄像角度θ。从抑制检测出镜面反射光、有效地检测来自光学构件的散射反射光、提高对比度的观点考虑，摄像角度θ与投光角度φ之差优选为7°以上。
摄像角度θ与投光角度φ的总和优选为35°～55°。例如，摄像角度θ为0°～30°，投光角度φ为5°～50°。
使用了紫外线的反射光学系统的检查特别适于存在于基材与防反射层之间的界面的缺陷的检测。作为存在于基材与防反射层之间的界面的缺陷，可举出例如附着于基材的表面的硅等污垢。
作为检查对象的光学构件，可举出在包含起偏镜的基材(偏振片)的一个主面形成有防反射层的带防反射层的偏振片。也可以在基材的防反射层形成面设置硬涂层。
发明的效果
通过利用反射光学系统对来自光学构件的反射紫外线进行摄像，可以检测到利用透射光学系统所难以检测的存在于层间的微细的污垢等缺陷。
附图说明
图1及图2是示出带防反射层的偏振片的层叠结构例的剖面图。
图3是示出了一边运送光学构件一边实施光学检查的情况的构成图。
图4～图6是示出了照明及摄像机与光学构件的配置的剖面图。
图7是实施例的检查图像，图8是实施例及比较例的检查图像。
符号说明
11、12光学构件(带防反射层的偏振片)
6基材(带硬涂层的偏振片)
1防反射层
2硬涂层
3起偏镜
4、5透明保护膜
8粘合剂层
9脱模膜
21、22照明
31线扫描摄像机
51、52旋转辊
具体实施方式
本发明的一实施方式涉及在基材的一面具备防反射层的光学构件的外观检查方法、及用于实施光学构件的外观检查的外观检查装置，其特征在于，对反射紫外线进行摄像。
[光学构件的构成]
成为外观检查的对象的光学构件在面状的基材的一个主面具备防反射层。基材可以是玻璃等刚性基材，也可以是树脂膜等挠性基材。另外，光学构件可以是单片的，也可以是长条状。在检查长条状的光学构件的外观的情况下，可以一边通过卷对卷方式将光学构件向一个方向运送，一边实施检查。
图1是作为具备防反射层的光学构件的一例的带防反射层的偏振片的构成剖面图。图1中示出的带防反射层的偏振片11在带硬涂层的偏振片6的表面具备防反射层1。偏振片通常具有在起偏镜3的一面或两面贴合有透明保护膜4、5的构成。
作为起偏镜3，可使用例如使碘、二色性染料等二色性物质吸附于聚乙烯醇类膜并沿给定方向取向而成的聚乙烯醇(pva)类起偏镜。作为pva类起偏镜，可使用厚度为10μm以下的薄型起偏镜。
作为贴合于起偏镜3的一面或两面的透明保护膜4、5，可使用挠性的透明膜。透明膜的可见光透射率优选为80％以上、更优选为90％以上。透明膜的厚度为10～300μm左右。作为构成透明膜的树脂材料，可列举聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(pbt)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)等聚酯类；二乙酸纤维素、三乙酸纤维素等纤维素类聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸类聚合物；聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯类聚合物；聚降冰片烯等环状聚烯烃；聚碳酸酯等。
起偏镜3与透明保护膜4、5经由适宜的粘接剂贴合在一起。作为粘接剂，可列举以丙烯酸类聚合物、有机硅类聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚乙烯醇、聚乙烯醚、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烃、环氧类聚合物、氟类聚合物、橡胶类聚合物等为基础聚合物的粘接剂。
可以在透明保护膜的表面设置硬涂层。通过在防反射层1形成面侧的透明保护膜4的表面设置硬涂层2，可提高偏振片的表面硬度、耐擦伤性等机械特性。作为构成硬涂层2的固化性树脂，可列举热固化型树脂、紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂等。作为固化性树脂的种类，可列举聚酯类、丙烯酸类、氨基甲酸酯类、丙烯酸氨基甲酸酯类、酰胺类、有机硅类、硅酸酯类、环氧类、三聚氰胺类、氧杂环丁烷类、丙烯酸氨基甲酸酯类等的各种树脂。硬涂层2的厚度没有特别限定，为了实现高的硬度，优选为0.5μm以上，更优选为1μm以上。如果考虑利用涂布的形成的容易性，硬涂层的厚度优选为15μm以下，更优选为12μm以下，进一步优选为10μm以下。
在硬涂层2上形成防反射层1前，出于提高硬涂层2与防反射层1的密合性等目的，也可以进行硬涂层2的表面处理。作为表面处理，可列举电晕处理、等离子体处理、火焰处理、臭氧处理、底涂处理、辉光处理、碱处理、酸处理、利用偶联剂的处理等表面改性处理。
作为防反射层，可列举：利用由光的多重干涉作用带来的反射光的消除效果而防止反射的多层薄膜类型、通过对表面赋予微细结构而降低反射率的类型的防反射层。在多层薄膜类型的防反射层中，通过层叠折射率不同的多个薄膜，可以在可见光的宽波段的波长范围内减小反射率。作为构成防反射层1的薄膜的材料，可列举金属的氧化物、氮化物、氟化物等。防反射层1优选为高折射率层与低折射率层的交替层叠体。
高折射率层的折射率例如为1.9以上、优选为2.0以上。作为高折射率材料，可列举氧化钛、氧化铌、氧化锆、氧化钽、氧化锌、氧化铟、氧化铟锡(ito)、锑掺杂氧化锡(ato)等。低折射率层的折射率例如为1.6以下、优选为1.5以下。作为低折射率材料，可列举氧化硅、氮化钛、氟化镁、氟化钡、氟化钙、氟化铪、氟化镧等。除低折射率层与高折射率层以外，还可以设置折射率1.6～1.9左右的中折射率层。高折射率层及低折射率层的膜厚分别为5～200nm左右，根据折射率、层叠结构等设计各层的膜厚、使得可见光的反射率变小即可。
也可以在防反射层1的表面设置防污层(未图示)。通过设置防污层，可以防止指纹、手垢、尘埃等来自外部环境的污染，而且容易将附着的污染除去。作为防污层的材料，可列举含氟基硅烷类化合物、含氟基有机化合物等。另外，类金刚石碳等也可以作为防污层的材料使用。防污层的厚度例如为0.01～2μm左右。
如图2所示，带防反射层的偏振片12可以在偏振片6的未设置防反射层1的一侧表面设置用于将偏振片6与图像显示面板等贴合的粘合剂层8。作为粘合剂，可使用丙烯酸类粘合剂、橡胶类粘合剂、有机硅类粘合剂等。粘合剂层8的厚度为5～200μm左右。
优选在粘合剂层8的表面暂时粘贴有脱模膜9。作为脱模膜的基材，可使用聚酯类、纤维素类聚合物、丙烯酸类聚合物、苯乙烯类聚合物、酰胺类聚合物、聚烯烃、环状聚烯烃、聚碳酸酯等。脱模膜的与粘合剂层的接触面经过了脱模处理。作为脱模剂，可使用有机硅类、氟类、长链烷基类、脂肪酸酰胺类等的脱模材料、含有二氧化硅粉等的溶液。脱模膜的厚度为10～150μm左右。
带防反射层的偏振片只要包含起偏镜和设置于表面的防反射层，其层叠结构就不限定于图1及图2所示的形态。例如，偏振片可以是省略了起偏镜3的一面的透明保护膜5的单侧保护偏振片。另外，也可以在贴合于起偏镜3的透明保护膜4上进一步层叠其它基材膜，并在该基材膜上设置硬涂层及防反射层。
[光学检查]
在外观检查中，从投光部向具备防反射层的光学构件照射紫外光，并利用摄像部对来自光学构件的反射紫外线进行拍摄。通过使用了紫外线的反射光学系统的检查，可检测出存在于基材与防反射层的层间的污垢等缺陷。
防反射层以使可见光的反射率、特别是可见度高的波长550nm附近的光的反射率变小的方式设计。在从防反射层侧向设置有防反射层的光学构件照射可见光的情况下，在防反射层与基材的界面处的光的反射很少。另一方面，透过防反射层及基材后，在光学构件的背面(未设置有防反射层的一面)与空气的界面处折射率差大，因此光的反射率大。因此，在向在透明基材的表面设置有防反射层的光学构件照射可见光，并对其反射光进行摄像的情况下，反射光的大部分为背面反射光，难以检测出存在于基材与防反射层的界面的缺陷。
另一方面，即使在光学构件具备防反射层的情况下，在照射波长比波长410nm短的光(紫外线)的情况下，防反射层与基材的界面处的紫外线的反射率高于可见光的反射率，因此，存在于防反射层与基材的层间的污垢等缺陷也可以通过反射光学系统进行检测。特别是在基材包含起偏镜的情况下，透过了防反射层的紫外线被起偏镜吸收，因此，背面反射小，防反射层与基材的界面处的反射光的比率变高。因此，容易检测出存在于防反射层与基材的层间的缺陷，也可以检测出稀少的条纹状污垢这样的微细的缺陷。特别是在缺陷为白色的情况下，存在缺陷的部分(白色)与不存在缺陷的部分(起偏镜的黑色部分)的对比度(明暗比)大，因此，可以通过使用了紫外线的反射光学系统而实现对缺陷的高精度检测。
投光部只要能向光学构件照射紫外线就没有特别限定。作为包含紫外线的光源，可列举led、黑光灯、化学灯、低压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、金属卤化物灯、氙气灯等。从光源放出的光除紫外线以外，还可以包含可见光。由于可均匀地向光学构件照射光、且光的波长范围窄，因此作为投光部的光源，优选为紫外led。紫外led的中心波长优选为300～405nm。
在投光部的光源包含可见光的情况下，优选摄像部(摄像机)可以选择性地对反射紫外线进行摄像。例如，通过在光源与光学构件之间、或光学构件与摄像机之间配置带通滤波器、截止滤波器等滤光片而将可见光阻断即可。
摄像部只要能接受紫外线并进行摄像则没有特别限定，也可以是单色摄像机。在将检查对象的光学构件固定而实施检查的情况下，可使用受光元件呈面状配置的区域摄像机。在一边使光学构件向一个方向移动一边进行拍摄的情况下，可以使用区域摄像机，也可以使用受光元件被配置成一列的线扫描摄像机。
图3是示出了一边将光学构件向一个方向(y方向)运送一边实施光学检查的情况的构成图。图4是沿图3的c1-c2线的剖面图(yz剖面图)。图3所示的实施方式中，外观检查装置具备用于将光学构件沿一个方向(y方向)连续地运送的运送机构(未图示)，一边将长条状的光学构件11(带防反射层的偏振片)向y方向连续运送，一边在旋转辊51与旋转辊52之间实施光学检查。
光学构件11在图3的上侧表面具备防反射层1，被从旋转辊51侧向旋转辊52侧以一定速度运送。检查装置具备向光学构件11照射光的照明21(投光部)、及对来自光学构件11的反射紫外线进行摄像的线扫描摄像机31(摄像部)。线扫描摄像机31以将光学构件的法线方向(z方向)作为基准(0°)的摄像角度θ、按照能够对沿光学构件11的宽度方向(x方向)延伸存在的线状的摄像区域q进行拍摄的方式配置。照明21是沿x方向延伸存在的led线阵，以将光学构件11的法线方向作为基准的投光角度φ、按照能够向区域q照射光的方式配置。
一边连续运送光学构件11，一边将用线扫描摄像机31拍摄的反射亮度图案(反射光在x方向的亮度分布)依次读入并存储于图像存储器(未图示)，进行图像化。将由图像存储器生成的图像(二维图像)显示于显示器。在图3中示出了用1台线扫描摄像机对光学构件11的宽度方向(x方向)整体进行摄像的实施方式，但在光学构件11的宽度大的情况下，也可以在宽度方向上配置多个线扫描摄像机。
从照明21向光学构件照射的光包含波长410nm以下的光(紫外线)。在图3的实施方式中，使用沿x方向延伸存在的led线阵作为照明21，但只要可以向光学构件的宽度方向均匀地照射光，照明21的形状就没有特别限定。另外，也可以在宽度方向上配置多个照明。
通过一边将长条的光学构件向一个方向运送一边照射紫外线，并对来自光学构件的反射紫外光进行摄像，可连续地对缺陷的有无进行检查。该方式除了可适用于光学构件制造后的品质检查，还可以适用于光学构件的制造工序中的在线检查。另外，通过使用线扫描摄像机，可以使投光角度φ及摄像角度θ在视野内变得均匀，因此，可以减小对比度的不均，能以高灵敏度对稀少的污垢这样的微细缺陷进行检测。
就照明21及摄像机31的配置而言，只要能用摄像机31对在光学构件11的反射光进行摄像就没有特别限定。从提高反射紫外光的检测灵敏度的观点考虑，优选如图4所示地，将摄像机31配置于夹着光学构件11的法线(摄像区域q内的法线)的一方向侧，将照明21配置于夹着光学构件的法线的另一方向侧。如图5所示，也可以将摄像机31配置于光学构件11的法线方向。
从照明21至光学构件11的摄像区域q的距离(投光距离)、以及从摄像机31至光学构件11的摄像区域q的距离(摄像距离)没有特别限定，根据光的照射强度、摄像区域的宽度(光学构件11的宽度)、光学构件11的运送速度、摄像机31的分辨率等进行设定即可。投光距离为20～500mm左右，摄像距离为40～1000mm左右。优选摄像距离大于投光距离。
存在于基材与防反射层的层间的污垢等缺陷容易使光散射反射。因此，如果通过摄像机对散射反射光进行摄像，则来自存在缺陷的部分的反射紫外线量多，因此，在基材与防反射层的层间存在缺陷的部分会作为“亮区域”被检测出。特别是存在于基材与防反射层的层间的硅污垢等白色缺陷的反射紫外线量多，因此能够实现高精度的检测。
在投光角度φ与摄像角度θ相同的情况下，镜面反射光的亮度高，存在检查图像的对比度变小的倾向。为了减小镜面反射光的影响、得到高对比度的检查图像，投光角度φ与摄像角度θ之差优选为7°以上，更优选为10°以上，进一步优选为12°以上。
如图5所示，在将摄像机31配置于光学构件11的法线方向的情况(θ≈0°的情况)下，投光角度φ优选为20°～60°，更优选为30°～55°，进一步优选为40°～50°。投光角度φ过小时，存在镜面反射光的影响大、检查图像的对比度降低的倾向。另一方面，投光角度φ过大时，透过防反射层1的光量降低，与此相伴，到达防反射层与基材的界面的光量降低，因此，存在来自层间的缺陷的散射反射光少、检查图像的对比度降低的倾向。需要说明的是，在将摄像机31配置于光学构件11的法线方向的情况下，不需要使摄像角度θ严格地为0°，可以在±5°左右的范围内。
在将摄像机31配置于光学构件11的法线方向的情况下，如图6所示，可以在夹着光学构件的法线的一方向侧配置作为第一投光部的照明21，在夹着光学构件的法线的另一方向侧配置作为第二投光部的照明22。通过从配置于夹着法线的两个方向的照明照射紫外线，存在对比度提高的倾向。
在夹着法线的两个方向上配置照明21及照明22的情况下，各自的投光角度φ1及φ2优选在上述的投光角度φ的范围内。φ1与φ2可以相同也可以不同。从检查图像的对比度提高的观点考虑，φ1与φ2之差优选为10°以下，更优选为5°以下，进一步优选为3°以下，特别优选为1°以下。理想的是φ1与φ2之差为0°。
在如图4所示，将摄像机31配置于夹着光学构件11的法线的一方向侧、并将照明21配置于夹着光学构件的法线的另一方向侧的情况下，优选投光角度φ大于摄像角度θ。通过相对地增大投光角度φ，存在来自存在于基材与防反射层的层间的缺陷的散射反射光量增大、检查图像的对比度提高的倾向。如上所述，从减小镜面反射光的影响的观点考虑，摄像角度θ与投光角度φ之差优选为7°以上，更优选为10°以上，进一步优选为12°以上。
来自存在于层间的缺陷的散射反射存在在反射角度45°±5°的范围内变得特别大的倾向。因此，投光角度φ与摄像角度θ的总和优选为35°～55°，更优选为40°～50°，进一步优选为43°～47°，特别优选为44°～46°。φ与θ的总和理想地为45°。
从以上的观点考虑，为了降低镜面反射光的影响，并有效地检测由存在于层间的缺陷导致的散射反射光，摄像角度θ优选为0°～30°，投光角度φ优选为5°～50°。对于在夹着光学构件11的法线的一方向侧配置摄像机31、并在夹着光学构件11的法线的另一方向侧配置照明21的方式而言，摄像角度θ更优选为5°～20°，进一步优选为8°～17°，特别优选为10°～15°，投光角度φ更优选为20°～40°，进一步优选为23°～37°，特别优选为25°～35°。
在图3中，示出了一边将光学构件向一个方向连续运送、一边用线扫描摄像机对来自光学构件的反射光进行摄像的实施方式，但也可以将光学构件固定，通过区域摄像机(视频摄影机或静物摄像机)对来自光学构件的反射紫外光进行摄像。另外，也可以将光学构件固定，使线扫描摄像机(及照明)沿一个方向移动，生成二维图像。
检查对象的光学构件不限定于长条状膜，也可以是单片的。光学构件为单片的情况下，可以将光学构件固定而实施利用区域摄像机的检查，也可以一边将光学构件载置于移动台、传送带并向一个方向移动，一边实施利用区域摄像机或线扫描摄像机的检查。
在利用反射紫外光对存在于防反射层与基材的层间的缺陷进行检测的方法中，通过抑制背面反射，可以选择性地对防反射层与基材的界面的反射光进行摄像，从而提高缺陷部分与正常部分的对比度。另外，在缺陷为白色的情况下，来自缺陷的反射光大，缺陷部分与非缺陷部分的反射紫外线量之差大，因此，即使在背面反射大的情况下，也可以利用使用了紫外线的反射光学系统进行缺陷的检测。
作为可抑制背面反射的实施方式，示出了检查对象为带防反射层的偏振片的例子，但在基材不包含起偏镜的情况下，也可以通过适宜的方法减少背面反射。例如，可以通过在基材的背面暂时粘贴黑色膜等光吸收性(紫外线吸收性)的膜，从而减少背面反射。另外，可以通过在光吸收性的台上载置检查对象的光学构件并实施检查的方法、一边将光学构件连续运送一边在黑辊等光吸收性的旋转辊上实施检查的方法等来减少背面反射。
实施例
以下，示出将带防反射层的偏振片作为检查对象的光学检查的例子，但本发明不限定于以下的例子。
[检查对象]
将在含浸有碘的拉伸聚乙烯醇类起偏镜的两面具备透明保护膜、并在一侧的透明保护膜的表面设置有硬涂层及多层薄膜的防反射层的带防反射层的偏振片作为检查对象。在检查对象中，在进行基于卷对卷的制造时沿着长度方向存在白色的条纹状缺陷。通过分析确认了该条纹状缺陷为附着于硬涂层与防反射层之间的硅污垢。
[实施例1～7]
从波长385nm的紫外led以投光距离85～100mm向上述的检查对象照射紫外线，用2k单色摄像机(256阶)对反射光进行了摄像。将投光角度φ及摄像角度θ如表1所示地进行变更，根据由硅污垢引起的条纹的部分(亮区域)及正常部分(暗区域)的亮度求出对比度(明暗比)。
[比较例1]
向作为检查对象的带防反射层的偏振片的防反射层形成面从法线方向以投光距离40mm照射紫外led光(投光角度：0°)，利用配置于背面侧的2k单色摄像机对透射光进行摄像(摄像角度：180°)。
[比较例2及比较例3]
将照射光变更为白色led，利用2k单色摄像机以表1中示出的投光角度φ及摄像角度θ对反射光进行了摄像。
将用于实施例及比较例的检查的照明及光学系统和明暗比示于表1。另外，将得到的检查图像示于图7及图8。
[表1]
在使用紫外led、对反射紫外光进行摄像的实施例1～7中，在检查图像中，观察到了亮区域形式的条纹状缺陷部分，实现了对缺陷的检测。在透射光学系统的比较例1中，未能对缺陷进行检测。另外，在使用了可见光的比较例2、3中，也未能实现对缺陷的检测。
在投光角度与摄像角度之差为5°的实施例7中，虽然检测到了条纹状缺陷，但是镜面反射光的影响大(参照图8)，与其它实施例相比，未能得到充分的对比度。根据该结果可知，对散射反射紫外光进行摄像的方法适于存在于防反射层与基材的界面的硅污垢等缺陷的检测。
在实施例中，特别是实施例3及实施例4，对比度高，可清晰地检测到条纹状的缺陷。根据这些结果可知，通过对摄像角度及投光角度进行调整，可提高缺陷的检测灵敏度。
实施例6替换了实施例4的摄像角度θ与投光角度φ，与实施例4相比，对比度降低。根据该结果可知，通过增大投光角度φ而对以小于镜面反射光的反射角φ的角度θ散射的紫外线进行检测，可以提高缺陷的检测灵敏度。
1.光学构件的外观检查方法，该光学构件在具有第一主面及第二主面的基材的第一主面上具备防反射层，
该外观检查方法包括：从投光部向所述光学构件的第一主面照射波长410nm以下的光，并用摄像部对来自所述光学构件的反射光进行摄像。
2.根据权利要求1所述的外观检查方法，其中，
所述摄像部配置于所述光学构件的法线方向或夹着法线的一方向侧，所述投光部配置于夹着所述光学构件的法线的另一方向侧。
3.根据权利要求2所述的外观检查方法，其中，
以所述光学构件的法线方向为基准的投光角度φ大于以所述光学构件的法线方向为基准的摄像角度θ。
4.根据权利要求3所述的外观检查方法，其中，
所述摄像角度θ与所述投光角度φ之差为7°以上。
5.根据权利要求3所述的外观检查方法，其中，
所述摄像角度θ与所述投光角度φ的总和为35°～55°。
6.根据权利要求3所述的外观检查方法，其中，
所述摄像角度θ为0°～30°，所述投光角度φ为5°～50°。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的外观检查方法，其中，
一边使所述光学构件向一个方向移动，一边从所述投光部向所述光学构件的第一主面照射光，并用所述摄像部对反射光进行摄像。
8.根据权利要求1～6中任一项所述的外观检查方法，其中，
检测存在于所述基材与所述防反射层的界面的缺陷。
9.根据权利要求8所述的外观检查方法，其中，
所述缺陷是附着于所述基材的表面的污垢。
10.根据权利要求9所述的外观检查方法，其中，
所述缺陷是白色的。
11.根据权利要求1～6中任一项所述的外观检查方法，其中，
所述基材包含起偏镜。
12.根据权利要求1～6中任一项所述的外观检查方法，其中，
所述基材在第一主面具备硬涂层，在所述硬涂层上设置有所述防反射层。
13.外观检查装置，其用于在具有第一主面及第二主面的基材的第一主面上具备防反射层的光学构件的外观检查，
该外观检查装置具备配置于所述光学构件的第一主面侧的投光部及摄像部，
所述投光部能够将波长410nm以下的光照射至所述光学构件的第一主面，
所述摄像部以能够对来自所述光学构件的反射光进行摄像的方式配置。
14.根据权利要求13所述的外观检查装置，其中，
所述摄像部配置于所述光学构件的法线方向或夹着法线的一方向侧，所述投光部配置于夹着所述光学构件的法线的另一方向侧。
15.根据权利要求14所述的外观检查装置，其中，
以所述光学构件的法线方向为基准的投光角度φ大于以所述光学构件的法线方向为基准的摄像角度θ。
16.根据权利要求15所述的外观检查装置，其中，
所述摄像角度θ与所述投光角度φ之差为7°以上。
17.根据权利要求15所述的外观检查装置，其中，
所述摄像角度θ与所述投光角度φ的总和为35°～55°。
18.根据权利要求15所述的外观检查装置，其中，
所述摄像角度θ为0°～30°，所述投光角度φ为5°～50°。
19.根据权利要求13～18中任一项所述的外观检查装置，其还具备将所述光学构件向一个方向连续地运送的运送机构。
技术总结