本发明涉及一种仪表防护装置，特别是一种适用于城市地下管网水质监测的水质测量仪表防护装置，属于环境监测领域。
背景技术：
所述水质测量仪表防护装置被国内外广泛用于江河、湖库、海洋、城市地下管网等地表水区域水质测量仪表的防护。
由于水质测量过程中水体条件和测量环境复杂多变，水质测量装置的设计和安装方式对测量的准确性和施工维护的工作量有极大影响。其中城市地下管网水体条件尤为复杂，其水质测量过程经常面临淤泥遮挡、水中杂物挂壁、通讯不佳、水量不稳定导致搁浅或漫灌，以及操作空间狭小等情况；常用的测量装置无法同时解决以上技术难题，因此往往出现测量结果不准确、信息丢失、仪表损坏、施工困难、维护复杂等一系列问题。常见的应对方法是增加人工维护工作量，但由于城市管网分布极广，数量极多，且安装环境闭塞，安装和维护的人工成本极大，在人力有限的情况下通常无法完全有效解决。且当面临极端环境变化，如长期干涸或大量降雨带来的水量变化，传统方法往往无力应对，从而造成测量仪表损坏，带来经济损失。
技术实现要素：
为了克服上述问题，本发明提供了一种水质测量仪表防护装置。
本发明公开了一种水质测量仪表防护装置，属于环境监测领域。本发明的水质测量仪表防护装置，包括水位自适应保护装置、水下旋转保洁装置和测量探头维护装置三大部分。水位自适应测量保护装置用于在不同水位条件下对测量仪表进行保护，以为其提供安全稳定的测量环境；水下旋转保洁装置用于通过旋转减少水中杂物挂壁，保持测量仪表清洁；测量探头维护装置用于测量仪表中测量探头的自动维护，保证测量准确度并防止仪器损坏。水位自适应保护装置、水下旋转保洁装置和测量探头维护装置组装于伸缩支架上，通过螺旋电缆进行电力和信号连接，可灵活适应现场安装环境，采用一体化的安装方式，在地面完成所有部件组装和布线，降低狭小空间施工难度。所有水下装置采用独立全密封防水结构。
优选的，所述水质测量仪表防护装置由水位自适应保护装置、水下旋转保洁装置和测量探头维护装置组成；组装构成的水质测量仪表防护装置可以适应城市地下管网复杂水体条件和安装环境，对水质测量仪表进行综合防护，降低人工维护工作量，保证水质测量仪表长期安全稳定工作。
优选的，所述水位自适应保护装置包括浮块、防搁浅装置和独立全密封防水结构。在正常水位下通过浮块保持测量仪表在水体中的适宜位置，防止淤泥遮挡；在水位过低时通过防搁浅装置防止测量仪表陷入水体底部淤泥；在水位过高时通过所有水下装置采用的独立全密封防水结构对测量仪表进行防漫灌保护。
优选的，所述水下旋转保洁装置包括旋转保护罩、旋转控制系统。旋转保护罩用于隔离水体杂物，随水流方向绕安装杆双向360°旋转，在水流作用力和重力影响下减少杂物挂壁堆积，保证内部测量仪表的清洁；旋转控制系统用于控制旋转保护罩状态，使其采取被动式水流冲击旋转，或主动式电力驱动旋转。
优选的，所述测量探头维护装置包括液位传感器、维护控制系统、探头清洗装置。液位传感器用于获取当前水位信息，为维护控制系统提供输入。维护控制系统根据当前水位信息或人工输入，对探头清洗装置发送相应操作命令。探头清洗装置用于根据操作命令对测量探头进行仿人工机械清洗或专用液保护性清洗。
本发明的水质测量仪表防护装置将水位自适应保护装置、水下旋转保洁装置和测量探头维护装置结合，可实现复杂水体条件下水质测量仪表的综合防护。本发明具有防搁浅、防漫灌、防水中杂物挂壁堆积、测量探头自动清洗维护、安装安全简单、维护工作量小等特点，主要用于城市地下管网水质测量仪表的防护。
附图说明
图1是本发明第一实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面对本发明的具体实施方式作进一步的详细描述。
如图1所示，本发明的一种水质测量仪表防护装置由水位自适应保护装置、水下旋转保洁装置和测量探头维护装置三大部分组成。水位自适应测量保护装置用于在不同水位条件下对测量仪表进行保护，以为其提供安全稳定的测量环境；水下旋转保洁装置用于通过旋转减少水中杂物挂壁，保持测量仪表清洁；测量探头维护装置用于测量仪表中测量探头的自动维护，保证测量准确度并防止仪器损坏。主要用于城市地下管网水质测量仪表的综合防护。
水位自适应保护装置包括浮块1、防搁浅装置2，水下旋转保洁装置包括旋转保护罩3、旋转控制系统4，测量探头维护装置包括液位传感器5、维护控制系统6和探头清洗装置7。其中探头清洗装置7和测量仪表8位于旋转保护罩3内，旋转保护罩位于防搁浅装置2内，浮块1位于防搁浅装置2上方，四者均连接于伸缩支架9下端，所有水下装置采用独立全密封防水结构；旋转控制系统4和维护控制系统6以软件形式存在于中央控制器10内，中央控制器10、液位传感器5和清洗水箱11固定于伸缩支架9上端。中央控制器10通过螺旋电缆12与旋转保护罩3、探头清洗装置7进行电力和信号连接，清洗水箱11通过软管13和探头清洗装置7连接。本发明采用一体化的安装方式，可灵活适应现场安装环境，在地面完成所有部件组装和布线，降低狭小空间施工难度。
浮块1和防搁浅装置2采用机械防护原理，在正常水位下使测量仪表8保持在水体中的适宜位置防止淤泥遮挡，在水位过低时防止测量仪表8陷入水体底部淤泥，所有水下装置采用独立全密封防水结构，可对测量仪表8进行防漫灌保护。旋转保护罩3在默认模式下随水流冲击被动式旋转，旋转控制系统4可根据人工输入发送控制命令指示旋转保护罩3进行主动式电力驱动旋转。维护控制系统6根据时间间隔设置，定期对探头清洗装置7发送控制命令，当液位传感器5感知测量仪表8浸泡在水中时，指示探头清洗装置7进行机械仿人工清洗，否则使用专用液进行仪表维护。
以上实施例仅为本发明其中的一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
1.一种水质测量仪表防护装置，其包括水位自适应保护装置、水下旋转保洁装置和测量探头维护装置，其特征在于：水位自适应保护装置、水下旋转保洁装置和测量探头维护装置组装于伸缩支架上，通过螺旋电缆进行电力和信号连接，可灵活适应现场安装环境，采用一体化的安装方式，降低狭小空间施工难度，且所有水下装置采用独立全密封防水结构，组装构成的水质测量仪表防护装置可实现在城市地下管网等复杂水体条件下对水质测量仪表的综合防护。
2.根据权利要求1所述的一种水质测量仪表防护装置，其特征在于：所述的水位自适应保护装置包括浮块、防搁浅装置和独立全密封防水结构，在正常水位下通过浮块保持测量仪表在水体中的适宜位置，防止淤泥遮挡；在水位过低时通过防搁浅装置防止测量仪表陷入水体底部淤泥；在水位过高时通过所有水下装置采用的独立全密封防水结构对测量仪表进行防漫灌保护。
3.根据权利要求1所述的一种水质测量仪表防护装置，其特征在于：所述的水下旋转保洁装置包括旋转保护罩、旋转控制系统，旋转保护罩用于隔离水体杂物，随水流方向绕安装杆双向360°旋转，在水流作用力和重力影响下减少杂物挂壁堆积，保证内部测量仪表的清洁；旋转控制系统用于控制旋转保护罩状态，使其采取被动式水流冲击旋转，或主动式电力驱动旋转。
4.根据权利要求1所述的一种水质测量仪表防护装置，其特征在于：所述的测量探头维护装置包括液位传感器、维护控制系统、探头清洗装置，液位传感器用于获取当前水位信息，为维护控制系统提供输入，维护控制系统根据当前水位信息或人工输入，对探头清洗装置发送相应操作命令，探头清洗装置用于根据操作命令对测量探头进行仿人工机械清洗或专用液保护性清洗。
技术总结