装饰玻璃及其制备方法和应用与流程

专利2022-06-29  79

本发明涉及玻璃上色领域,具体涉及一种装饰玻璃及其制备方法和应用。
背景技术
:传统的玻璃表面上色的工艺一般是在玻璃里加入着色剂,再通过高温烧制成不同的颜色,该工艺做出的颜色单一,外观质感也单一,其加工工艺的温度较高,环境较差,目前市场上用的比较成熟的玻璃表面上色工艺有丝印油墨,其可以丰富玻璃表面的外观装饰,其所用的技术原理是利用丝印网版图文部分网孔透油墨,非图文部分网孔不透墨的基本原理进行印刷。印刷时在丝印网版上倒入油墨,用刮胶在丝印网版上的油墨部位施加一定压力,同时另一端移动,油墨在移动中被刮板从图文部分的网孔中挤压到承印物上的印刷方式,但是其所用的油墨大部分为油性,含有较高的有机溶剂,其中含有的甲苯、二甲苯有机溶剂对人体伤害较大,工作环境较差,其高含量的有机溶剂对环境污染也较大,后期环保处理成本较高。同时丝印油墨工艺的操作方式为通过丝印网版与产品贴合后将网版上的油墨转移到产品上,这对于使用在曲面等复杂结构产品上容易出现油墨分布不均匀或做不上油墨。技术实现要素:本发明的目的在于提供一种新的装饰玻璃,该装饰玻璃环保、美观且电泳涂层附着力优良,并且该装饰玻璃的玻璃基体可以是结构复杂的玻璃。另外,本发明还提供一种玻璃上色的方法,该方法通过在玻璃基体上形成电泳涂层对玻璃表面进行装饰,其适用于结构复杂的玻璃上色,并且所述电泳涂层所用的涂料与水互溶,含水量较高,具备环保要求,并且使玻璃表面做出彩色外观效果,丰富其表面装饰。为了实现上述目的,本发明一方面提供一种装饰玻璃,该装饰玻璃包括:玻璃基体;含硅层,其形成在所述玻璃基体表面;导电层,其形成在所述含硅层之上;以及电泳涂层,其形成在所述导电层之上。优选地,所述装饰玻璃还包括金属氧化物层,所述金属氧化层位于所述含硅层和所述导电层之间。优选地,所述含硅层的厚度为20-3000nm。优选地,所述金属氧化物层的厚度为20-3000nm。优选地,所述导电层的厚度为20-3000nm。优选地,所述电泳涂层的厚度为5-25μm。优选地,所述玻璃基体的厚度为0.5-3mm。优选地,所述含硅层为物理沉积层。优选地,所述金属氧化物层为物理沉积层。优选地,所述导电层为物理沉积层。优选地,所述金属氧化物层为氧化铬层、氧化铝层和氧化锡层中的一种或多种。优选地,所述导电层为铬层、铝层和氧化铟锡层中的一种或多种。优选地,所述金属氧化物层为氧化铬层,所述导电层为铬层。优选地,所述金属氧化物层为氧化铝层,所述导电层为铝层。优选地,所述电泳涂层为使用阳极丙烯酸树脂漆和/或阴极环氧树脂漆形成的电泳涂层。优选地,所述电泳涂层还含有珠光粉。本发明还提供一种玻璃上色的方法,该方法包括以下步骤,1)在玻璃基体表面形成含硅层的步骤;2)任选地在所述含硅层表面形成金属氧化物层的步骤;3)在所述含硅层表面或所述金属氧化物层表面形成导电层的步骤;4)通过电泳在所述导电层上形成电泳涂层的步骤。优选地,通过真空镀在玻璃基体表面形成所述含硅层。优选地,通过真空镀在所述含硅层表面形成所述金属氧化物层。优选地,通过真空镀在所述含硅层表面或所述金属氧化物层表面形成所述导电层。优选地,所述含硅层的厚度为20-3000nm。优选地,所述金属氧化物层的厚度为20-3000nm。优选地,所述导电层的厚度为20-3000nm。优选地,所述电泳涂层的厚度为5-25μm。优选地,所述玻璃基体的厚度为0.5-3mm。优选地,所述金属氧化物层为氧化铬层、氧化铝层和氧化锡层中的一种或多种。优选地,所述导电层为铬层、铝层、氧化铟锡层中的一种或多种。优选地,所述金属氧化物层为氧化铬层,所述导电层为铬层。优选地,所述金属氧化物层为氧化铝层,所述导电层为铝层。优选地,通过将步骤3)得到的玻璃基体浸入电泳漆液中进行电泳而形成所述电泳涂层。优选地,所述电泳漆液含有电泳漆和电泳色浆。优选地,所述电泳漆液还含有珠光粉。优选地,所述电泳漆为阳极丙烯酸树脂漆和/或阴极环氧树脂漆。优选地,所述电泳的条件包括:电压为80-200v,电泳时间为60-120s,漆液温度为20-31℃,电泳漆液固体含量为8-15重量%,电极比为阳极/阴极=2/1-1/1,极间距为15-20cm。本发明还提供一种装饰玻璃,该装饰玻璃通过本发明的玻璃上色的方法制备而得到。本发明还提供本发明的装饰玻璃在室内装饰、建筑领域或电子设备领域中的应用。本发明还提供本发明的装饰玻璃在手机外壳中的应用。通过上述技术方案,本发明具有以下优点:1)本发明通过依次在玻璃基体表面形成含硅层、导电层,使得玻璃具有良好的导电性能,在所述导电层之上形成电泳涂层,可以在玻璃上做出多种颜色的装饰效果,从而达到丰富玻璃装饰效果的目的。2)通过在玻璃基体表面先形成含硅层,再在该含硅层之上形成导电层,可使最终在玻璃表面上形成的电泳涂层与玻璃基体的结合力较好,并且即使是结构复杂的玻璃基体,其边角位置上色也均匀。具体实施方式在本文中所披露的范围的端点和任何值都不限于该精确的范围或值,这些范围或值应当理解为包含接近这些范围或值的值。对于数值范围来说,各个范围的端点值之间、各个范围的端点值和单独的点值之间,以及单独的点值之间可以彼此组合而得到一个或多个新的数值范围,这些数值范围应被视为在本文中具体公开。本发明提供的该装饰玻璃包括:玻璃基体;含硅层,其形成在所述玻璃基体表面;导电层,其形成在所述含硅层之上;以及电泳涂层,其形成在所述导电层之上。根据本发明的装饰玻璃,所述含硅层的厚度可以在较大范围内变动,为了进一步提高含硅层与玻璃基体之间的结合力,优选地,所述含硅层的厚度为20-3000nm,更优选为30-2000nm,进一步优选为40-1000nm,更进一步优选为50-500nm,更进一步优选为60-200nm,更进一步优选为70-150nm,更进一步优选为80-120nm。根据本发明装饰玻璃,优选地,所述装饰玻璃还包括金属氧化物层,所述金属氧化层位于所述含硅层和所述导电层之间。所述金属氧化物层的厚度可以在较大范围内变动,为了进一步提高金属氧化物层与导电层之间的结合力,优选地,所述金属氧化物层的厚度为20-3000nm,更优选为30-2000nm,进一步优选为40-1000nm,更进一步优选为50-500nm,更进一步优选为60-200nm,更进一步优选为70-150nm,更进一步优选为80-120nm。根据本发明装饰玻璃,所述导电层的厚度可以在较大范围内变动,为了进一步提高导电层与电泳涂层之间的结合力,优选地,所述导电层的厚度为20-3000nm,更优选为50-2900nm,进一步优选为100-2800nm,更进一步优选为500-2700nm,更进一步优选为600-2600nm,更进一步优选为800-2500nm。根据本发明装饰玻璃,所述电泳涂层的厚度可以根据装饰玻璃的具体用途来设定,例如在将所述装饰玻璃用于手机产品时,所述电泳涂层的厚度可以为5-25μm,优选为7-20μm。通过使电泳涂层厚度在上述范围内,能够得到外观光泽较高且与金属结合力良好的电泳涂层。根据本发明装饰玻璃,所述玻璃基体的厚度可以根据装饰玻璃的具体用途来设定,例如在将所述装饰玻璃用于手机产品时,所述玻璃基体的厚度可以为0.1-8mm,优选为0.5-3mm。根据本发明装饰玻璃,为了进一步提高含硅层与玻璃基体之间的结合力,优选地,所述含硅层为物理沉积层。所述物理沉积层优选为通过真空镀形成物理沉积层。根据本发明装饰玻璃,为了进一步提高金属氧化物层与导电层之间的结合力,优选地,所述金属氧化物层为物理沉积层。所述金属氧化物层也优选为通过真空镀形成物理沉积层。根据本发明装饰玻璃,为了进一步提高导电层与电泳涂层之间的结合力,优选地,所述导电层为物理沉积层。所述导电层也优选为通过真空镀形成物理沉积层。根据本发明的装饰玻璃,优选地,所述金属氧化物层为氧化铬层、氧化铝层和氧化锡层中的一种或多种;更优选地,所述金属氧化物层为氧化铬层和/或氧化铝层。所述金属氧化物层为两层以上时为层叠的结构。根据本发明的装饰玻璃,优选地,所述导电层为铬层、铝层和氧化铟锡层中的一种或多种。所述导电层为两层以上时为层叠的结构。在本发明的一个优选的实施方式中,所述金属氧化物层为氧化铬层,所述导电层为铬层。通过使所述金属氧化物层为氧化铬层,所述导电层为铬层,能够使装饰玻璃具有导电性,且使玻璃基体表面上的电泳涂层与玻璃基体结合力较好。在本发明的另一个优选的实施方式中,所述金属氧化物层为氧化铝层,所述导电层为铝层。通过使所述金属氧化物层为氧化铝层,所述导电层为铝层,能够使装饰玻璃具有导电性,且使玻璃基体表面上的电泳涂层与玻璃基体结合力较好。根据本发明装饰玻璃,通过在玻璃基体上形成电泳质感的电泳涂层,能够丰富玻璃表面装饰。优选地,所述电泳涂层为使用阳极丙烯酸树脂漆和/或阴极环氧树脂漆形成的电泳涂层。根据本发明装饰玻璃,为了进一步提高装饰效果,可以在用于电泳的电泳漆液中加入电泳色浆,从而对得到的电泳涂层进行调色。根据本发明装饰玻璃,为了进一步提高外观光泽,优选地,所述电泳涂层还含有珠光粉。本发明的电泳涂层具体的形成方法如后述。本发明还提供一种玻璃上色的方法,该方法包括以下步骤,1)在玻璃基体表面形成含硅层的步骤;2)任选地在所述含硅层表面形成金属氧化物层的步骤;3)在所述含硅层表面或所述金属氧化物层表面形成导电层的步骤;4)通过电泳在所述导电层上形成电泳涂层的步骤。根据本发明的方法,优选地,通过真空镀在玻璃基体表面形成所述含硅层。所述含硅层的厚度可以在较大范围内变动,为了进一步提高含硅层与玻璃基体之间的结合力,优选地,所述含硅层的厚度为20-3000nm,更优选为30-2000nm,进一步优选为40-1000nm,更进一步优选为50-500nm,更进一步优选为60-200nm,更进一步优选为70-150nm,更进一步优选为80-120nm。根据本发明的方法,优选地,通过真空镀在所述含硅层表面形成所述金属氧化物层。所述金属氧化物层的厚度可以在较大范围内变动,为了进一步提高金属氧化物层与导电层之间的结合力,优选地,所述金属氧化物层的厚度为20-3000nm,更优选为30-2000nm,进一步优选为40-1000nm,更进一步优选为50-500nm,更进一步优选为60-200nm,更进一步优选为70-150nm,更进一步优选为80-120nm。根据本发明的方法,优选地,通过真空镀在所述含硅层表面或所述金属氧化物层表面形成所述导电层。所述导电层的厚度可以在较大范围内变动,为了进一步提高导电层与电泳涂层之间的结合力,优选地,所述导电层的厚度为20-3000nm,更优选为50-2900nm,进一步优选为100-2800nm,更进一步优选为500-2700nm,更进一步优选为600-2600nm,更进一步优选为800-2500nm。根据本发明的方法,所述电泳涂层的厚度可以根据装饰玻璃的具体用途来设定,例如在将所述装饰玻璃用于手机产品时,所述电泳涂层的厚度可以为5-25μm,优选为7-20μm。通过使电泳涂层厚度在上述范围内,能够得到外观光泽较高且与金属结合力良好的电泳涂层。根据本发明的方法,所述玻璃基体的厚度可以根据其用途来选定,例如在将所述装饰玻璃用于手机产品时,所述玻璃基体的厚度可以为0.1-8mm,优选为0.5-3mm。根据本发明的方法,优选地,所述金属氧化物层为氧化铬层、氧化铝层和氧化锡层中的一种或多种;更优选地,所述金属氧化物层为氧化铬层和/或氧化铝层。所述金属氧化物层为两层以上时为层叠的结构。根据本发明的方法,优选地,所述导电层为铬层、铝层和氧化铟锡层中的一种或多种。所述导电层为两层以上时为层叠的结构。在本发明的一个优选的实施方式中,所述金属氧化物层为氧化铬层,所述导电层为铬层。通过使所述金属氧化物层为氧化铬层,所述导电层为铬层,能够使装饰玻璃具有导电性,且使玻璃基体表面电泳涂层与玻璃基体结合力较好。在本发明的另一个优选的实施方式中,所述金属氧化物层为氧化铝层,所述导电层为铝层。通过使所述金属氧化物层为氧化铝层,所述导电层为铝层,能够使装饰玻璃具有导电性,且使玻璃基体表面电泳涂层与玻璃基体结合力较好。根据本发明的方法,在步骤1)~步骤3)中,真空镀的方法和条件没有特别的限定,只要得到所需厚度的真空镀膜即可,其可以使用本领域通常用于真空镀的设备、条件和方法进行,在此不再累述。根据本发明的方法,优选地,该方法还包括在玻璃基体表面形成含硅层之前,将玻璃基体进行洗净的步骤。所述洗净可以采用本领域通常用于洗净玻璃的方法进行,例如可以采用玻璃清洗剂并进行超声波清洗的方法。根据本发明的方法,通过将具有导电性的玻璃基体浸入混合有电泳色浆的电泳漆液中,然后在通电的条件下在玻璃上泳涂上电泳漆液。也就是说,在本发明中,通过将步骤3)得到的玻璃基体浸入电泳漆液中进行电泳而形成所述电泳涂层。优选地,所述电泳漆液含有电泳漆和电泳色浆。根据本发明的方法,从得到外观光泽更高且与金属结合力更好的电泳涂层的方面来考虑,优选地,所述电泳漆为阳极丙烯酸树脂漆和/或阴极环氧树脂漆。作为这样的电泳漆例如可以使用购于清水公司的am-1型号涂料(阳极丙烯酸电泳亮漆)。另外,使用电泳漆时,优选用水将其进行稀释后使用,水的用量使得稀释后的电泳漆的固体含量为6-17重量%,更优选为8-15重量%。根据本发明的方法,为了得到丰富的装饰效果,所述电泳漆液含有电泳色浆。所述电泳色浆可以使用市售产品,例如可以使用清水elecoatyellow。另外,相对于1l的稀释后的电泳漆,所述电泳色浆的用量为0.01-100g,优选为70-90g。根据本发明的方法,为了进一步提高外观光泽,优选地,所述电泳漆液还含有珠光粉。另外,相对于1l的稀释后的电泳漆,所述珠光粉的用量为0.5-10g,优选为1-3g。此外,上述珠光粉的粒径优选为10-20μm。在本发明的一个优选的实施方式中,所述电泳漆液按照以下方式进行制备:(1)将电泳漆和水配制成固体含量为10-11重量%的涂料,将电泳色浆以80-85g/l的量加入涂料中;(2)持续搅拌0.5-1小时进行乳化反应;(3)将经过步骤(2)得到的漆液与离子交换树脂进行交换,交换过滤到漆液电导率不变为止。在本发明的一个优选的实施方式中,所述电泳漆液按照以下方式进行制备:(1)将电泳漆和水配制成固体含量为10-11重量%的涂料,将电泳色浆以80-85g/l的量加入涂料中;(2)持续搅拌0.5-1小时进行乳化反应;(3)将经过步骤(2)得到的漆液与离子交换树脂进行交换,交换过滤到漆液电导率不变为止;(4)在搅拌交换后的漆液的条件下添加珠光粉,加入量为1-2g/l,并持续搅拌05-1小时;(5)将(4)步骤配制的溶液20-30℃老化12-24小时。根据本发明的方法,优选地,所述电泳的条件包括:电压为80-200v,电泳时间为60-120s,漆液温度为20-31℃,电泳漆液固体含量为8-15重量%,电极比为阳极/阴极=2/1-1/1,极间距为15-20cm;更优选地,所述电泳的条件包括:电压为100v-180v,电泳时间为80s-100s,漆液温度为28℃-30℃,电泳漆液固体含量为10-13重量%,电极比为阳极/阴极=2/1-1/1,极间距为15-20cm。根据本发明的方法,优选地,该方法还包括在电泳后使电泳湿膜固化的步骤。所述固化的条件没有特别的限定,例如可以在100℃-180℃下固化30分钟。本发明还提供一种装饰玻璃,该装饰玻璃通过本发明的玻璃上色的方法制备而得到。本发明还提供本发明的装饰玻璃在室内装饰、建筑领域或电子设备领域中的应用。本发明还提供本发明的装饰玻璃在手机外壳中的应用。以下将通过实施例对本发明进行详细描述,但本发明并不仅限于下述实施例。以下的实施例中,玻璃基体(厚度为1mm)在实施真空镀之前,采用玻璃清洗剂进行超声波清洗的方法进行洗净,洗净后产品于80℃的烤箱中烘干20分钟。另外,真空镀在购于联合真空2050型高真空镀膜设备中进行。实施例11)通过真空镀在玻璃基体表面形成二氧化硅层将玻璃基体放进真空镀膜关门抽真空,其镀膜真空度为不高于0.008帕,镀膜温度为27℃,当真空度达到时再往炉体通氩气轰击硅靶并通氧气与硅靶上激活的原子反应,最后在玻璃基体表面形成二氧化硅层,形成的二氧化硅层的厚度为100nm。2)通过真空镀在所述二氧化硅层表面形成氧化铬层镀膜真空度为不高于0.008帕,镀膜温度为27℃,当真空度达到时再往炉体通氩气和氧气并与铬靶反应,最后在玻璃基体表面形成金属氧化铬层,形成的氧化铬层的厚度为100nm。3)通过真空镀在所述氧化铬层表面形成铬层镀膜真空度为不高于0.008帕,镀膜温度为27℃,当真空度达到时再往炉体通氩气轰击铬靶,把靶材上的铬原子溅射在玻璃基体表面形成金属铬层,形成的铬层的厚度为800nm。4)通过电泳在所述铬层上形成电泳涂层在电压为180v、电泳时间为120s、漆液温度为28℃、电泳漆液固体含量为10重量%、电极比为阳极/阴极=2/1-1/1、极间距为15-20cm的条件下进行电泳;并在电泳后将电泳湿膜在160℃固化30分钟,形成电泳涂层,得到装饰玻璃a1,其电泳涂层的厚度为7μm。另外,电泳漆液按照如下步骤制备得到。(1)将市售阳极丙烯酸亮光漆(清水am-1型号涂料,固含量为50重量%)和水以稀释比为1:4配制成固体含量为10重量%的涂料,并将市售电泳色浆(清水elecoatyellow)以80g/l的量加入到配置的固体含量为10重量%的涂料中;(2)持续搅拌1小时进行乳化反应;(3)将经过步骤(2)得到的漆液与市售阴离子交换树脂(清水elecoatresinam-cation阴离子交换树脂)混合搅拌后进行阴离子交换树脂交换,交换过滤到漆液电导率不变为止,其中,树脂与漆液重量用量比为1:4.6。实施例21)通过真空镀在玻璃基体表面形成二氧化硅层将玻璃基体放进真空镀膜关门抽真空,其镀膜真空度为不高于0.008帕,镀膜温度为27℃,当真空度达到时再往炉体通氩气轰击硅靶并通氧气与硅靶上激活的原子反应,最后在玻璃基体表面形成二氧化硅层,形成的二氧化硅层的厚度为,形成的二氧化硅层的厚度为100nm。2)通过真空镀在所述二氧化硅层表面形成氧化铬层镀膜真空度为不高于0.008帕,镀膜温度为27℃,当真空度达到时再往炉体通氩气和氧气并与铬靶反应,最后在玻璃基体表面形成金属氧化铬层,形成的氧化铬层的厚度为100nm。3)通过真空镀在所述氧化铬层表面形成铬层镀膜真空度为不高于0.008帕,镀膜温度为27℃,当真空度达到时再往炉体通氩气轰击铬靶,把靶材上的铬原子溅射在玻璃基体表面形成金属铬层,形成的铬层的厚度为1000nm。4)通过电泳在所述铬层上形成电泳涂层在电压为180v、电泳时间为120s、漆液温度为28℃、电泳漆液固体含量为10重量%、电极比为阳极/阴极=2/1-1/1、极间距为15-20cm的条件下进行电泳;并在电泳后将电泳湿膜在160℃固化30分钟,形成电泳涂层,得到装饰玻璃a2,其电泳涂层的厚度为11μm。另外,电泳漆液按照如下步骤制备得到。(1)将市售的阳极丙烯酸电泳亮漆(清水公司的am-1型号涂料,固含量为50重量%)和水以稀释比为1:4配制成固体含量为10重量%的涂料,并将市售电泳色浆(清水elecoatyellow)以80g/l的量加入到配置的固体含量为10重量%的涂料中;(2)持续搅拌1小时进行乳化反应;(3)将经过步骤(2)得到的漆液与市售阴离子交换树脂(清水elecoatresinam-cation阴离子交换树脂)混合后搅拌后进行阴离子交换树脂交换,交换过滤到漆液电导率不变为止,其中,树脂与漆液重量用量比为1:4.6;(4)在搅拌交换后的漆液的条件下添加粒径大小为15μm的珠光粉,加入量为2g/l,并持续搅拌0.5小时;(5)将(4)步骤配制的溶液25℃老化24小时。实施例31)通过真空镀在玻璃基体表面形成二氧化硅层将玻璃基体放进真空镀膜关门抽真空,其镀膜真空度为不高于0.008帕,镀膜温度为27℃,当真空度达到时再往炉体通氩气轰击硅靶并通氧气与硅靶上激活的原子反应,最后在玻璃基体表面形成二氧化硅层,形成的二氧化硅层的厚度为,形成的二氧化硅层的厚度为100nm。2)通过真空镀在所述二氧化硅层表面形成氧化铬层镀膜真空度为不高于0.008帕,镀膜温度为27℃,当真空度达到时再往炉体通氩气和氧气并与铬靶反应,最后在玻璃基体表面形成金属氧化铬层,形成的氧化铬层的厚度为100nm。3)通过真空镀在所述金属氧化物层表面形成铬层镀膜真空度为不高于0.008帕,镀膜温度为27℃,当真空度达到时再往炉体通氩气轰击铬靶,把靶材上的铬原子溅射在玻璃基体表面形成金属铬层,形成的铬层的厚度为2000nm。4)通过电泳在所述铬层上形成电泳涂层在电压为180v、电泳时间为120s、漆液温度为28℃、电泳漆液固体含量为10重量%、电极比为阳极/阴极=2/1-1/1、极间距为15-20cm的条件下进行电泳;并在电泳后将电泳湿膜在160℃固化30分钟,形成电泳涂层,得到装饰玻璃a3,其电泳涂层的厚度为13μm。另外,电泳漆液按照实施例1的制备方法制备得到。实施例4按照实施例3的方法进行,不同的是步骤2)和步骤3)如下:2)通过真空镀在所述二氧化硅层表面形成氧化铝层膜真空度为不高于0.008帕,镀膜温度为27℃,当真空度达到时再往炉体通氩气轰击铝靶并通氧气与铝靶上激活的原子反应,最后在玻璃基体表面形成金属氧化铝层,形成的氧化铝层的厚度为100nm。3)通过真空镀在所述金属氧化物层表面形成铝层镀膜真空度为不高于0.008帕,镀膜温度为27℃,当真空度达到时再往炉体通氩气轰击铝靶,把靶材上的铝原子溅射在玻璃基体表面形成金属铝层,形成的铝层的厚度为2500nm。相应地得到装饰玻璃a4,其电泳涂层的厚度为20μm。实施例5按照实施例3的方法进行,不同的是步骤1)形成的二氧化硅层的厚度为150nm,步骤2)中形成的氧化铬层的厚度为150nm相应地得到装饰玻璃a5,其电泳涂层的厚度为13μm。实施例6按照实施例3的方法进行,不同的是,未进行步骤2),直接在二氧化硅层表面通过真空镀形成铬层,相应地得到装饰玻璃a6,其电泳涂层的厚度为13μm。对比例1按照实施例3的方法进行,不同的是,未进行步骤1)和步骤2),直接在玻璃基体表面形成铬层,相应地得到装饰玻璃d1,其电泳涂层的厚度为20μm。对比例2按照实施例3的方法进行,不同的是,未进行步骤1),相应地得到装饰玻璃d2,其电泳涂层的厚度为20μm。对比例31)在膜片的一面上印刷一层需要显色的油墨,厚度10um,丝印完油墨后在70℃表干5分钟;2)在步骤1)基础上丝印第二层显色油墨,厚度10um,丝印完油墨后在70℃表干5分钟;3)在步骤2)基础上丝印第三层盖底黑色油墨,厚度10um,丝印完油墨后在70℃表干5分钟;4)将步骤3)得到的膜片在80℃下固化油墨1小时;5)在步骤4)得到的膜片的没有丝印油墨的另一面用光学透明双面胶粘将其贴在曲面玻璃内衬,并透过玻璃达到显色效果。测试例将上述实施例和对比例得到的装饰玻璃进行如下的测试。1)光泽度测试表面光泽度表示物体表面对于光的漫反射的强弱,即接近镜面的程度。采用购威福光电公司wg60a型号的60°光泽仪进行表面光泽度的测定,其结果如表1所示。2)百格测试采用百格法测试电泳涂层与玻璃的结合力,将测试样品平整放置,测试设备选用刮刀和3m600型胶带,先用刮刀在涂层表面划1*1百格,然后用胶带粘上划百格区域再撕开,根据掉漆的面积大小进行评估,掉漆面积不超过百格区域的5%为优,掉漆面积大于百格区域的5%且不超过百格区域的10%为良,掉漆面积大于百格区域的10%为差,其结果如表1所示。表1表面光泽度结合力a1160优a2190优a3140优a4120良a5140优a6140良d1120差d2120差d3显色油墨在玻璃内衬,测试不到优以上详细描述了本发明的优选实施方式,但是,本发明并不限于此。在本发明的技术构思范围内,可以对本发明的技术方案进行多种简单变型,包括各个技术特征以任何其它的合适方式进行组合,这些简单变型和组合同样应当视为本发明所公开的内容,均属于本发明的保护范围。当前第1页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技术特征:

1.一种装饰玻璃,其特征在于,该装饰玻璃包括:

玻璃基体;

含硅层,其形成在所述玻璃基体表面;

导电层,其形成在所述含硅层之上;以及

电泳涂层,其形成在所述导电层之上。

2.根据权利要求1所述的装饰玻璃,其中,所述装饰玻璃还包括金属氧化物层,所述金属氧化层位于所述含硅层和所述导电层之间;

优选地,所述含硅层为二氧化硅层、氮化硅层和碳化硅层中的一种或多种;

优选地,所述含硅层的厚度为20-3000nm;

优选地,所述金属氧化物层的厚度为20-3000nm;

优选地,所述导电层的厚度为20-3000nm;

优选地,所述电泳涂层的厚度为5-25μm;

优选地,所述玻璃基体的厚度为0.5-3mm。

3.根据权利要求2所述的装饰玻璃,其中,所述含硅层为物理沉积层;

优选地,所述金属氧化物层为物理沉积层;

优选地,所述导电层为物理沉积层。

4.根据权利要求2或3所述的装饰玻璃,其中,所述金属氧化物层为氧化铬层、氧化铝层和氧化锡层中的一种或多种;

优选地,所述导电层为铬层、铝层和氧化铟锡层中的一种或多种;

优选地,所述金属氧化物层为氧化铬层,所述导电层为铬层;

优选地,所述金属氧化物层为氧化铝层,所述导电层为铝层;

优选地,所述电泳涂层为使用阳极丙烯酸树脂漆和/或阴极环氧树脂漆形成的电泳涂层;

优选地,所述电泳涂层还含有珠光粉。

5.一种玻璃上色的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤,

1)在玻璃基体表面形成含硅层的步骤;

2)任选地在所述含硅层表面形成金属氧化物层的步骤;

3)在所述含硅层表面或所述金属氧化物层表面形成导电层的步骤;

4)通过电泳在所述导电层上形成电泳涂层的步骤。

6.根据权利要求5所述的方法,其中,通过真空镀在玻璃基体表面形成所述含硅层;

优选地,通过真空镀在所述含硅层表面形成所述金属氧化物层;

优选地,通过真空镀在所述含硅层表面或所述金属氧化物层表面形成所述导电层;

优选地,所述含硅层为二氧化硅层、氮化硅层和碳化硅层中的一种或多种;

优选地,所述含硅层的厚度为20-3000nm;

优选地,所述金属氧化物层的厚度为20-3000nm;

优选地,所述导电层的厚度为20-3000nm;

优选地,所述电泳涂层的厚度为5-25μm;

优选地,所述玻璃基体的厚度为0.5-3mm。

7.根据权利要求5所述的方法,其中,所述金属氧化物层为氧化铬层、氧化铝层和氧化锡层中的一种或多种;

优选地,所述导电层为铬层、铝层和氧化铟锡层中的一种或多种;

优选地,所述金属氧化物层为氧化铬层,所述导电层为铬层;

优选地,所述金属氧化物层为氧化铝层,所述导电层为铝层。

8.根据权利要求5所述的方法,其中,通过将步骤3)得到的玻璃基体浸入电泳漆液中进行电泳而形成所述电泳涂层;

优选地,所述电泳漆液还含有珠光粉;

优选地,所述电泳漆液含有电泳漆和电泳色浆;

优选地,所述电泳漆为阳极丙烯酸树脂漆和/或阴极环氧树脂漆;

优选地,所述电泳的条件包括:电压为80-200v,电泳时间为60-120s,漆液温度为20-31℃,电泳漆液固体含量为8-15重量%,电极比为阳极/阴极=2/1-1/1,极间距为15-20cm。

9.一种装饰玻璃,其特征在于,该装饰玻璃通过权利要求5-8中任意一项所述的方法制备而得到。

10.权利要求1-4和权利要求9中任意一项所述的装饰玻璃在室内装饰、建筑领域或电子设备领域中的应用。

11.权利要求1-4和权利要求9中任意一项所述的装饰玻璃在手机外壳中的应用。

技术总结
本发明涉及玻璃上色领域,公开了一种装饰玻璃及其制备方法和应用。该装饰玻璃包括:玻璃基体;含硅层,其形成在所述玻璃基体表面;导电层,其形成在所述含硅层之上;以及电泳涂层,其形成在所述导电层之上。本发明的装饰玻璃环保、美观且电泳涂层附着力优良,并且该装饰玻璃的玻璃基体可以是结构复杂的玻璃。

技术研发人员:覃惠珍;王钰;罗富华;陈梁
受保护的技术使用者:比亚迪股份有限公司
技术研发日:2018.11.29
技术公布日:2020.06.05

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