本文的教导总体涉及施用治疗剂量的辐射，并且更具体地说涉及多叶准直器的使用。
背景技术：
多叶准直器由多个由高原子序数材料(诸如钨)形成的单独部件(被称为“叶片”)构成，所述单独部件可独立地移入和移出辐射疗法射束的路径，以便选择性地阻挡射束(并因此使所述射束成形)。通常，多叶准直器的叶片成对地编组，所述叶片相对于彼此共线地对准并且可经由受控马达选择性地朝向和远离彼此移动。典型的多叶准直器具有许多这样的叶片对，往往多于二十、五十或甚至一百对这样的叶片对。多层多叶准直器指代有两个或更多个叶片层沿着辐射的射束路径大体上垂直地定位的多叶准直器。
通过使治疗辐射束穿过多叶准直器的孔隙，辐射束可被调制为更匹配治疗环节的剂量投放需求。这些剂量投放需求通常包括(或至少假定)规定照射哪些身体组织以及避免照射哪些身体组织。
递送用于辐射治疗的调制场的常见方法包括在射束启用并且治疗递送系统的其他轴处于运动中时移动多叶准直器叶片。所述系统的各种部件的可实现的速度约束了能够由所述系统施用的治疗计划。在常规的多层多叶准直器设计中，叶片层通常彼此靠近地设置以减少阻碍并且通常具有一致的运动能力。因此，在治疗计划和治疗施用中，准直器叶片层的运动基本上不会偏离彼此。
虽然典型的多层多叶准直器呈现了许多益处，但是常规的准直器叶片层的一致的运动能力是对多层多叶准直器的优化和利用的重大约束并且限制了系统的治疗施用效率。
附图说明
通过提供尤其是在结合附图进行研究时在以下具体实施方式中描述的用于使用多层多叶准直系统的方法和设备至少部分地满足了以上需求，在附图中：
图1包括如根据这些教导的各种实施方案配置的流程图；
图2包括如根据这些教导的各种实施方案配置的框图；
图3包括如根据这些教导的各种实施方案配置的准直器系统的图示；
图4包括根据这些教导的各种实施方案的强度剖面的图示；
图5包括根据这些教导的各种实施方案的准直器系统的图示；并且
图6a和图6b包括根据这些教导的各种实施方案的投影的图示。
为了简单明了起见，示出了附图中的元件，并且所述元件不一定按比例绘制。例如，附图中的元件中的一些的尺寸和/或相对定位相对于其他元件可被放大来帮助提高对本教导的各种实施方案的理解。另外，通常不示出在商业上可行的实施方案中有用或必要的常见而充分了解的元件，以便于较少地模糊本教导的这些不同实施方案的视图。某些动作和/或步骤可以特定发生次序描述或示出，而本领域技术人员将理解，实际上并不需要相对于顺序的这种特殊性。本文使用的术语和表达具有像如上所述的技术领域的技术人员赋予这类术语和表达一样的普通技术含义，本文中另外阐述不同的特定含义的情况除外。
具体实施方式
一般而言，根据这些不同的实施方案，一种用于辐射疗法中的辐射调制的设备包括第一多叶准直器层，所述第一多叶准直器层被配置成主要执行第一功能以影响从辐射源行进到靶标的辐射束。所述设备还包括第二多叶准直器层，所述第二多叶准直器层被配置成主要执行不同于第一功能的第二功能以影响辐射束。所得的辐射束之后可用于根据治疗计划向患者施用辐射。(如本文所使用，这种对“被配置”成主要执行特定功能的提及指代不仅仅使用给定层来实现特定功能。相反，这种提及将被理解为表示所述层本身物理上被特别地构造成实现对应功能。)
按一种方法，在用于辐射调制的设备中，由第一多叶准直器层执行的第一功能是使辐射束成形。例如，辐射束可通过以下方式来成形：根据治疗计划的靶区的轮廓形成第一孔隙以挡住在靶区之外的辐射。因此，根据这种方法，第一功能是掩盖将受到保护而免于辐射影响的区(诸如在作为治疗的靶标的肿瘤附近的器官)。按一种方法，在用于辐射调制的设备中，由第二多叶准直器层执行的第二功能是调制辐射束(例如，预期治疗体积内)的注量分布。例如，注量分布可通过以下方式来调制：调制第二孔隙以根据治疗计划改变靶区内不同区域中的辐射强度。
按一种方法，在用于辐射调制的设备中，第一多叶准直器层在以下中的一者或多者方面明显不同于第二多叶准直器层：叶片透射、半影宽度、最大叶片速度和中值叶片宽度。例如，第一多叶准直器层可具有宽度在2mm与2cm之间的叶片，并且第二多叶准直器层可具有宽度在5mm与5cm之间的叶片。
代替前述内容或与之组合，一种用于调强辐射治疗中的辐射调制的设备包括：第一多叶准直器层，所述第一多叶准直器层具有第一组叶片，所述第一组叶片被配置成影响从辐射源行进到靶标的辐射束；以及第二多叶准直器层，所述第二多叶准直器层具有第二组叶片，所述第二组叶片被配置成连同第一多叶准直器层一起影响辐射束。按一种方法，第二组叶片的中值宽度明显大于第一组叶片的中值宽度。第一多叶准直器层和第二多叶准直器层可被配置成主要执行不同的功能。
代替前述内容或与之组合，一种用于辐射疗法中的辐射调制的方法包括以下步骤：控制作为离散的多叶准直器的整体部分的第一多叶准直器层以主要执行第一功能以影响从辐射源行进到靶标的辐射束；以及控制也作为离散的多叶准直器的整体部分的第二多叶准直器层以主要执行不同于第一功能的第二功能以影响辐射束。
如此配置，在这些方法中的一种或多种中，多层多叶准直器的不同层的运动针对不同功能进行优化以共同施用治疗计划。每个层中的叶片可根据所述层的对于层特定功能而言特定的最大速度约束来优化。例如，具有较低最大速度的层可主要用于共形孔隙，而较快速的层可用于产生快速调制。按一些方法，多层多叶准直器可用于通过以下方式进行适应性治疗递送：使用第一层来将某个区域的射束强度剖面调制为略微大于预期靶投影并且使用第二层来在治疗时将孔隙限制为靶投影。这些方法通过提高多层多叶准直器的优化和操作效率大体上改进了常规过程。
在对以下详细描述进行全面审阅和研究之后，这些和其他益处可变得更清楚。现参考附图且尤其参考图1，以下呈现了与这些教导中的许多教导相容的说明性过程100。为了进行说明性举例，本文假定由所选择的控制电路执行这个过程100的步骤、动作和/或功能。图2呈现了这一方面的说明性实例。
如图2所示，辐射疗法治疗平台200可包括或另外可操作地联接到控制电路201。作为“电路”，控制电路201因此包括结构，所述结构包括以有序方式输送电力的至少一个(且通常为多个)导电路径(诸如由诸如铜或银的导电金属构成的路径)，所述路径通常还将包括对应的电气部件(无源部件(诸如电阻器和电容器)和有源部件(诸如各种基于半导体的器件中的任一个)两者，视情况而定)以准许电路实施这些教导的控制方面。
这种控制电路201可包括固定用途的硬连线硬件平台(包括但不限于专用集成电路(asic)(其为针对特定用途有意地定制，而不是意图用于通用用途的集成电路)、现场可编程门阵列(fpga)等等)，或可包括部分或完全可编程的硬件平台(包括但不限于微控制器、微处理器等等)。用于这类结构的这些架构选项在本领域中是公知和了解的，并且此处不需要进一步描述。这个控制电路201(例如，通过使用如本领域技术人员将充分了解的对应编程)被配置成执行本文描述的步骤、动作和/或功能中的一个或多个。还将理解，如由图2的控制电路虚线框所建议，“控制电路”可包括多个这类部件或平台。
按一种任选的方法，控制电路201可操作地联接到存储器202。这个存储器202可与控制电路201成整体，或可根据需要与控制电路201物理地(完全或部分)分离。这个存储器202相对于控制电路201也可以是本地的(其中例如，两者共享同一个电路板、底板、电源和/或壳体)，或相对于控制电路201可以是部分或完全远程的(其中例如，与控制电路201相比较，存储器202在物理上位于另一个设备、都会区或甚至国家)。
除了辐射治疗计划之外，这个存储器202还可例如用于非暂时地存储计算机指令，所述计算机指令在由控制电路201执行时致使控制电路201如本文所述般表现。(如本文所使用，这种对“非暂时地”的提及将被理解为指代所存储内容的非短暂状态(并且因此，当所存储的内容仅构成信号或波时排除在外)，而不是存储介质本身的易失性，并且因此包括非易失性存储器(诸如只读存储器(rom))以及易失性存储器(诸如可擦除可编程只读存储器(eprom))两者)。
辐射疗法治疗平台200还包括辐射源203，所述辐射源203可操作地联接到控制电路201并且对所述控制电路进行响应。如此配置，可由控制电路201选择性地开关如由辐射源203所发射的对应的辐射束204。这些教导还将适应由控制电路201控制辐射束204的相对强度。辐射源在本领域中是充分了解的并且此处不需要进一步描述。
辐射束204被引向多层多叶准直系统205，所述多层多叶准直系统205还可操作地联接到控制电路201，由此准许控制电路201控制准直系统叶片的运动，以及因此一个或多个射束成形和辐射调制孔隙的形成和分布。所得的调制后的辐射束206之后到达对应患者207体内的治疗靶标。
图3呈现了根据一些实施方案的多层多叶准直系统205的多层多叶准直器300的代表性视图。多层多叶准直器300的近侧层302和远侧层303通常以一者叠在另一者上的方式并置，其中在所述层之间存在一定量的介入空间。在一些实施方案中，层之间的介入空间的范围可为0.5cm至数厘米。在一些实施方案中，层之间的介入空间为约1cm。近侧层302朝向辐射源301定向(并且因此相对“接近”于辐射源301)，并且远侧层303与辐射源301(相对于近侧层302)相对地定向并朝向诸如患者的靶标304定向。一般而言，这个近侧层302包括多个选择性可移动的准直叶片对，所述准直叶片对各自包括第一叶片和第二叶片。如此配置，当一对准直叶片中的一个或两个准直叶片选择性地远离彼此移动时，在其之间会形成射束成形孔隙。(电动马达可被采用来实现这种运动所依据的方式构成了充分了解的现有技术努力领域。因此，为了简洁起见，此处不提供这些方面的额外细节。)
类似于近侧层302，远侧层303通常也包括准直叶片对。然而，近侧层302和远侧层303在以下中的一者或多者方面存在明显差异：叶片透射、半影宽度、最大叶片速度和中值叶片宽度。例如，远侧层303可包括宽度在2mm与2cm之间的叶片，并且近侧层302可包括宽度在5mm与5cm之间的叶片。在一些实施方案中，远侧层303的中值叶片宽度可比近侧层302的中值叶片宽度大1.5至2.5倍。在一些实施方案中，近侧层302的中值叶片宽度可比远侧层303的中值叶片宽度大1.5至2.5倍。由于多叶准直器层之间的尺寸的差异，所述层在放射量测定性能和运动能力(例如，最大速度)方面也有所不同。
如此配置，远侧层303可至少主要用于产生符合靶体积的形状的共形孔隙，其主要目的是完全阻挡某些区中的辐射。(如本文所使用，为了提及多叶准直器层的功能和用途，诸如“基本上”和“主要”之类的术语应被理解为表示相应层的超过50％的对应功能/用途。在一些应用背景中，可能适当的是，会要求或指定更大的百分比，诸如至少60％、70％、80％、90％或甚至100％。)
近侧层302可反过来至少主要用于场内调制(即，在靶体积的场内)。近侧层302的孔隙可基于治疗区的靶投影而优化，并且远侧层303可基于注量图而优化，所述注量图描述了穿过靶投影的不同区的相对辐射部分。注量图稍后可转换为远侧层303的叶片序列。在一些实施方案中，可控制层中的一个来产生剂量率调制以及变化的远侧叶片位置。
图4呈现了使用多层多叶准直器300的辐射调制过程的图示。示出了在射束穿过局部剂量率控制层401和共形的成形层402之前和之后的辐射束的辐射强度剖面。在一些实施方案中，局部剂量率控制层401可包括近侧层302，并且共形的成形层402可包括远侧层303，反之亦然。
强度剖面410、411和412表示沿着一个叶片的在水平方向上的辐射强度。在剖面图像下方的箭头对应于治疗的靶范围。第一剖面410示出了来自辐射源的未经修改的射束。第二剖面411示出了在射束穿过局部剂量率控制层401之后的辐射束的强度剖面。在此阶段，剖面高度已被修改，但是辐射束的宽度在水平方向(叶片的方向)上未被修改并且不匹配靶范围。第三剖面423示出了在射束已穿过局部剂量率控制层401和共形的成形层402两者之后的辐射强度剖面。剖面高度并未通过共形的成形层402进行进一步修改。所得的辐射强度剖面412的宽度现已匹配靶范围。
在2d辐射强度剖面421、422和423中，较亮的阴影对应于较高辐射强度，并且较暗的阴影对应于较低辐射强度。靶投影430表示根据治疗计划的治疗区。相对于图4所示的2d强度剖面，局部剂量率控制层401和共形的成形层402的叶片在水平方向上行进。
强度剖面421表示紧接在源之后的辐射强度的分布，其中辐射强度在场内大体上是均匀的。强度剖面422表示在射束穿过局部剂量率控制层401之后的辐射强度的分布。在剖面422中，沿着叶片方向以条纹修改辐射强度分布。剖面中的条纹的数量对应于局部剂量率控制层401中的叶片的数量。强度剖面423表示在射束穿过共形的成形层402之后的辐射强度的分布。在剖面423中，在靶投影430之外的辐射强度被成形层402阻挡，并且强度调制条纹在靶投影430区域内是可见的。
在一些实施方案中，以上优化原理可适用于不同的多叶准直器设计。例如，远侧层和近侧层的角色可进行转换，并且角色的划分可不同于上文。在一些实施方案中，多叶准直器可具有多于两个层，并且治疗计划系统可优化每个层以主要执行不同的角色，诸如剂量率控制、射束调制和共形成形。
在一些实施方案中，以上方法非常适合于在射束启用时相对于患者的射束方向一直在移动的治疗，诸如射束方向通过旋转机架改变的常规的弧形场系统中的治疗。通常，孔隙成形的自由度比场调制的自由度更慢地改变。按这些方法，由于优化的自由度(对应的叶片位置的空间变化和剂量率参数)的程度在两项不同的优化任务之间拆分，因此提高了优化效率。
图5呈现了根据一些实施方案的多层多叶准直系统205的多层多叶准直器500的另一个代表性视图。多层多叶准直器500包括定位在源501与患者504之间的成形层502和调制层503。成形层502接近于源501，而调制层503远离源501。
常规的辐射疗法治疗是基于多次递送相同的治疗计划。然而，在捕获计划图像与施用治疗计划之间可能会发生变化。一般方法通过在计划时间向标示结构添加裕度而将治疗时间患者解剖结构的这种不确定性考虑在内。恰好在治疗之前取得的图像还可用于计划的在线适应。
多层多叶准直器500可用于通过以下方式进行适应性治疗递送：使用调制层503来将某个区域的射束强度剖面调制为略微大于预期靶投影并且使用共形的成形层502来在治疗时将孔隙限制为靶投影。按这种方法，治疗计划的适应可能仅包括第二层中的孔隙的再成形。由于可单独从场的方向确定靶投影，因此可消除3d图像重建。因此，使用所提出的方法产生的计划仅使用2d图像就能够快速地适应(如果需要的话)。由于序列的动态部分(例如，成形层502的运动)在治疗时间不会改变，因此这些方法还降低了对质量保证的要求。所述技术相对于简单的等中心点偏移也有所改进，因为所述技术能够提供更均匀的剂量分布并且计划能够适于各种靶形状变化而且适于转化。虽然调制层503在图5中被示出为远侧层，但是在一些实施方案中，动态调制层503可以是更靠近辐射源的层(因此是近侧层)或更靠近患者的层(因此是远侧层)。
图6a和图6b表示调强放疗(imrt)领域的射束视角视图。图6a表示基于靶投影601而产生的治疗计划，所述靶投影601可以是基于在治疗之前捕获的计划图像。基于靶投影601的计划图像而确定具有适应裕度602的靶投影区域。之后确定动态调制区域603以包住具有适应裕度602的靶投影。图6b表示在治疗时的适应。在图6b中，实际靶投影601’偏离了靶投影601的计划图像。为了适应这种变化，基于实际靶投影601’而调整成形孔隙611。在一些实施方案中，控制准直器的成形层502以限定治疗期间的动态调制区域603，同时控制调制层503以响应于靶投影601’的变化而产生适应的成形孔隙611。所述系统可进一步监测适应的成形孔隙611以确保所述适应的成形孔隙在治疗期间保留在动态调制区域603内。
按这种方法，用于imrt领域的叶片序列使用动态层叶片运动来对具有如图6a和图6b所示的扩展的3d裕度的靶体积产生均匀的剂量分布。裕度区域的大小可基于靶标的预期运动而确定。在计划过程期间，成形层孔隙可被设置为遵循扩展的动态调制区域603以限定可进行适应的区。质量保证可被执行来验证机器能够以足够的放射量测定准确度重现动态叶片模式。
在治疗时，当确定实际靶投影时，将成形层的孔隙减小到所识别的治疗时间孔隙。可在机架移动到位时执行成形孔隙适应。在一些情况下，可能仅在靶标的一侧，诸如接近于重要器官的一侧上需要适应。另外，可基于2d图像(诸如kv图像)从场的方向执行适应，而不用重建3dct图像。
在一些实施方案中，如果使用逆向计划优化来产生上文描述的递送方法，则可使用具有前述的扩展的3d裕度的实际靶标来产生治疗计划。当以此方式完成优化时，重要器官中的剂量偏向于大于实际递送的值，因为适应性操作减小了成形孔隙并且降低了所递送的总剂量。可通过考虑以下内容来减小偏差：扩展靶体积中的预期剂量积累会随着相对于未扩展靶标的表面的距离而减小。例如，重要器官剂量可基于通过减小扩展的孔隙区域中的注量值来计算的预期剂量分布而确定。按一些方法，如果在优化时间通过向优化添加偏差以设置对动态层中的顺畅的叶片序列的偏好来进一步考虑剂量稳健性，则适应性治疗可提供更稳健的结果。所述计划可进一步优化为使用同样为良好的成像方向的射束方向。
在一些实施方案中，本文描述的各种方法和设备还可应用于容积调强放疗(vmat)领域。在vmat领域中，准直器层都将是动态的，但是成形层叶片会具有较慢的运动并且被配置成遵循靶投影。
继续参考前述图示且尤其参考图1和图2，过程100在辐射疗法中提供辐射调制。如本领域中充分了解的，产生辐射治疗计划通常依赖于针对辐射疗法治疗平台的一个或多个方面的模型。还将充分地了解，产生辐射治疗计划往往需要利用迭代优化过程。如本文所使用，“优化”将被理解为指代改进治疗计划，而不一定确保优化结果实际上是单一的最佳解决方案。这种优化往往包括自动地调整一个或多个治疗参数(往往是在这些方面观察到一个或多个对应限制的情况下进行)，并且在数学上计算可能对应的治疗效果以识别给定的一组治疗参数，所述给定的一组治疗参数代表期望的治疗效果与对不期望的副作用的避让之间的良好折衷。由于优化实践本身是充分了解的现有技术努力领域，因此为了简洁明了起见，本文在这些方面并未提供进一步的细节。
按一些方法，图1的步骤用辐射疗法治疗平台的多层多叶准直系统执行。在一些实施方案中，多层多叶准直系统可包括多层多叶准直系统205、多层多叶准直器300和/或多层多叶准直器500中的一者或多者。按一些方法，多层多叶准直系统包括第一多叶准直器层和第二多叶准直器层。第一多叶准直器层可能在以下中的一者或多者方面明显不同于第二多叶准直器层：叶片透射、半影宽度、最大叶片速度和中值叶片宽度。在一些实施方案中，第二组叶片的中值宽度明显大于第一组叶片的中值宽度。在一些实施方案中，第一多叶准直器层被配置成主要执行第一功能以影响从辐射源行进到靶标的辐射束，并且第二多叶准直器层被配置成主要执行不同于第一功能的第二功能以影响辐射束。
在步骤101中，控制电路为多层多叶准直系统检索治疗计划。在一些实施方案中，治疗计划使用每个层来主要执行不同的角色，诸如剂量率控制、射束调制和共形成形。在一些实施方案中，治疗计划使用多叶准直器的一个层来基于计划图像和适应裕度而限定治疗区，并且使用第二层来进行适应。在一些实施方案中，针对治疗计划基于每个层的单独的最大速度能力而优化每个层的运动。
在步骤102中，控制电路控制构成离散的多叶准直器的一部分的第一多叶准直器层以主要执行第一功能以影响从辐射源行进到靶标的辐射束。在一些实施方案中，第一功能包括通过以下方式来使辐射束成形：根据治疗计划的靶区的轮廓形成第一孔隙以挡住在靶区之外的辐射。孔隙可对应于具有适应裕度的计划图像。
在步骤103中，控制电路控制也构成离散的多叶准直器的整体部分的第二多叶准直器层以主要执行不同于第一功能的第二功能以影响辐射束。在一些实施方案中，第二功能包括通过以下方式来调制辐射束的注量分布：调制第二孔隙以根据治疗计划改变靶区内不同区域中的辐射强度。在一些实施方案中，第二功能包括在治疗时使孔隙根据靶投影适应性地成形。
按一些方法，可同时或几乎连续地执行步骤102和103以协调多叶准直器层和系统的其他部件的运动。可在治疗环节期间从不同角度重复地执行步骤102和103以执行治疗计划。
应理解，前述过程100在实践中是相当灵活的，并且对于前述细节可被修改来适应改变、修改或甚至是替代。按一些方法，第一多叶准直器层可包括远侧层303，并且第二多叶准直器层可包括近侧层302，反之亦然。按一些方法，第一多叶准直器层可包括成形层502，并且第二多叶准直器层可包括调制层503，反之亦然。按一些方法，与第二多叶准直器层相比较，第一多叶准直器层可具有更大的叶片透射、半影宽度、最大叶片速度和/或中值叶片宽度，反之亦然。
本领域技术人员将认识到，在不脱离本发明的范围的情况下，可相对于上文描述的实施方案进行各种各样的修改、改变和组合，并且这类修改、改变和组合应被视为处在发明构思的范围内。
1.一种用于辐射疗法中的辐射调制的设备，所述设备包括：
第一多叶准直器层，所述第一多叶准直器层被配置成主要执行第一功能以影响从辐射源行进到靶标的辐射束；以及
第二多叶准直器层，所述第二多叶准直器层被配置成主要执行不同于所述第一功能的第二功能以影响所述辐射束。
2.如权利要求1所述的设备，其中所述第一功能包括使所述辐射束成形。
3.如权利要求2所述的设备，其中使所述辐射束成形包括根据治疗计划的靶区的轮廓形成第一孔隙以挡住在所述靶区之外的辐射。
4.如权利要求1所述的设备，其中所述第二功能包括调制所述辐射束的注量分布。
5.如权利要求4所述的设备，其中调制所述注量分布包括调制第二孔隙以根据治疗计划改变靶区内不同区域中的辐射强度。
6.如权利要求1所述的设备，其中所述第一多叶准直器层在以下中的一者或多者方面明显不同于所述第二多叶准直器层：叶片透射、半影宽度、最大叶片速度和中值叶片宽度。
7.如权利要求1所述的设备，其中所述第一多叶准直器层包括宽度在2mm与2cm之间的叶片，并且所述第二多叶准直器层包括宽度在5mm与5cm之间的叶片。
8.一种用于调强辐射治疗中的辐射调制的设备，所述设备包括：
第一多叶准直器层，所述第一多叶准直器层包括第一组叶片，所述第一组叶片被配置成影响从辐射源行进到靶标的辐射束；以及
第二多叶准直器层，所述第二多叶准直器层包括第二组叶片，所述第二组叶片被配置成连同所述第一多叶准直器层一起影响所述辐射束，
其中所述第二组叶片的中值宽度明显大于所述第一组叶片的中值宽度。
9.如权利要求8所述的设备，其中所述第一组叶片的所述中值宽度是在2mm至2cm之间。
10.如权利要求8所述的设备，其中所述第二组叶片的所述中值宽度是在5mm至5cm之间。
11.如权利要求8所述的设备，其中所述第一多叶准直器层被配置成主要执行第一功能，并且所述第二多叶准直器层被配置成主要执行不同于所述第一功能的第二功能以影响所述辐射束。
12.如权利要求11所述的设备，其中所述第一功能包括使所述辐射束成形以符合靶区。
13.如权利要求11所述的设备，其中所述第二功能包括调制所述辐射束的注量分布。
14.如权利要求8所述的设备，其中所述第一多叶准直器层在以下中的一者或多者方面明显不同于所述第二多叶准直器层：叶片透射、半影宽度和最大叶片速度。
15.一种用于辐射疗法中的辐射调制的方法，所述方法包括：
控制构成离散的多叶准直器的一部分的第一多叶准直器层以主要执行第一功能以影响从辐射源行进到靶标的辐射束；以及
控制也构成所述离散的多叶准直器的整体部分的第二多叶准直器层以主要执行不同于所述第一功能的第二功能以影响所述辐射束。
16.如权利要求15所述的方法，其中所述第一功能包括使所述辐射束成形以符合靶区。
17.如权利要求15所述的方法，其中控制所述第一多叶准直器层包括根据治疗计划的靶区的轮廓形成第一孔隙以挡住在所述靶区之外的辐射。
18.如权利要求15所述的方法，其中所述第二功能包括调制所述辐射束的注量分布。
19.如权利要求15所述的方法，其中控制所述第二多叶准直器层包括调制第二孔隙以根据治疗计划改变靶区内不同区域中的辐射强度。
20.如权利要求15所述的方法，其中所述第一多叶准直器层在以下中的一者或多者方面明显不同于所述第二多叶准直器层：叶片透射、半影宽度、最大叶片速度和中值叶片宽度。
技术总结