本发明涉及电镀装置等表面处理装置，尤其涉及对从处理槽回收的处理液进行调整后使其返回到处理槽中的处理液的循环系统。
背景技术：
电镀装置在处理槽内容纳有电镀液。专利文献1公开了这样的电镀装置：在电镀槽外设置有由泵和过滤器构成的杂质去除部件。电镀液从电镀槽的底部排出，通过杂质去除部件使没有泥垢的干净的电镀液从电镀槽的底部回流到电镀槽内进行循环。并且，由于氧化铜等电镀成分被电镀到工件上而被消耗，因此，以往，从较长的电镀槽的一部分供给氧化铜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2003-013291号公报
技术实现要素：
发明要解决的课题
在专利文献1中，若使从电镀槽的底部排出并通过杂质去除部件去除了泥垢后的干净的电镀液从电镀槽的底部回流循环到电镀槽内，则干净的电镀液没有被均等地分配到电镀槽内。并且，以往，从较长的电镀槽的一部分供给所消耗的氧化铜，因此，存在处理槽内的电镀液的浓度发生偏差的课题。
本发明的至少一个方式的目的在于，提供能够使新鲜的处理液的浓度在处理槽内大致均等的表面处理装置。
用于解决课题的手段
(1)本发明的一个方式涉及一种表面处理装置，其具有：
处理槽，其配置有多个喷管，所述多个喷管对浸渍在处理液中的多个工件喷出所述处理液；和
多个处理液循环装置，
所述多个处理液循环装置各自与多个分割区域中的各一个连接，其中，所述多个分割区域是将所述处理槽在长度方向上分割成多个而成的，各个分割区域包含所述多个喷管中的至少一个，所述多个处理液循环装置各自对从所述多个分割区域中的各一个回收的处理液进行调整，进而将所述处理液回流供给到在所述多个分割区域的各一个中设置的所述至少一个喷管。
根据本发明的一个方式，多个处理液循环装置各自能够对从沿长度方向分割处理槽而成的多个分割区域中的各一个回收的处理液进行调整，然后使该处理液回流供给到在多个分割区域的各一个分割区域中设置的至少一个喷管。由此，调整后的新鲜的处理液的浓度在多个分割区域之间大致均等。而且，由于在处理槽的各分割区域内，从至少一个喷管朝向工件喷出新鲜的处理液，因此新鲜的处理液分散在各分割区域内，处理液的浓度即使在各分割区域内也大致均等。另外，处理槽的分割区域并不限于在物理上分割的情况，只要至少具有按照每个分割区域回收处理液的结构即可。
(2)在本发明的一个方式(1)中，可以是，所述多个处理液循环装置各自包含：循环泵；和调整槽，其将通过所述循环泵从所述多个分割区域中的一个回收的处理液调整为再供给用处理液，通过所述循环泵将来自所述调整槽的所述再供给用处理液回流供给到所述至少一个喷管。这样，通过循环泵回收的处理液在调整槽内被统一调整，并且能够通过循环泵将来自调整槽的再供给用处理液回流供给到至少一个喷管。
(3)在本发明的一个方式(2)中，可以是，所述调整槽对被回收的处理液实施如下操作中的至少一个：投入所消耗的成分；以及调整温度。在表面处理例如为电镀的情况下，所消耗的成分是处理液中的电镀成分或添加剂等。在表面处理例如为镀铜的情况下，电镀成分是氧化铜。在表面处理例如为电镀的情况下，添加剂是光泽剂、平滑剂等。就温度调整而言，将处理液的温度调整为表面处理所固有的最佳温度。通过这些中的任一调整，被回收的处理液被调整为新鲜的再供给用处理液。例如，也可以通过传感器监视被回收的处理液中的电镀成分、添加剂等的浓度或处理液的温度，在偏离适当值的情况下，对浓度或温度进行调整。
(4)在本发明的一个方式(2)中，可以是，所述处理槽内的处理液从所述处理槽的底部侧排出而被回收，所述多个处理液循环装置各自还具有对来自所述调整槽的所述再供给用处理液进行过滤的过滤器。混入处理槽内的处理液中的比重较重的垃圾等杂质积存在处理槽的底部。这些杂质能够与从处理槽的底部侧排出的处理液一同被回收，并被过滤器去除。
(5)在本发明的一个方式(4)中，可以是，所述表面处理装置还具有与所述处理槽相邻的溢流槽，所述处理槽内的处理液经由所述溢流槽排出而被回收。混入处理槽内的处理液中的比重较轻的杂质悬浮在处理槽内的处理液的上部。这些杂质能够与从处理槽溢流的处理液一同经由溢流槽排出而被回收，并同样地被过滤器去除。
(6)在本发明的一个方式(1)～(5)中，可以是，所述表面处理装置是在所述长度方向上连结多个处理单元而形成的，所述多个处理单元各自包含容纳所述处理液的分割处理槽，所述多个处理液循环装置各自与所述多个处理单元各自的所述分割处理槽连接。这样，在表面处理装置是连结多个处理单元而构成的情况下，能够对各处理单元附设处理液循环装置。其中，也可以对各处理单元附设2个以上的处理液循环装置。
附图说明
图1是本发明的实施方式所涉及的间歇输送方式的电镀装置中的电镀处理部的概略剖视图。
图2是图1所示的电镀装置的一个处理单元的概略俯视图。
图3是示出在一个处理单元内停止的工件与阳极之间的位置关系的图。
图4是输送工件的输送夹具的立体图。
图5是示意性地示出阳极、阴极轨道上的导电部以及整流器的连接的图。
图6的(a)、(b)是阴极轨道的主视图以及剖视图。
图7是示出在单元内往复水平扫描移动的喷管的平面。
图8是示出喷管的喷出口的排列间距的图。
图9是示意性地示出与分割处理槽连接的处理液循环装置的图。
具体实施方式
以下，对本发明的优选的实施方式进行详细说明。另外，以下说明的本实施方式并非对权利要求书所记载的本发明的内容进行不当限定，作为本发明的解决手段，本实施方式中说明的结构不一定全部是必须的。
1.多个处理单元
图1是本实施方式所涉及的电镀装置(广义上为表面处理装置)的剖视图。在图1中，在该电镀装置1中，对电路基板等工件2进行电镀的电镀处理部通过连接1个以上的处理单元3-1～3-n(n为自然数)而构成。多个处理单元3-1～3-n能够具有实质上相同的结构。在多个处理单元3-1～3-n的各个处理单元中，可以连续输送工件2，也可以间歇地输送工件2。在设成间歇输送式的电镀装置1的情况下，在多个处理单元3-1～3-n中的各个处理单元中，能够使至少一个、在图1中为m(m是2以上的整数)个(例如m＝4个)工件2间歇地停止。图1示出了最大尺寸的工件2，电镀装置1具有能够对该最大尺寸以下的工件2进行处理的通用性。以下，列举间歇输送式的电镀装置1为例进行说明。
工件2通过推进器等间歇输送装置被从当前的停止位置朝向接下来的停止位置在a方向上依次间歇地输送。在本实施方式中，一个工件2在各处理单元内在4个部位停止。也可以在最上游的处理单元3-1的上游侧连接有通过朝向b方向的下降移动而将工件2搬入的搬入单元4。当处理单元3-1内的工件2被间歇地输送时，搬入单元4内的工件2也被间歇地输送而移动到处理单元3-1。也可以在最下游的处理单元3-n的下游侧连接有搬出单元5，所述搬出单元5使从处理单元3-n水平移动的工件2朝向c方向上升而搬出。在处理单元3-n内的工件2被间歇地输送之前，搬出单元5内的工件2被向上方搬出。但是，也可以省略搬入单元4和/或搬出单元5。在该情况下，工件2下降到处理单元3-1的最上游停止位置，处理单元3-n的最下游停止位置的工件2上升而被搬出。
图2是具有与处理单元3-2～3-n共同的结构的处理单元3-1的俯视图。处理单元3-1具有容纳电镀液(广义上为处理液)的分割处理槽6。工件2浸渍在分割处理槽6内的电镀液中。分割处理槽6是上方开口的大致箱体，在上游侧以及下游侧的间隔壁上分别设置有开口6a、6b，在与相邻的单元(处理单元、搬入单元或搬出单元)之间允许工件2水平移动。
在本实施方式中，在位于处理单元3-1内的多个(例如4个)停止位置处的工件2的正面以及背面的至少一侧，设置有至少一个阳极20。在本实施方式中，设置有：与位于各停止位置处的各一个工件2的正面对置的阳极20a；以及与工件2的背面对置的阳极20b。阳极20(20a、20b)能够分别包含相互导通的多个分割阳极。在本实施方式中，分割成上游侧的分割阳极20a1(20b1)和下游侧的分割阳极20a2(20b2)。阳极20也可以包含分割成3个以上的分割阳极，但是由于相互导通，因此能够视为一个阳极。
图3是示出配置于处理单元3-1的阳极20a1、20a2(20b1、20b2)与工件2之间的位置关系的主视图。如图3所示，工件2被输送夹具30保持。如图2以及图3所示，阳极20(20a、20b)分别配置在与位于4个停止位置的工件2正对的位置处。总而言之，如图2所示，只要能够在设定为阴极的工件2与阳极20之间形成均匀的电场即可。阳极20的形状无限制，图2以及图3所示的阳极的轮廓为矩形，但是也可以将俯视观察时的轮廓设为圆形。阳极可以为不溶性阳极，也可以为可溶性阳极。
在本实施方式中，可以具有将一个处理单元3-1划分为4个单元11-1～11-4的遮蔽板23。在各单元11-1～11-4内，在俯视观察时，阳极20(20a1、20a2、20b1、20b2)被配置在工件2的两侧。遮蔽板23是为了阻断相邻的单元之间的电场(在图2中以箭头所示的阳极-阴极间的电场)的影响而设置的。在遮蔽板23上形成有供工件2通过的开口23a。
2.输送夹具
图4示出了输送夹具30的一例。该输送夹具30具有水平臂部300、垂直臂部310、工件保持部320、被引导部330、被供电部340以及被推动片350。水平臂部300沿着与间歇输送方向a垂直的方向b延伸。垂直臂部310以下垂的方式保持于水平臂部300。工件保持部320固定于垂直臂部310。工件保持部320包含：上部框架321；以及被上部框架321支承为例如能够升降的下部框架322。在上部框架321设置有夹紧工件2的上部的多个夹紧件323。在下部框架322设置有夹紧工件2的下部的多个夹紧件324。通过下部的夹紧件324对工件2赋予向下的张力。但是，在工件2较厚的情况或者不从工件2的下部供电的情况下，也可以省略下部框架322以及夹紧件324。
被引导部330沿着处理单元3-2～3-n配置，且被例如按照处理单元3-2～3-n中的每一个处理单元分割出的导轨(未图示)引导，直线引导输送夹具30。被引导部330可以包含：与导轨的顶面滚动接触的辊331；以及与导轨的两侧面滚动接触的辊332(在图4中只图示了与一个侧面滚动接触的辊)。
被供电部340与在图5以及图6中说明的阴极轨道接触，通过输送夹具30的水平臂部300、垂直臂部310、工件保持部320而将工件2设定为阴极。被供电部340包含2个触头342、343，它们被支承于沿着间歇输送方向a延伸的支承臂341的上游侧和下游侧。触头342、343借助平行连杆机构而被支承臂341支承，并被弹簧施力而压接于阴极轨道。2个触头342、343与夹持件323、324中的至少一个电连接，由此工件2被设定为阴极。
被推动片350例如固定于垂直臂部310，被推动面垂直配置于工件保持部320的正上方的位置处。被推动片350通过后述的间歇输送装置被从图示的c方向推动，使间歇输送力传递到输送夹具30。另外，在图4所示的输送夹具30设置有在连续输送时使用的被卡合部360，输送夹具30能够兼用于间歇输送和连续输送。
3.阴极轨道以及整流器
如图5所示，各处理单元3-1～3-n(图5中只图示2个处理单元)具有至少1个阴极轨道40。阴极轨道40也可以与输送方向a平行地排列配置有多个。在该情况下，多个阴极轨道40可以与相同的整流器连接，也可以与不同的整流器连接来针对每个供电部位独立地控制电流值。在本实施方式中，设置有1个阴极轨道40。1个阴极轨道40优选具有按照处理单元3-1～3-n中的每一个处理单元分割出的多个分割阴极轨道40-1～40-n(图5中只示出2个分割阴极轨道40-1、40-2)，多个分割阴极轨道40-1～40-n以在输送方向a上连续的方式连结。如图5以及图6的(a)所示，分割阴极轨道40-1～40-n分别在绝缘轨道41上隔开间隔(非导电部)42，并针对工件2所停止的各单元一对一地具有4个导电部43。4个导电部43各自与保持着工件2停止在各处理单元3-1～3-n的4个停止位置处的、图4所示的输送夹具30的被供电部340(2个触头342、343)电导通。另外，在图5中示出了容纳于各处理单元3-1～3-n内的电镀液的液面l，工件2浸渍在电镀液中。另外，如图6的(b)所示，在阴极轨道40的宽度方向的两端设置有间隔壁44、44，从而能够在导电部43上保持非油性的导电性流体(例如水)45。这样，能够借助导电性流体45更加可靠地确保被供电部340(2个触头342、343)与导电部43之间的电接触。但是，由于水的导电性远低于作为金属的导电部43的导电性，因此相邻的导电部43、43之间的绝缘性被维持。并且，如图6的(b)所示，将导电部43固定于绝缘轨道41上的螺栓46能够配置在夹着被供电部340的行进通道的两侧。由此，无需在导电部34设置螺栓的沉孔，从而能够排除成为电阻的因素。
各处理单元3-1～3-n针对工件2所停止的各单元一对一地具有共计4个整流器50(图5中只示出一个整流器50)。4个整流器50的各一个的正端子51与配置于各单元的阳极20(20a1、20a2、20b1、20b2)连接。4个整流器50的各一个的负端子52和与每个分割阴极轨道40-1～40-n各自的单元相对应的导电部43连接。
4.工件停止时的电流控制
在各处理单元3-1～3-n的4个停止位置(单元)处流入4个的工件2中的电流被针对各单元分别设置1个的整流器50独立地控制。而且，由于在单元之间阴极彼此绝缘，阳极彼此也被绝缘，因此能够使每一个工件2绝缘地分离，从而能够通过各整流器50分别地对工件2进行供电控制。而且，通过在单元之间利用遮蔽板23分离电场，由此排除了单元之间的影响，确保了对每个工件2的分别供电。由此，能够提高工件2的电镀质量。
将本实施方式的间歇输送方式与以往的连续输送方式进行对比，被连续输送的工件(阴极)与被固定的阳极之间的位置关系始终在变化，而本实施方式的停止的工件(阴极)2能够与阳极20正对。这样，在工件2停止时，阴极与阳极之间的位置关系变得固定，各工件处于相同的电镀条件下，因此能够期待提高电镀质量。尤其是，若工件2停止，则接触电阻的变动就会消失，因此能够进行精确的电流控制。并且，在用于连续输送的较长的阴极轨道的中途，存在固定螺栓用的沉孔等，阴极轨道的电阻值在每个场所不同而不会成为均匀的电阻。因此，虽然在工件中流过的电流根据工件的连续输送中的位置而不同，但是在间歇输送中，能够消除这样的不良情况。而且，本实施方式也不会如连续输送那样存在如下情况：电镀质量根据工件的连续输送速度而受到不良影响。
但也可以是，不必实施如上所述的完全单独的供电来间歇地输送工件2。即，也可以在各处理单元3-1～3-n的4个单元11-1～11-4中将阴极和阳极中的一方或双方共用(共同阴极和/或共同阳极)。
5.喷管的移动扫描
在各处理单元3-1～3-n的4个单元11-1～11-4中，如图8所示，能够在俯视观察时位于停止位置的工件2的各表面(正面以及背面)与阳极20之间还设置至少一个喷管60。由于喷管60会遮住在工件(阴极)2与阳极20之间形成的电场，因此即使在设置多个喷管60的情况下，也优选使其个数较少。如图9所示，喷管60具有喷出电镀液的多个喷出口60a。图9所示的喷管60的喷出口60a的垂直方向间距p比在以往的连续输送方式中使用的间距(例如7.5mm)小，能够设为喷出口60a的外径以上且5mm以下。这是为了增加每单位时间的电镀液供给量。而且，为了均等地向尺寸较小的芯片或精密的图案供给电镀液，也优选使间距p较小。另外，在图9中，工件2的正反面侧的喷管60隔着工件2对置地配置，但是也可以设置于非对置的位置。若对置地配置，则能够消除工件2因液压而变形的情况，若不对置地配置，则容易向工件2的贯通孔供给电镀液。另外，在连续输送方式中也设置有喷管，但是其个数在一个处理单元中多达十几个。
在工件的连续输送方式中，多个喷管被固定，但是，在采用间歇输送方式的本实施方式中，在各处理单元3-1～3-n的4个单元11-1～11-4中，使至少一个喷管60例如向图8的箭头a1方向和a2方向(均与间歇输送方向a平行)水平扫描移动。由此，如图9所示，能够均匀地对工件2的整个面喷出电镀液。并且，喷管60的移动速度能够比连续输送方式中的工件2的移动速度(例如0.8m/min)快。这样，能够增加每单位时间的电镀液供给量。另外，在连续输送方式中，若加快工件速度，则处理槽的总长变长而导致装置大型化，但是，在如本实施方式这样的间歇输送中，装置不会大型化。
省略了喷管60的往复移动机构的图示，但是能够采用公知的往复直线运动的机构(例如通过可逆马达驱动的齿轮-齿条机构、活塞-曲柄机构等)。该往复移动机构能够使2个喷管60以如下方式移动：在与停止在各单元中的工件2的至少水平宽度相对应的长度范围内，至少循环扫描一次。这样，提高了被处理的工件2的面内均匀性。尤其优选的是，从喷管60的初始位置循环扫描至少一次并恢复到初始位置。这是因为，喷管60的影子在工件面内大致均匀化。另外，喷管60可以在装置的启动期间连续地进行往复扫描移动，也可以在工件2的间歇输送中使往复扫描移动停止。
根据本实施方式，对于间歇停止的工件2，能够与工件2的停止位置相对应地使至少一个(例如2个)喷管60相对于工件2扫描移动。由此，成为喷管60的影子而阻碍阳极-阴极之间的电场的区域会随着喷管60的移动而移动，其中，所述喷管60在俯视观察时位于工件2与阳极20之间。因此，电场被喷管60阻碍的区域不固定，提高了被处理的工件2的面内均匀性。另外，喷管60的扫描移动方向并不限于水平方向。例如，也可以将喷管60水平配置并使其沿着垂直方向扫描移动，扫描移动方向也可以是水平和垂直等方向中的任意方向。
喷管60能够通过公知的结构将分割处理槽内的喷出口60a附近的电镀液卷入并喷出。由此，能够将阳极20附近的金属离子丰富的电镀液朝向工件2喷出，产量得到提高。
另外，喷管60的扫描移动能够广泛地应用于间歇输送方式的表面处理装置，并非必须限定于上述的实施方式的结构、即多个处理单元的连结结构、阴极分割结构、阳极分割结构等。并且，本发明并非必须应用于间歇输送式表面处理装置，因此，在连续输送式的表面处理装置中，固定配置有至少一个喷管。
6.处理液循环装置
图9示意性地示出了与图1所示的各处理单元3-1～3-n分别连接的处理液循环装置100。在图9中，处理液循环装置100与处理单元3-1的分割处理槽6连结。但是，也可以将多个处理液循环装置100与分割处理槽6连结，例如可以对图3所示的4个单元11-1～11-4分别连结一个处理液循环装置100。或者，也可以对多个分割处理槽6中的每一个分割处理槽连接一个处理液循环装置100。但是，连结处理液循环装置100的分割区域并不限于如处理单元3-1～3-n或单元11-1～11-4那样被物理分割的情况。
在图9中，处理液循环装置100对从分割处理槽6回收的电镀液进行调整，并使该电镀液回流供给到在分割处理槽6的各单元11-1～11-4中设置于工件2的两侧的各2组、共计8组的喷管60。处理液循环装置100具有调整槽110。调整槽110例如经由常开阀111而与分割处理槽6的底部连通。如图9所示，在分割处理槽6的宽度方向的例如两侧具有溢流槽7a、7b的情况下，调整槽110还与溢流槽7a、7b的底部连通。
调整槽110可以具有氧化铜投入部112、添加剂投入部113以及调温部114。氧化铜和添加剂是为了补充因镀铜所消耗的成分而被投入的。调温是为了将处理液的温度调整为表面处理所固有的最佳温度而实施的。在调整槽110的下游侧连接有2个返回路径120a、120b。返回路径120a与在分割处理槽6的各单元11-1～11-4中设置于工件2的正面侧的各1组、共计4组的喷管60连接。返回路径120b与在分割处理槽6的各单元11-1～11-4中设置于工件2的背侧的各1组、共计4组的喷管60连接。在2个返回路径120a、120b上，分别设置有循环泵121、过滤器122以及流量计123。
根据本实施方式，多个处理液循环装置100分别能够对从分割处理槽6的各一个回收的电镀液进行调整，然后使该电镀液作为再供给用处理液而回流供给到在分割处理槽6的各一个中设置的共计8组喷管60，其中，所述分割处理槽6是在长度方向上对处理槽进行分割而成的。由此，调整后的新鲜电镀液的浓度在多个分割处理槽6之间大致均等。而且，在各分割处理槽6内，新鲜的电镀液从移动扫描的共计8组喷管60朝向工件2喷出。由此，新鲜的电镀液分散在各分割处理槽6内，电镀液的浓度在各分割处理槽6内也大致均等。并且，如果从喷管60的上部侧供给再供给用处理液，则能够进行脱气。
调整槽110能够对被回收的电镀液实施如下操作中的至少一个：投入所消耗的成分例如氧化铜和/或添加剂；以及，调整温度。通过这些调整中的任一调整，被回收的电镀被调整为新鲜的再供给用处理液。
从分割处理槽6的具有倾斜面6c的底部回收的电镀液中所包含的比重较大的杂质(金属类、例如氧化铜的铜粉)、或从溢流槽7a、7b回收的电镀液中所包含的比重较轻的杂质(例如树脂类)能够通过过滤器122被去除。由此，能够防止再供给的电镀液的污染，还能够防止喷管60堵塞。尤其是，若形成于工件2的配线的线条和间隔较小，则即使是微小的杂质也会导致短路不良。由于这样的杂质被过滤器122去除，因此能够将其从再供给的电镀液中排除。另外，由于比重较大的杂质从处理槽的底部经由常开喷嘴111被回收，由此能够防止其在对流时残留在处理槽内。
另外，如上所述对本实施方式进行了详细说明，但是对于本领域技术人员来说，应该能够容易地理解能够进行实质上不脱离本发明的新事项以及效果的大量的变形。因而，这样的变形例全部包含于本发明的范围。例如，在说明书或附图中，至少一次与更广义或同义的不同术语一起记载的术语在说明书或附图中的任何部位中都能够置换为其不同的术语。并且，本实施方式以及变形例的所有组合也包含于本发明的范围。
标号说明
1：表面处理装置；2：工件；3-1～3-n：处理单元；6：分割处理槽；7a、7b：溢流槽；20(20a1、20a2、20b1、20b2)：阳极；30：输送夹具；40、40-1、40-2：阴极轨道(分割阴极轨道)；41：绝缘轨道；42：间隔(非导电部)；43：导电部；50：整流器；51：正端子；52：负端子；60：喷管；60a：喷出口；100：处理液循环装置；110：调整槽；112：氧化铜投入部；113：添加剂投入部；114：调温部；120a、120b：第1、第2返回路径；121：循环泵；122：过滤器。
1.一种表面处理装置，其特征在于，
所述表面处理装置具有：
处理槽，其配置有多个喷管，所述多个喷管对浸渍在处理液中的多个工件喷出所述处理液；和
多个处理液循环装置，
所述多个处理液循环装置各自与多个分割区域中的各一个连接，其中，所述多个分割区域是将所述处理槽在长度方向上分割成多个而成的，各个分割区域包含所述多个喷管中的至少一个，所述多个处理液循环装置各自对从所述多个分割区域中的各一个回收的处理液进行调整，进而将所述处理液回流供给到在所述多个分割区域的各一个中设置的所述至少一个喷管。
2.根据权利要求1所述的表面处理装置，其特征在于，
所述多个处理液循环装置各自包含：
循环泵；和
调整槽，其将通过所述循环泵从所述多个分割区域中的一个回收的处理液调整为再供给用处理液，
来自所述调整槽的所述再供给用处理液被所述循环泵回流供给到所述至少一个喷管。
3.根据权利要求2所述的表面处理装置，其特征在于，
所述调整槽对被回收的处理液实施如下操作中的至少一个：投入所消耗的成分；以及调整温度。
4.根据权利要求2或3所述的表面处理装置，其特征在于，
所述处理槽内的处理液从所述处理槽的底部侧排出而被回收，
所述多个处理液循环装置各自还具有对来自所述调整槽的所述再供给用处理液进行过滤的过滤器。
5.根据权利要求4所述的表面处理装置，其特征在于，
所述表面处理装置还具有与所述处理槽相邻的溢流槽，
所述处理槽内的处理液经由所述溢流槽排出而被回收。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的表面处理装置，其特征在于，
所述表面处理装置是在所述长度方向上连结多个处理单元而形成的，
所述多个处理单元各自包含容纳所述处理液的分割处理槽，
所述多个处理液循环装置各自与所述多个处理单元各自的所述分割处理槽连接。
技术总结