本发明涉及光学精密测量技术领域，更具体的说是涉及一种轴向差动暗场共焦显微测量装置及其方法。
背景技术：
高性能光学元件及微机电元件是现代高端装备的核心组成部分，为保障其加工质量和服役可靠性需要对其进行表面形貌测量和亚表面缺陷检测，目前国内外尚无设备能够同时实现上述功能。
国内外现有表面形貌无损测量技术主要包括：共焦显微测量技术、白光干涉显微测量技术和变焦显微测量技术。其中共焦显微测量技术相比于另外两种技术具有测量样品适用性宽、可以测量复杂样品结构的特点，因而在工业检测领域广泛应用。亚表面缺陷无损检测技术主要包括：激光调制散射技术，全内反射显微技术，光学相干层析技术，高频扫描声学显微技术，x射线显微成像技术。其普遍存在深度定位精度不高、信噪比低、检测效率不高，检测样品受限等不足。
因此，如何提供一种测量精度高的轴向差动暗场共焦显微测量装置及其方法是本领域技术人员亟需解决的问题。
技术实现要素：
有鉴于此，本发明提供了一种轴向差动暗场共焦显微测量装置及其方法，可同时获取纳米级表面划痕、磨损及亚表面裂痕、气泡等缺陷的三维分布信息，兼具表面及亚表面缺陷一体化检测功能，解决了现有技术中的各测量技术所存在的缺陷。
为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：
一种轴向差动暗场共焦显微测量装置，包括：环形光照明模块、环形光扫描模块和差动共焦探测模块；
所述环形光照明模块按照光线传播方向依次为：激光器、扩束镜、偏振片一、凹面锥透镜和半反半透膜一；
所述环形光扫描模块按照光线传播方向依次为：二维扫描振镜、扫描透镜、管镜和物镜；
所述差动共焦探测模块包括：半反半透膜二和探测光路；所述探测光路包括透射光路单元和反射光路单元；
所述透射光路单元按照光线传播方向依次包括：光阑一、偏振片二、聚焦透镜一、针孔一和相机一；
所述反射光路单元按照光线传播方向依次包括：光阑二、偏振片三、聚焦透镜二、针孔二和相机二；
其中所述半反半透膜一和所述二维扫描振镜对应设置，所述半反半透膜一和所述半反半透膜二对应设置；
经过所述半反半透膜一透射的光束到达所述二维扫描振镜，经过所述半反半透膜一反射的光束到达所述半反半透膜二。
优选的，所述凹面锥透镜的前后表面底角α相同，高斯光束整形为环形光后的外径与所述物镜的入瞳相匹配。
优选的，所述扫描透镜工作面应置于管镜的前焦面处。
优选的，待测样品设置于所述物镜的前方，环形光入射至所述物镜后在所述待测样品上聚焦。
优选的，光阑一和光阑二的孔径与凹面锥透镜所产生的环形光孔径互补匹配，光阑一和光阑二完全遮挡来自所述待测样品的反射光束，仅允许携带所述待测样品信息的散射光进入后续探测光路。
优选的，在透射光路单元中，透射光束被聚焦至近离焦平面处，穿过针孔一被所述相机一收集；
在反射光路单元中，反射光束被聚焦至远离焦平面处，穿过针孔二被所述相机二收集，装置具有差动探测的光路布局；
所述近离焦平面位于所述聚焦透镜一和所述针孔一之间，所述远离焦平面位于所述针孔二和所述相机二之间。
一种轴向差动暗场共焦显微测量方法，具体包括以下步骤：
s1.激光器所发平行激光光束，通过扩束镜光束直径放大后，经过偏振片一变为线偏振光，经过凹面锥透镜后，高斯光束被整形为环形光束；线偏振环形光束透射半反半透膜一，经过二维扫描振镜反射，通过扫描透镜聚焦至管镜前焦面处，通过所述管镜产生环形平行光束入射物镜，在所述待测样品上形成聚焦光斑，实现对所述待测样品的环形光照明；
s2.控制所述二维扫描振镜偏转使聚焦光斑在所述待测样品上进行二维扫描，所述待测样品的散射光和反射光依次经过所述物镜、所述管镜、所述扫描透镜和所述二维扫描振镜，被所述半反半透膜一反射，实现对所述待测样品的环形光扫描；
s3.从所述入射半反半透膜一入射到半反半透膜二的光束被分为两路探测光束：
透射光路中，光束经过光阑一，所述待测样品的直接反射光被遮挡滤除，所述待测样品的散射光依次通过偏振片二和聚焦透镜一被聚焦至近离焦平面处，经过针孔一被相机一收集；
反射光路中，光束经过光阑二，所述待测样品的直接反射光被遮挡滤除，所述待测样品的散射光依次通过偏振片三和聚焦透镜二被聚焦至远离焦平面处，经过针孔二被相机二收集；完成对所述待测样品的差动共焦探测；
s4.竖直方向移动所述待测样品，进行对所述待测样品不同轴向位置的横向二维扫描，实现对所述待测样品的立体显微测量。
经由上述的技术方案可知，与现有技术相比，本发明公开提供了本发明公开提供了一种轴向差动暗场共焦显微测量装置，具有以下有益效果：
第一、本发明使用凹面锥透镜将高斯光束整形为环形光束，利用合适孔径的环形光照明与互补孔径遮挡探测，有效分离样品反射信号与散射信号，克服了传统共焦测量样品亚表面缺陷的不足，实现高性能光学元件及微机电元件的亚表面缺陷的纳米级高精度检测；
第二、本发明利用焦前、焦后两路探测光路对被测物体进行扫描，进行差动处理来进行差动探测。差动共焦的光路布局和探测提高了测量系统轴向的灵敏度、线性和信噪比，可显著抑制环境状态差异、光源光强波动、探测器电气漂移等引起的共模噪声。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的一种轴向差动暗场共焦显微测量装置的结构示意图。
图中：1激光器、2扩束镜、3偏振片一、4凹面锥透镜、5半反半透膜一、6二维扫描振镜、7扫描透镜、8管镜、9物镜、10样品、11半反半透膜二、12光阑一、13偏振片二、14聚焦透镜一、15针孔一、16相机一、17光阑二、18偏振片三、19聚焦透镜二、20针孔二、21相机二。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例公开了一种轴向差动暗场共焦显微测量装置，包括：环形光照明模块、环形光扫描模块和差动共焦探测模块；
环形光照明模块按照光线传播方向依次为：激光器1、扩束镜2、偏振片一3、凹面锥透镜4和半反半透膜一5；
环形光扫描模块按照光线传播方向依次为：二维扫描振镜6、扫描透镜7、管镜8和物镜9；
差动共焦探测模块包括：半反半透膜二11和探测光路；探测光路包括透射光路单元和反射光路单元；
透射光路单元按照光线传播方向依次包括：光阑一12、偏振片二13、聚焦透镜一14、针孔一15和相机一16；
反射光路单元按照光线传播方向依次包括：光阑二17、偏振片三18、聚焦透镜二19、针孔二20和相机二21；
其中半反半透膜一5和二维扫描振镜6对应设置，半反半透膜一5和半反半透膜二11对应设置；
经过半反半透膜一5透射的光束到达二维扫描振镜6，经过半反半透膜一5反射的光束到达半反半透膜二11。
为了进一步实施上述技术方案，凹面锥透镜4的前后表面底角α相同，高斯光束整形为环形光后的外径与物镜9的入瞳相匹配。
为了进一步实施上述技术方案，扫描透镜7工作面应置于管镜8的前焦面处。
为了进一步实施上述技术方案，待测样品10设置于物镜9的前方，环形光入射至物镜9后在待测样品10上聚焦。
为了进一步实施上述技术方案，光阑一12和光阑二17的孔径与凹面锥透镜4所产生的环形光孔径互补匹配，光阑一12和光阑二17完全遮挡来自待测样品10的反射光束，仅允许携带待测样品10信息的散射光进入后续探测光路，有效分离来自待测样品的反射信号与散射信号。
为了进一步实施上述技术方案，在透射光路单元中，透射光束被聚焦至近离焦平面处，穿过针孔一15被相机一16收集；
在反射光路单元中，反射光束被聚焦至远离焦平面处，穿过针孔二20被相机二21收集，装置具有差动探测的光路布局；
近离焦平面位于聚焦透镜一14和针孔一15之间，远离焦平面位于针孔二20和相机二21之间。
需要说明的是：
相机一16紧贴针孔一15放置；相机二21紧贴针孔二20放置；由于具有反射光路和透射光路两个光路单元，装置具有差动探测的光路布局。
一种轴向差动暗场共焦显微测量方法，具体包括以下步骤：
s1.激光器1所发平行激光光束，通过扩束镜2光束直径放大后，经过偏振片一3变为线偏振光，经过凹面锥透镜4后，高斯光束被整形为环形光束；线偏振环形光束透射半反半透膜一5，经过二维扫描振镜6反射，通过扫描透镜7聚焦至管镜8前焦面处，通过管镜8产生环形平行光束入射物镜9，在待测样品10上形成聚焦光斑，实现对待测样品10的环形光照明；
s2.控制二维扫描振镜6偏转使聚焦光斑在待测样品10上进行二维扫描，待测样品10的散射光和反射光依次经过物镜9、管镜8、扫描透镜7和二维扫描振镜6，被半反半透膜一5反射，实现对待测样品10的环形光扫描；
s3.从入射半反半透膜一5入射到半反半透膜二11的光束被分为两路探测光束：
透射光路中，光束经过光阑一12，待测样品10的直接反射光被遮挡滤除，待测样品10的散射光依次通过偏振片二13和聚焦透镜一14被聚焦至近离焦平面处，经过针孔一15被相机一16收集；
反射光路中，光束经过光阑二17，待测样品10的直接反射光被遮挡滤除，待测样品10的散射光依次通过偏振片三18和聚焦透镜二19被聚焦至远离焦平面处，经过针孔二20被相机二21收集；完成对待测样品10的差动共焦探测；
s4.竖直方向移动待测样品10，进行对待测样品10不同轴向位置的横向二维扫描，实现对待测样品10的立体显微测量。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
1.一种轴向差动暗场共焦显微测量装置，其特征在于，包括：环形光照明模块、环形光扫描模块和差动共焦探测模块；
所述环形光照明模块按照光线传播方向依次为：激光器(1)、扩束镜(2)、偏振片一(3)、凹面锥透镜(4)和半反半透膜一(5)；
所述环形光扫描模块按照光线传播方向依次为：二维扫描振镜(6)、扫描透镜(7)、管镜(8)和物镜(9)；
所述差动共焦探测模块包括：半反半透膜二(11)和探测光路；所述探测光路包括透射光路单元和反射光路单元；
所述透射光路单元按照光线传播方向依次包括：光阑一(12)、偏振片二(13)、聚焦透镜一(14)、针孔一(15)和相机一(16)；
所述反射光路单元按照光线传播方向依次包括：光阑二(17)、偏振片三(18)、聚焦透镜二(19)、针孔二(20)和相机二(21)；
其中所述半反半透膜一(5)和所述二维扫描振镜(6)对应设置，所述半反半透膜一(5)和所述半反半透膜二(11)对应设置；
经过所述半反半透膜一(5)透射的光束到达所述二维扫描振镜(6)，经过所述半反半透膜一(5)反射的光束到达所述半反半透膜二(11)。
2.根据权利要求1所述的一种轴向差动暗场共焦显微测量装置，其特征在于，所述凹面锥透镜(4)的前后表面底角α相同，高斯光束整形为环形光后的外径与所述物镜(9)的入瞳相匹配。
3.根据权利要求1所述的一种轴向差动暗场共焦显微测量装置，其特征在于，所述扫描透镜(7)工作面应置于管镜(8)的前焦面处。
4.根据权利要求1所述的一种轴向差动暗场共焦显微测量装置，其特征在于，待测样品(10)设置于所述物镜(9)的前方，环形光入射至所述物镜(9)后在所述待测样品(10)上聚焦。
5.根据权利要求4所述的一种轴向差动暗场共焦显微测量装置，其特征在于，光阑一(12)和光阑二(17)的孔径与凹面锥透镜(4)所产生的环形光孔径互补匹配，光阑一(12)和光阑二(17)完全遮挡来自所述待测样品(10)的反射光束，仅允许携带所述待测样品(10)信息的散射光进入后续探测光路。
6.根据权利要求1所述的轴向差动暗场共焦显微测量装置，其特征在于，
在透射光路单元中，透射光束被聚焦至近离焦平面处，穿过针孔一(15)被所述相机一(16)收集；
在反射光路单元中，反射光束被聚焦至远离焦平面处，穿过针孔二(20)被所述相机二(21)收集，装置具有差动探测的光路布局；
所述近离焦平面位于所述聚焦透镜一(14)和所述针孔一(15)之间，所述远离焦平面位于所述针孔二(20)和所述相机二(21)之间。
7.一种轴向差动暗场共焦显微测量方法，基于权利要求1～6中任意一项所述的轴向差动暗场共焦显微测量装置，其特征在于，具体包括以下步骤：
s1.激光器(1)所发平行激光光束，通过扩束镜(2)光束直径放大后，经过偏振片一(3)变为线偏振光，经过凹面锥透镜(4)后，高斯光束被整形为环形光束；线偏振环形光束透射半反半透膜一(5)，经过二维扫描振镜(6)反射，通过扫描透镜(7)聚焦至管镜(8)前焦面处，通过所述管镜(8)产生环形平行光束入射物镜(9)，在所述待测样品(10)上形成聚焦光斑，实现对所述待测样品(10)的环形光照明；
s2.控制所述二维扫描振镜(6)偏转使聚焦光斑在所述待测样品(10)上进行二维扫描，所述待测样品(10)的散射光和反射光依次经过所述物镜(9)、所述管镜(8)、所述扫描透镜(7)和所述二维扫描振镜(6)，被所述半反半透膜一(5)反射，实现对所述待测样品(10)的环形光扫描；
s3.从所述入射半反半透膜一(5)入射到半反半透膜二(11)的光束被分为两路探测光束：
透射光路中，光束经过光阑一(12)，所述待测样品(10)的直接反射光被遮挡滤除，所述待测样品(10)的散射光依次通过偏振片二(13)和聚焦透镜一(14)被聚焦至近离焦平面处，经过针孔一(15)被相机一(16)收集；
反射光路中，光束经过光阑二(17)，所述待测样品(10)的直接反射光被遮挡滤除，所述待测样品(10)的散射光依次通过偏振片三(18)和聚焦透镜二(19)被聚焦至远离焦平面处，经过针孔二(20)被相机二(21)收集；完成对所述待测样品(10)的差动共焦探测；
s4.竖直方向移动所述待测样品(10)，进行对所述待测样品(10)不同轴向位置的横向二维扫描，实现对所述待测样品(10)的立体显微测量。
技术总结