本发明涉及抛光设备领域，特别涉及一种高精度玻璃珠的抛光设备及抛光方法。
背景技术：
抛光设备设备是一种电动工具，抛光设备设备由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩及盖等基本元件组成。
在目前的玻璃珠生产加工过程中，经常需要对玻璃珠进行打磨抛光，以此提高玻璃珠表面的光泽度，而常用的抛光方法主要是人工打磨抛光或者采用抛光设备进行抛光。这样的抛光方法所消耗的时间较长，造成了生产时间的大大浪费，另外在对玻璃珠进行抛光时，抛光精准度较低。因此，发明一种高精度玻璃珠的抛光设备及抛光方法来解决上述问题很有必要。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种高精度玻璃珠的抛光设备及抛光方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种高精度玻璃珠的抛光设备，包括设备主体和进料斗，所述进料斗固定设置于设备主体顶部一侧，所述设备主体内腔中设置有集料转盘，所述集料转盘顶部设置有多个玻璃珠卡孔，且多个所述玻璃珠卡孔呈弧形阵列分布于集料转盘上，所述玻璃珠卡孔底端贯穿集料转盘，且延伸至集料转盘底端一侧，相邻所述玻璃珠卡孔之间设置有连接槽，且多个所述玻璃珠卡孔通过连接槽首尾相互串联，所述集料转盘顶端设置有多个抛光装置，所述抛光装置一侧设置有抛光度检测装置，且抛光度检测装置顶部与设备主体内腔顶壁固定连接，所述设备主体顶端固定设置有除灰装置，且除灰装置输入端延伸至设备主体内腔中于集料转盘正上方，所述集料转盘底端设置有支撑盘，且集料转盘与支撑盘呈活动卡接，所述支撑盘顶端一侧设置有出料孔，所述出料孔底端贯穿支撑盘，且延伸至支撑盘底端一侧，所述出料孔内固定设置有电磁阀。
优选的，所述设备主体内腔底部固定设置有第一转动电机，所述第一转动电机输出端贯穿支撑盘，且延伸至支撑盘顶端与集料转盘底部固定连接，所述第一转动电机两侧设置有支撑柱，所述支撑柱顶端与支撑盘底部固定连接，且支撑柱底端与设备主体内腔底壁固定连接。
优选的，所述进料斗顶端设置有进料槽，所述进料槽底端贯穿进料斗和设备主体顶壁，且延伸至设备主体内腔中于集料转盘顶端，所述进料槽底端固定设置有波纹出料管，且波纹出料管设置于设备主体内腔中于集料转盘顶端。
优选的，所述进料槽底端一侧壁开设有收纳槽，所述收纳槽内活动卡接有铁块，所述收纳槽一侧设置有卡槽，且卡槽延伸至进料斗一侧内腔中，所述卡槽内活动卡接有卡块，所述卡块一侧固定设置有滑杆，且滑杆延伸至收纳槽内与铁块固定连接，所述滑杆底端设置有复位弹簧，所述复位弹簧两端分别与卡槽一端壁和卡块一侧底端固定连接，所述进料槽底端另一侧壁镶嵌有电磁铁，且铁块和电磁铁在同一水平，面上呈直线设置。
优选的，所述玻璃珠卡孔包括上卡孔和下卡孔，所述下卡孔设置于上卡孔底端，且上卡孔和下卡孔形状分别设置为圆台形和圆柱形，所述上卡孔最小直径大于等于下卡孔任意处直径。
优选的，所述抛光装置包括第二转动电机和抛光盘，所述抛光盘顶部与第二转动电机输出端固定连接，所述抛光盘底部固定设置有磨砂层，多个所述抛光装置上固定设置有连接杆，且连接杆顶部与设备主体内腔顶壁固定连接，所述抛光盘包括第一抛光盘和第二抛光盘，所述第二抛光盘呈一体化设置于第一抛光盘一侧，所述第二抛光盘与第一抛光盘水平方向上呈30°-45°倾斜角设置。
优选的，所述抛光度检测装置包括伸缩电机和检测罩，所述检测罩顶部与伸缩电机输出端固定连接，且伸缩电机顶部与设备主体内腔顶壁固定连接，所述检测罩设置于出料孔正上方。
优选的，所述除灰装置包括过风机和集灰网，所述过风机输出端延伸至集灰网内腔中，所述过风机输入端设置有进灰管，所述进灰管另一端贯穿设备主体顶壁，且延伸至设备主体内腔中，所述进灰管底端固定设置有收灰罩，且收灰罩位于设备主体内腔中于集料转盘顶端。
优选的，所述出料孔底端设置有斜料出管，所述斜料出管一端贯穿设备主体一侧壁，且延伸至设备主体外壁一侧，所述设备主体另一侧壁上固定设置有控制器，所述电磁阀、第一转动电机、电磁铁、第二转动电机、伸缩电机、检测罩和过风机均通过控制器与外接电源电性连接。
本发明还提供了一种高精度玻璃珠的抛光方法，其特征在于，包括以下具体方法：
步骤一：首先根据打磨需要通过控制器调节电磁阀、第一转动电机、电磁铁、第二转动电机、伸缩电机、检测罩和过风机的运行状态，并且设定好工作频率；
步骤二：然后通过人工将玻璃珠投入至进料槽中，然后通过对电磁铁的得电和断电使得电磁铁得到磁性和失去磁性，在电磁铁有磁性时吸引铁块，使得进料槽处于密封状态，在电磁铁失去磁性后失去对铁块的磁性，然后在复位弹簧的弹性势能的作用下铁块收缩到收纳槽中，然后玻璃珠从进料槽和波纹出料管掉落至集料转盘上；
步骤三：当玻璃珠落入至集料转盘上后滑落至玻璃珠卡孔中，并且通过上卡孔进行支撑，然后集料转盘在第一转动电机的运行下而缓慢运行，避免了玻璃珠从集料转盘上掉落，当集料转盘上的玻璃珠运动到抛光装置底端时，抛光盘在第二转动电机运行下高速转动，并且通过磨砂层达到对玻璃珠进行打磨抛光，另外在打磨抛光时，过风机运行并且产生强风，然后通过收灰罩将打磨抛光产生的玻璃灰和玻璃渣进行吸附，并且利用进灰管传送到集灰网中进行集中收集处理；
步骤四：当玻璃珠打磨抛光后随着集料转盘进入到抛光度检测装置正下方时，伸缩电机工作并且带动检测罩向下运行将打磨抛光后的玻璃珠进行罩住检测，然后将检测到的数据传递给控制器，如若检测抛光度符合要求，则通过控制器控制电磁阀打开，此时玻璃珠卡孔内检测合格的玻璃珠通过玻璃珠卡孔和出料孔依次掉落，最后通过斜料出管输送到下一个工位，如若检测抛光度不符合要求，则电磁阀不打开，并且在集料转盘上继续转动至抛光装置底端继续打磨抛光，直至抛光度符合生产要求即可。
本发明的技术效果和优点：
1、本发明通过集料转盘的转动使得上面的玻璃珠随着集料转盘的转动而转动，并且在集料转盘转动的同时利用集料转盘顶端设置的多个抛光装置对玻璃珠进行打磨抛光，然后利用抛光度检测装置对抛光后的玻璃珠进行检测，而检测不合格的玻璃珠继续进行转动打磨抛光，与现有一次性打磨相比，本发明的抛光装置效果更好，避免了个别玻璃珠抛光不均匀而直接输送至下一个工位，从而提高了玻璃珠的生产加工效率；
2、本发明通过将出料孔设置于抛光度检测装置正下方，使得抛光度检测装置对抛光后的玻璃珠进行检测后，检测合格后的玻璃珠直接通过电磁阀的打开而从玻璃珠卡孔中掉落至出料孔中，最后掉落至斜料出管输送至下一个工位，从而方便了玻璃珠在进行抛光检测过程中的输送；
3、本发明通过除灰装置的设置，有利于抛光装置在对玻璃珠进行打磨抛光时所产生的玻璃灰和玻璃渣经过除灰装置进行吸附，并且将吸附到的玻璃灰和玻璃渣输送至集灰网中进行集中收集，这样可以大大减少设备主体内腔中的灰尘感染，避免了设备主体内腔中存在的大量灰尘而造成内部各零件短路；
4、本发明结构简单，操作方便，使用安全，抛光效率高，而且还可以大大提高玻璃珠的抛光精准度。
附图说明
图1为本发明整体结构示意图。
图2为本发明图1中a处放大结构示意图。
图3为本发明图1中b处放大结构示意图。
图4为本发明集料转盘结构示意图。
图中：1、设备主体；2、进料斗；3、集料转盘；4、玻璃珠卡孔；41、上卡孔；42、下卡孔；5、连接槽；6、抛光装置；61、第二转动电机；62、抛光盘；63、磨砂层；64、连接杆；621、第一抛光盘；622、第二抛光盘；7、抛光度检测装置；71、伸缩电机；72、检测罩；8、除灰装置；81、过风机；82、集灰网；83、进灰管；84、收灰罩；9、支撑盘；10、出料孔；11、电磁阀；12、第一转动电机；13、支撑柱；14、进料槽；15、收纳槽；16、铁块；17、卡槽；18、卡块；19、滑杆；20、复位弹簧；21、电磁铁；22、波纹出料管；23、斜料出管；24、控制器。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
本发明提供了如图1-4所示的一种高精度玻璃珠的抛光设备，包括设备主体1和进料斗2，所述进料斗2固定设置于设备主体1顶部一侧，所述设备主体1内腔中设置有集料转盘3，所述集料转盘3顶部设置有多个玻璃珠卡孔4，且多个所述玻璃珠卡孔4呈弧形阵列分布于集料转盘3上，所述玻璃珠卡孔4底端贯穿集料转盘3，且延伸至集料转盘3底端一侧，相邻所述玻璃珠卡孔4之间设置有连接槽5，且多个所述玻璃珠卡孔4通过连接槽5首尾相互串联，所述集料转盘3顶端设置有多个抛光装置6，所述抛光装置6一侧设置有抛光度检测装置7，且抛光度检测装置7顶部与设备主体1内腔顶壁固定连接，所述设备主体1顶端固定设置有除灰装置8，且除灰装置8输入端延伸至设备主体1内腔中于集料转盘3正上方，所述集料转盘3底端设置有支撑盘9，且集料转盘3与支撑盘9呈活动卡接，所述支撑盘9顶端一侧设置有出料孔10，所述出料孔10底端贯穿支撑盘9，且延伸至支撑盘9底端一侧，所述出料孔10内固定设置有电磁阀11，通过集料转盘3的转动使得上面的玻璃珠随着集料转盘3的转动而转动，并且在集料转盘3转动的同时利用集料转盘3顶端设置的多个抛光装置6对玻璃珠进行打磨抛光，然后利用抛光度检测装置7对抛光后的玻璃珠进行检测，而检测不合格的玻璃珠继续进行转动打磨抛光，与现有一次性打磨相比，本发明的抛光装置效果更好，避免了个别玻璃珠抛光不均匀而直接输送至下一个工位，从而提高了玻璃珠的生产加工效率。
实施例2
与实施例1不同的是：
进一步的，在上述方案中，所述设备主体1内腔底部固定设置有第一转动电机12，所述第一转动电机12输出端贯穿支撑盘9，且延伸至支撑盘9顶端与集料转盘3底部固定连接，所述第一转动电机12两侧设置有支撑柱13，所述支撑柱13顶端与支撑盘9底部固定连接，且支撑柱13底端与设备主体1内腔底壁固定连接。
进一步的，在上述方案中，所述进料斗2顶端设置有进料槽14，所述进料槽14底端贯穿进料斗2和设备主体1顶壁，且延伸至设备主体1内腔中于集料转盘3顶端，所述进料槽14底端固定设置有波纹出料管22，且波纹出料管22设置于设备主体1内腔中于集料转盘3顶端。
进一步的，在上述方案中，所述进料槽14底端一侧壁开设有收纳槽15，所述收纳槽15内活动卡接有铁块16，所述收纳槽15一侧设置有卡槽17，且卡槽17延伸至进料斗2一侧内腔中，所述卡槽17内活动卡接有卡块18，所述卡块18一侧固定设置有滑杆19，且滑杆19延伸至收纳槽15内与铁块16固定连接，所述滑杆19底端设置有复位弹簧20，所述复位弹簧20两端分别与卡槽17一端壁和卡块18一侧底端固定连接，所述进料槽14底端另一侧壁镶嵌有电磁铁21，且铁块16和电磁铁21在同一水平，面上呈直线设置。
进一步的，在上述方案中，所述玻璃珠卡孔4包括上卡孔41和下卡孔42，所述下卡孔42设置于上卡孔41底端，且上卡孔41和下卡孔42形状分别设置为圆台形和圆柱形，所述上卡孔41最小直径大于等于下卡孔42任意处直径，有利于通过上卡孔41达到对玻璃珠的支撑效果，并且在玻璃珠打磨抛光后玻璃珠直径变小，直至通过下卡孔42掉落。
实施例3
与实施例1和实施例2不同的是：
进一步的，在上述方案中，所述抛光装置6包括第二转动电机61和抛光盘62，所述抛光盘62顶部与第二转动电机61输出端固定连接，所述抛光盘62底部固定设置有磨砂层63，多个所述抛光装置6上固定设置有连接杆64，且连接杆64顶部与设备主体1内腔顶壁固定连接，所述抛光盘62包括第一抛光盘621和第二抛光盘622，所述第二抛光盘622呈一体化设置于第一抛光盘621一侧，所述第二抛光盘622与第一抛光盘621水平方向上呈30°-45°倾斜角设置，这样使得玻璃珠在进入到抛光装置6底端时，避免了因玻璃珠高低不等而使得抛光盘62将玻璃珠挤压到外界，从而影响玻璃珠的抛光效率。
进一步的，在上述方案中，所述抛光度检测装置7包括伸缩电机71和检测罩72，所述检测罩72顶部与伸缩电机71输出端固定连接，且伸缩电机71顶部与设备主体1内腔顶壁固定连接，所述检测罩72设置于出料孔10正上方，通过检测罩72的设置，有利于在对玻璃珠进行检测时，直接利用检测罩72将玻璃珠进行罩住从而达到对抛光后的玻璃珠抛光度，并且将出料孔10设置于检测罩72正下方，使得抛光度检测装置7对抛光后的玻璃珠进行检测后，检测合格后的玻璃珠直接通过电磁阀11的打开而从玻璃珠卡孔4中掉落至出料孔10中，最后掉落至斜料出管23输送至下一个工位，从而方便了玻璃珠在进行抛光检测过程中的输送。
进一步的，在上述方案中，所述除灰装置8包括过风机81和集灰网82，所述过风机81输出端延伸至集灰网82内腔中，所述过风机81输入端设置有进灰管83，所述进灰管83另一端贯穿设备主体1顶壁，且延伸至设备主体1内腔中，所述进灰管83底端固定设置有收灰罩84，且收灰罩84位于设备主体1内腔中于集料转盘3顶端，通过除灰装置8的设置，有利于抛光装置6在对玻璃珠进行打磨抛光时所产生的玻璃灰和玻璃渣经过除灰装置8进行吸附，并且将吸附到的玻璃灰和玻璃渣输送至集灰网82中进行集中收集，这样可以大大减少设备主体1内腔中的灰尘感染，避免了设备主体1内腔中存在的大量灰尘而造成内部各零件短路。
进一步的，在上述方案中，所述出料孔10底端设置有斜料出管23，所述斜料出管23一端贯穿设备主体1一侧壁，且延伸至设备主体1外壁一侧，所述设备主体1另一侧壁上固定设置有控制器24，所述电磁阀11、第一转动电机12、电磁铁21、第二转动电机61、伸缩电机71、检测罩72和过风机81均通过控制器24与外接电源电性连接。
实施例4
与实施例1、实施例2和实施例3不同的是：
本发明还提供了一种高精度玻璃珠的抛光方法，包括以下具体方法：
步骤一：首先根据打磨需要通过控制器24调节电磁阀11、第一转动电机12、电磁铁21、第二转动电机61、伸缩电机71、检测罩72和过风机81的运行状态，并且设定好工作频率；
步骤二：然后通过人工将玻璃珠投入至进料槽14中，然后通过对电磁铁21的得电和断电使得电磁铁21得到磁性和失去磁性，在电磁铁21有磁性时吸引铁块16，使得进料槽14处于密封状态，在电磁铁21失去磁性后失去对铁块16的磁性，然后在复位弹簧20的弹性势能的作用下铁块16收缩到收纳槽15中，然后玻璃珠从进料槽14和波纹出料管22掉落至集料转盘3上；
步骤三：当玻璃珠落入至集料转盘3上后滑落至玻璃珠卡孔4中，并且通过上卡孔41进行支撑，然后集料转盘3在第一转动电机12的运行下而缓慢运行，避免了玻璃珠从集料转盘3上掉落，当集料转盘3上的玻璃珠运动到抛光装置6底端时，抛光盘62在第二转动电机61运行下高速转动，并且通过磨砂层63达到对玻璃珠进行打磨抛光，另外在打磨抛光时，过风机81运行并且产生强风，然后通过收灰罩84将打磨抛光产生的玻璃灰和玻璃渣进行吸附，并且利用进灰管83传送到集灰网82中进行集中收集处理；
步骤四：当玻璃珠打磨抛光后随着集料转盘3进入到抛光度检测装置7正下方时，伸缩电机71工作并且带动检测罩72向下运行将打磨抛光后的玻璃珠进行罩住检测，然后将检测到的数据传递给控制器24，如若检测抛光度符合要求，则通过控制器24控制电磁阀11打开，此时玻璃珠卡孔4内检测合格的玻璃珠通过玻璃珠卡孔4和出料孔10依次掉落，最后通过斜料出管23输送到下一个工位，如若检测抛光度不符合要求，则电磁阀11不打开，并且在集料转盘3上继续转动至抛光装置6底端继续打磨抛光，直至抛光度符合生产要求即可。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
1.一种高精度玻璃珠的抛光设备，包括设备主体(1)和进料斗(2)，其特征在于：所述进料斗(2)固定设置于设备主体(1)顶部一侧，所述设备主体(1)内腔中设置有集料转盘(3)，所述集料转盘(3)顶部设置有多个玻璃珠卡孔(4)，且多个所述玻璃珠卡孔(4)呈弧形阵列分布于集料转盘(3)上，所述玻璃珠卡孔(4)底端贯穿集料转盘(3)，且延伸至集料转盘(3)底端一侧，相邻所述玻璃珠卡孔(4)之间设置有连接槽(5)，且多个所述玻璃珠卡孔(4)通过连接槽(5)首尾相互串联，所述集料转盘(3)顶端设置有多个抛光装置(6)，所述抛光装置(6)一侧设置有抛光度检测装置(7)，且抛光度检测装置(7)顶部与设备主体(1)内腔顶壁固定连接，所述设备主体(1)顶端固定设置有除灰装置(8)，且除灰装置(8)输入端延伸至设备主体(1)内腔中于集料转盘(3)正上方，所述集料转盘(3)底端设置有支撑盘(9)，且集料转盘(3)与支撑盘(9)呈活动卡接，所述支撑盘(9)顶端一侧设置有出料孔(10)，所述出料孔(10)底端贯穿支撑盘(9)，且延伸至支撑盘(9)底端一侧，所述出料孔(10)内固定设置有电磁阀(11)。
2.根据权利要求1所述的一种高精度玻璃珠的抛光设备，其特征在于：所述设备主体(1)内腔底部固定设置有第一转动电机(12)，所述第一转动电机(12)输出端贯穿支撑盘(9)，且延伸至支撑盘(9)顶端与集料转盘(3)底部固定连接，所述第一转动电机(12)两侧设置有支撑柱(13)，所述支撑柱(13)顶端与支撑盘(9)底部固定连接，且支撑柱(13)底端与设备主体(1)内腔底壁固定连接。
3.根据权利要求2所述的一种高精度玻璃珠的抛光设备，其特征在于：所述进料斗(2)顶端设置有进料槽(14)，所述进料槽(14)底端贯穿进料斗(2)和设备主体(1)顶壁，且延伸至设备主体(1)内腔中于集料转盘(3)顶端，所述进料槽(14)底端固定设置有波纹出料管(22)，且波纹出料管(22)设置于设备主体(1)内腔中于集料转盘(3)顶端。
4.根据权利要求3所述的一种高精度玻璃珠的抛光设备，其特征在于：所述进料槽(14)底端一侧壁开设有收纳槽(15)，所述收纳槽(15)内活动卡接有铁块(16)，所述收纳槽(15)一侧设置有卡槽(17)，且卡槽(17)延伸至进料斗(2)一侧内腔中，所述卡槽(17)内活动卡接有卡块(18)，所述卡块(18)一侧固定设置有滑杆(19)，且滑杆(19)延伸至收纳槽(15)内与铁块(16)固定连接，所述滑杆(19)底端设置有复位弹簧(20)，所述复位弹簧(20)两端分别与卡槽(17)一端壁和卡块(18)一侧底端固定连接，所述进料槽(14)底端另一侧壁镶嵌有电磁铁(21)，且铁块(16)和电磁铁(21)在同一水平，面上呈直线设置。
5.根据权利要求4所述的一种高精度玻璃珠的抛光设备，其特征在于：所述玻璃珠卡孔(4)包括上卡孔(41)和下卡孔(42)，所述下卡孔(42)设置于上卡孔(41)底端，且上卡孔(41)和下卡孔(42)形状分别设置为圆台形和圆柱形，所述上卡孔(41)最小直径大于等于下卡孔(42)任意处直径。
6.根据权利要求5所述的一种高精度玻璃珠的抛光设备，其特征在于：所述抛光装置(6)包括第二转动电机(61)和抛光盘(62)，所述抛光盘(62)顶部与第二转动电机(61)输出端固定连接，所述抛光盘(62)底部固定设置有磨砂层(63)，多个所述抛光装置(6)上固定设置有连接杆(64)，且连接杆(64)顶部与设备主体(1)内腔顶壁固定连接，所述抛光盘(62)包括第一抛光盘(621)和第二抛光盘(622)，所述第二抛光盘(622)呈一体化设置于第一抛光盘(621)一侧，所述第二抛光盘(622)与第一抛光盘(621)水平方向上呈30°-45°倾斜角设置。
7.根据权利要求6述的一种高精度玻璃珠的抛光设备，其特征在于：所述抛光度检测装置(7)包括伸缩电机(71)和检测罩(72)，所述检测罩(72)顶部与伸缩电机(71)输出端固定连接，且伸缩电机(71)顶部与设备主体(1)内腔顶壁固定连接，所述检测罩(72)设置于出料孔(10)正上方。
8.根据权利要求7所述的一种高精度玻璃珠的抛光设备，其特征在于：所述除灰装置(8)包括过风机(81)和集灰网(82)，所述过风机(81)输出端延伸至集灰网(82)内腔中，所述过风机(81)输入端设置有进灰管(83)，所述进灰管(83)另一端贯穿设备主体(1)顶壁，且延伸至设备主体(1)内腔中，所述进灰管(83)底端固定设置有收灰罩(84)，且收灰罩(84)位于设备主体(1)内腔中于集料转盘(3)顶端。
9.根据权利要求8所述的一种高精度玻璃珠的抛光设备，其特征在于：所述出料孔(10)底端设置有斜料出管(23)，所述斜料出管(23)一端贯穿设备主体(1)一侧壁，且延伸至设备主体(1)外壁一侧，所述设备主体(1)另一侧壁上固定设置有控制器(24)，所述电磁阀(11)、第一转动电机(12)、电磁铁(21)、第二转动电机(61)、伸缩电机(71)、检测罩(72)和过风机(81)均通过控制器(24)与外接电源电性连接。
10.一种高精度玻璃珠的抛光方法，其特征在于，包括以下具体方法：
步骤一：首先根据打磨需要通过控制器(24)调节电磁阀(11)、第一转动电机(12)、电磁铁(21)、第二转动电机(61)、伸缩电机(71)、检测罩(72)和过风机(81)的运行状态，并且设定好工作频率；
步骤二：然后通过人工将玻璃珠投入至进料槽(14)中，然后通过对电磁铁(21)的得电和断电使得电磁铁(21)得到磁性和失去磁性，在电磁铁(21)有磁性时吸引铁块(16)，使得进料槽(14)处于密封状态，在电磁铁(21)失去磁性后失去对铁块(16)的磁性，然后在复位弹簧(20)的弹性势能的作用下铁块(16)收缩到收纳槽(15)中，然后玻璃珠从进料槽(14)和波纹出料管(22)掉落至集料转盘(3)上；
步骤三：当玻璃珠落入至集料转盘(3)上后滑落至玻璃珠卡孔(4)中，并且通过上卡孔(41)进行支撑，然后集料转盘(3)在第一转动电机(12)的运行下而缓慢运行，避免了玻璃珠从集料转盘(3)上掉落，当集料转盘(3)上的玻璃珠运动到抛光装置(6)底端时，抛光盘(62)在第二转动电机(61)运行下高速转动，并且通过磨砂层(63)达到对玻璃珠进行打磨抛光，另外在打磨抛光时，过风机(81)运行并且产生强风，然后通过收灰罩(84)将打磨抛光产生的玻璃灰和玻璃渣进行吸附，并且利用进灰管(83)传送到集灰网(82)中进行集中收集处理；
步骤四：当玻璃珠打磨抛光后随着集料转盘(3)进入到抛光度检测装置(7)正下方时，伸缩电机(71)工作并且带动检测罩(72)向下运行将打磨抛光后的玻璃珠进行罩住检测，然后将检测到的数据传递给控制器(24)，如若检测抛光度符合要求，则通过控制器(24)控制电磁阀(11)打开，此时玻璃珠卡孔(4)内检测合格的玻璃珠通过玻璃珠卡孔(4)和出料孔(10)依次掉落，最后通过斜料出管(23)输送到下一个工位，如若检测抛光度不符合要求，则电磁阀(11)不打开，并且在集料转盘(3)上继续转动至抛光装置(6)底端继续打磨抛光，直至抛光度符合生产要求即可。
技术总结