一种光学成像膜的制作方法

专利2026-10-03  3


本申请涉及薄膜,具体的涉及一种周期或变周期成像的光学成像膜、制备方法。


背景技术:

1、3d成像技术受到越来越多的关注,已成功应用于信息、显示、防伪、装饰等领域。基于微透镜阵列实现的成像技术具有极大的潜力和发展前景,逐渐发展成为最具潜力和前景的自动显示技术,其成像通常采用莫尔成像技术,形成光学成像膜。随着微透镜阵列制造工艺的发展和高分辨率印刷和图像传感器的普及,3d成像技术吸引了越来越多的关注,3d成像的各项性能,比如景深,视角等,也得到了较大的提升,但仍然需要改进。


技术实现思路

1、本申请的创作如下:发明人研究分析发现,3d成像技术形成的上浮或下沉的图像与透镜阵列和图文的周期相关,且形成的图像的成像的高度、大小、分布等受到透镜阵列与图文的周期比(比例因子)的限制,例如透镜分布方式是周期蜂窝分布,则变周期要么采用一维变周期分布,要么为正六边形变化分布,但是设计不了圆形分布,而只能做出有限制条件的成像薄膜。

2、基于此,本发明的一个方面,提供一种新的光学成像膜的制备方法,该方法通过预设的成像的高度或下沉的深度进行逆算并据此配置图文层来制作周期、变周期或局部变周期的效果成像膜其防伪性能更佳。

3、为了实现上述目的,本申请采用如下技术方案,

4、一种光学成像膜,其特征在于,包括:

5、聚焦层和图文层,

6、所述聚焦层包括至少一个聚焦单元,所述聚焦单元包括:多个微透镜;

7、所述图文层包括至少一个图文单元,所述图文单元包括多个微图文,且所述微图文与微透镜对应设置;

8、存在至少一个所述聚焦单元的多个微透镜与所述图文单元的多个微图文相适配以形成预设图像的影像,其中所述预设图像的像高变化设置,相应的微透镜或微图文的位置偏移设置;

9、该光学成像膜呈现二维变周期分布的图像或呈现圆形渐变分布的图像。光学成像膜,其成像具有周期、变周期或局部变周期的显示效果,由于图文层的微图文的大小和周期各不相同,参数不能被测量,使得该光学成像膜的防伪性能更佳。

10、在一实施方式中,该微图文设置为预设图像的图案,以形成预设图像的放大影像或所述微图文为预设图像的部分图案,以形成预设图像的放大影像。

11、在一实施方式中,该预设图像为平面网格,每个微图文均设置为所述平面网格的部分网格图案,通过微图文和聚焦单元对应设置形成立体图像。

12、在一实施方式中,该光学成像膜还包括中间层,聚焦层和图文层分别设置于中间层的两侧。

13、在一实施方式中,该光学成像膜还包括着色层,配置于图文层的远离聚焦层的一侧。

14、有益效果

15、相对于现有技术中的方案,本申请提出的光学成像膜,其成像具有周期、变周期或局部变周期的显示效果,由于图文层的微图文的大小和周期各不相同,参数不能被测量,使得该光学成像膜的防伪性能更佳。该光学成像膜可应用于防伪要求高的场合。光学成像膜具有较好的装饰效果,可应用于产品外包装、电子设备壳体等装饰领域。



技术特征:

1.一种光学成像膜,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,所述微图文设置为预设图像的图案,以形成预设图像的放大影像或所述微图文为预设图像的部分图案,以形成预设图像的放大影像。

3.如权利要求2所述的光学成像膜,其特征在于,

4.根据权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,

5.根据权利要求1所述的光学成像膜,其特征在于,


技术总结
本申请提出一种光学成像膜。该光学成像膜包括聚焦层和图文层,聚焦层包括至少一个聚焦单元,聚焦单元包括多个微透镜,其成随机分布或阵列分布;图文层包括至少一个图文单元,图文单元包括:多个微图文,且微图文与微透镜对应设置,微图文的大小和周期各不相同;存在至少一个聚焦单元的多个微透镜与图文单元的多个微图文相适配以形成预设图像的影像,其中预设图像的影像的像高变化设置,相应的微透镜或微图文的位置偏移设置;光学成像膜呈现二维变周期分布的图像或呈现圆形渐变分布的图像。这样该成像膜具有较好的装饰效果同时难以仿制,使得其可应用于防伪要求高的场合。

技术研发人员:郑伟伟,陈适宇,申溯
受保护的技术使用者:昇印光电(昆山)股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/7/25
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