本申请属于光刻，更具体地说，是涉及一种光刻掩膜的制造方法。
背景技术：
1、光刻掩膜是一种光学掩膜，它由透明底板上涂覆遮光层和相移层构成。制造光刻掩膜时，首先在透明底板上依次形成遮光层和相移层，然后在相移层上形成光刻胶层，随后使用光绘机对光刻胶层进行曝光处理，光刻胶层会被划分成为被曝光的曝光部分和未被曝光的完好部分，其中，完好部分需完全覆盖遮光层，随即对光刻胶层进行显影处理，以去除曝光部分，接着对相移层进行蚀刻处理，以使相移层仅保留被完好部分覆盖的部分，最后去除剩余的光刻胶层即可。
2、使用光绘机对光刻胶层曝光时，需使用高精度的光绘机，这样才能保证完好部分能够完全覆盖遮光层，这种制造方式导致制造成本急剧增加。
技术实现思路
1、本申请实施例的目的在于提供一种光刻掩膜及其制造方法，旨在解决现有技术中需采用高精度的光绘机才能精准曝光光刻胶层的技术问题。
2、为实现上述目的，根据本申请的一个方面，提供了一种光刻掩膜的制造方法，包括：在透明底板上形成第一功能层；在第一功能层上形成第二功能层，其中，第一功能层和第二功能层中的一者为遮光层，另一者为相移层；遮光层具有多个间隔排布的遮光部，相邻的两个遮光部之间的区域为透光区域，相移层具有插入部，插入部的部分结构位于透光区域内；在第二功能层上形成光刻胶层，其中，光刻胶层覆盖遮光层；分多次朝向透明底板远离遮光层的表面射入不同传播方向的曝光光束，以使光刻胶层被曝光成为内曝光部、完好部以及外曝光部，完好部覆盖相邻的两个遮光部，内曝光部覆盖相邻的两个遮光部之间的透光区域，完好部完全包裹内曝光部，外曝光部位于完好部的一侧；对光刻胶层显影；对相移层蚀刻；去除内曝光部和完好部。
3、可选地，分两次朝向透明底板远离遮光层的表面射入不同传播方向的曝光光束；其中，第一次射入的曝光光束为第一曝光光束，第二次射入的曝光光束为第二曝光光束，第一曝光光束的传播方向与第二曝光光束的传播方向互成夹角。
4、可选地，第一曝光光束的入射角度与第二曝光光束的入射角度相同；光刻胶层中的被第一曝光光束所曝光的部分的长度为第一长度，光刻胶层中的被第二曝光光束所曝光的部分的长度为第二长度，第二长度等于第一长度。
5、可选地，分三次朝向透明底板远离遮光层的表面射入不同传播方向的曝光光束；第一次射入的曝光光束为第一曝光光束，第二次射入的曝光光束为第二曝光光束，第三次射入的曝光光束为第三曝光光束，第一曝光光束的传播方向与第二曝光光束的传播方向互成夹角，第二曝光光束的传播方向与第三曝光光束的传播方向互成夹角，第一曝光光束的传播方向与第三曝光光束的传播方向互成夹角。
6、可选地，第一曝光光束的入射角度为零，第二曝光光束的入射角度与第三曝光光束的入射角度相同；光刻胶层中的被第一曝光光束所曝光的部分的长度为第一长度，光刻胶层中的被第二曝光光束所曝光的部分的长度为第二长度，光刻胶层中的被第三曝光光束所曝光的部分的长度为第三长度，光刻胶层的厚度为第一长度的三倍，第三长度等于第二长度。
7、可选地，光刻胶层中的被曝光光束所曝光的部分的厚度为t，光刻胶层中的被曝光光束所曝光的部分的长度为l，曝光光束的入射角度为α，l＝t/cosα。
8、可选地，相邻的两个遮光部之间的间距为第一间距；插入部具有第一表面和与第一表面相对的第二表面，插入部的第一表面与插入部的第二表面之间的连线方向与相邻的两个遮光部之间的连线方向相平行，插入部的第一表面与插入部的第二表面之间的间距为第二间距；两个遮光部相互远离的表面之间的间距为第三间距；第二间距大于等于第一间距，第二间距小于第三间距。
9、可选地，遮光层形成在透明底板的表面上，相移层形成在遮光层上。
10、可选地，相移层形成在透明底板的表面上，遮光层形成在相移层上。
11、根据本申请的另一个方面，提供了一种光刻掩膜，包括透明底板、第一功能层以及第二功能层，第一功能层设在透明底板上，第二功能层设在第一功能层上；第一功能层和第二功能层中的一者为遮光层，另一者为相移层；遮光层具有多个间隔排布的遮光部，相邻的两个遮光部之间的区域为透光区域，相移层具有插入部，插入部的部分结构位于透光区域内。
12、本申请提供的光刻掩膜的制造方法的有益效果在于：与现有技术相比，制造光刻掩膜时，首先在透明底板的表面上形成第一功能层，并在第一功能层上形成第二功能层；随后使光刻胶层形成在第二功能层上；接着分多次朝向透明底板远离遮光层的表面射入不同传播方向的曝光光束，每次发射的曝光光束均能够通过插入部射入光刻胶层内，经多次曝光光束曝光后，光刻胶层将被划分成为经过曝光处理的内曝光部、未经曝光处理的完好部以及经过曝光处理的外曝光部，其中，内曝光部完全覆盖透光区域，完好部完全覆盖相邻的两个遮光部，同时完好部位于内曝光部和外曝光部之间；随即对光刻胶层进行显影处理，由于完好部并未被曝光，同时内曝光部被完好部完全包裹，因此经显影处理后，外曝光部将被去除；随后，对相移层进行蚀刻处理，由于完好部覆盖相邻的两个遮光部，同时内曝光部覆盖插入部，因此相移层经蚀刻处理后将只保留被完好部和内曝光部所覆盖的部分结构；最后去除完好部和内曝光部，并对制造完成的光刻掩膜进行必要的清洗和处理，以保证光刻掩膜的质量和可靠性。通过采用本申请中的光刻掩膜的制造方法制造光刻掩膜，无需再使用高精度的光绘机对光刻胶层进行曝光处理，只需多次朝向透明底板远离遮光层的表面射入不同传播方向的曝光光束即可实现光刻胶层的曝光处理，不仅降低了制造难度，同时还节省了制造成本。
1.一种光刻掩膜的制造方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光刻掩膜的制造方法，其特征在于，分两次朝向所述透明底板远离所述遮光层的表面射入不同传播方向的所述曝光光束；
3.根据权利要求2所述的光刻掩膜的制造方法，其特征在于，所述第一曝光光束的入射角度与所述第二曝光光束的入射角度相同；
4.根据权利要求1所述的光刻掩膜的制造方法，其特征在于，分三次朝向所述透明底板远离所述遮光层的表面射入不同传播方向的所述曝光光束；
5.根据权利要求4所述的光刻掩膜的制造方法，其特征在于，所述第一曝光光束的入射角度为零，所述第二曝光光束的入射角度与所述第三曝光光束的入射角度相同；
6.根据权利要求2至5中任一项所述的光刻掩膜的制造方法，其特征在于，所述光刻胶层中的被所述曝光光束所曝光的部分的厚度为t，所述光刻胶层中的被所述曝光光束所曝光的部分的长度为l，所述曝光光束的入射角度为α，l＝t/cosα。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的光刻掩膜的制造方法，其特征在于，相邻的两个所述遮光部之间的间距为第一间距；所述插入部具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述插入部的第一表面与所述插入部的第二表面之间的连线方向与相邻的两个所述遮光部之间的连线方向相平行，所述插入部的第一表面与所述插入部的第二表面之间的间距为第二间距；两个所述遮光部相互远离的表面之间的间距为第三间距；所述第二间距大于等于所述第一间距，所述第二间距小于所述第三间距。
8.根据权利要求1至5中任一项所述的光刻掩膜的制造方法，其特征在于，所述遮光层形成在所述透明底板的表面上，所述相移层形成在所述遮光层上。
9.根据权利要求1至5中任一项所述的光刻掩膜的制造方法，其特征在于，所述相移层形成在所述透明底板的表面上，所述遮光层形成在所述相移层上。
10.一种光刻掩膜，其特征在于，采用权利要求7所述的制造方法制造，包括透明底板、第一功能层以及第二功能层，所述第一功能层设在所述透明底板上，所述第二功能层设在所述第一功能层上；
