本技术涉及硅片生产，具体涉及一种基于硅片清洗的药剂槽。
背景技术：
1、晶体硅作为太阳能电池的主要原料，在推动世界光伏产业的发展中起到了举足轻重的作用。在太阳能电池的制造中，晶体硅占整个电池制造成本的68.5％，其中硅片(切片后)占12.3％。因此提高晶体硅在各道加工工序中的成品率是降低太阳能电池成本的一个关键步骤。
2、在硅片加工过程中，所有与硅片接触的外部媒介都可能是硅片污染物的来源。由此可知，硅片表面的污染物来源主要有：加工器械带来的污染，加工液的污染、环境污染、操作人员带来的污染以及加工过程中硅片表面发生化学反应产生的污染等。
3、随着太阳能工业的发展，对硅片表面洁净度的要求也越来越高，这在一定程度上促进了硅片清洗技术的发展，也促进了人们对硅片清洗工艺的研究。硅片表面的湿法清洗是半导体和太阳能电池领域非常重要的一个环节，在半导体工业中，由于表面清洗不干净引起的芯片失效已超过制造环节总损失的一半以上，其清洗质量、清洗效率的高低将直接影响到产品的性能乃至可靠性、稳定性。在太阳能电池制造流程中，硅片需要经过多次清洗的环节以保证杂质、污染物、金属离子等成分的去除，清洗质量的好坏对太阳能电池的转换效率、可靠性、稳定性同样有极大的影响。
4、槽式清洗是硅片的主要清洗方式，在槽式清洗中，通过槽中的含有化学品的清洗液和硅片表面发生一系列的化学反应来减少硅片表面的金属和颗粒等杂质的含量。槽式清洗过程中，由超纯水和化学品液混合而成的清洗液中的化学品的浓度对于硅片的清洗效果是重要的，比如在配制清洗液的过程中，超纯水和化学品液的量应当足够精确以获得化学品浓度精确的清洗液，再比如，由于化学品是挥发性的，在利用清洗液清洗硅片的过程中，清洗液的浓度会发生变化，需要向清洗液中补充化学品液来补偿浓度发生的变化。
5、现有的药剂槽包括内槽和外槽，内槽设置在外槽的内部，内槽的外壁与外槽的内壁之间形成溢流排水道，由于内槽的周围被外槽阻挡，内槽中的液体不易实现循环流动节能。再者，药剂清洗过程中会产生碎渣，或花篮中部分硅片不慎破碎落在内槽中难以清理。
技术实现思路
1、针对现有技术存在上述技术问题，本实用新型提供一种基于硅片清洗的药剂槽。
2、为实现上述目的，本实用新型提供以下技术方案：
3、提供一种基于硅片清洗的药剂槽，包括开口朝上的药剂槽体，药剂槽体内部设置有超声波振板、用于承托装载有硅片的花篮的药洗托架、以及固定于药剂槽体顶部周缘的溢流槽道，药剂槽体的侧壁顶部设置有消泡齿牙，超声波振板位于药洗托架的下方，且超声波振板与药洗托架之间设置有可抬离的过滤网；药剂槽体连接有依次连接形成循环水路的药剂进水管、药剂出水管、药剂泵和过滤器。
4、具体的，药剂槽体的内壁设置有用于支撑药洗托架的止位凸起。
5、具体的，药剂槽体的内壁对应药剂进水管之处设置有导流罩，导流罩与药剂槽体的内壁围成开口朝下的导流通道。
6、具体的，药剂槽体的底部截面呈梯形，其包括与其侧壁衔接的斜底壁和衔接两个斜底壁的平底壁。
7、具体的，平底壁倾斜布置，且在其低位连接有排污口和掏渣口。
8、具体的，药剂槽体的底部还设置有电热管。
9、具体的，溢流槽道包括整体呈“[”形的底壁、立壁和顶壁，底壁密封地固定于药剂槽体的靠近端口的外壁，底壁连接有溢流接管。
10、具体的，药洗托架包括横架体和固定于横架体两端部的竖架体，竖架体的上端设有折弯架，花篮放置在横架体上。
11、具体的，横架体的侧部设有用于抵住花篮的阻挡翻边，阻挡翻边开有供花篮的凸起嵌入的多个限位槽。
12、具体的，药剂槽体的外壁固定有踏板。
13、本实用新型的有益效果：
14、本实用新型的一种基于硅片清洗的药剂槽，与现有技术相比，溢流槽道布置于药剂槽体的顶部，因此药剂槽体的其它部位便于连接形成循环水路的药剂进水管、药剂出水管、药剂泵和过滤器，提高药剂的利用率，更节能化；再者，超声波振板与药洗托架之间设置有可抬离的过滤网，便于将清洗过程中产生的碎渣、破碎硅片清理。
1.一种基于硅片清洗的药剂槽，其特征是：包括开口朝上的药剂槽体，药剂槽体内部设置有超声波振板、用于承托装载有硅片的花篮的药洗托架、以及固定于药剂槽体顶部周缘的溢流槽道，药剂槽体的侧壁顶部设置有消泡齿牙，超声波振板位于药洗托架的下方，且超声波振板与药洗托架之间设置有可抬离的过滤网；药剂槽体连接有依次连接形成循环水路的药剂进水管、药剂出水管、药剂泵和过滤器。
2.根据权利要求1所述的一种基于硅片清洗的药剂槽，其特征是：药剂槽体的内壁设置有用于支撑药洗托架的止位凸起。
3.根据权利要求1所述的一种基于硅片清洗的药剂槽，其特征是：药剂槽体的内壁对应药剂进水管之处设置有导流罩，导流罩与药剂槽体的内壁围成开口朝下的导流通道。
4.根据权利要求1所述的一种基于硅片清洗的药剂槽，其特征是：药剂槽体的底部截面呈梯形，其包括与其侧壁衔接的斜底壁和衔接两个斜底壁的平底壁。
5.根据权利要求4所述的一种基于硅片清洗的药剂槽，其特征是：平底壁倾斜布置，且在其低位连接有排污口和掏渣口。
6.根据权利要求1所述的一种基于硅片清洗的药剂槽，其特征是：药剂槽体的底部还设置有电热管。
7.根据权利要求1所述的一种基于硅片清洗的药剂槽，其特征是：溢流槽道包括整体呈“[”形的底壁、立壁和顶壁，底壁密封地固定于药剂槽体的靠近端口的外壁，底壁连接有溢流接管。
8.根据权利要求1所述的一种基于硅片清洗的药剂槽，其特征是：药洗托架包括横架体和固定于横架体两端部的竖架体，竖架体的上端设有折弯架，花篮放置在横架体上。
9.根据权利要求8所述的一种基于硅片清洗的药剂槽，其特征是：横架体的侧部设有用于抵住花篮的阻挡翻边，阻挡翻边开有供花篮的凸起嵌入的多个限位槽。
10.根据权利要求1所述的一种基于硅片清洗的药剂槽，其特征是：药剂槽体的外壁固定有踏板。
