本发明属于高纯光纤材料存储容器清洗，具体的说，涉及一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法。
背景技术：
1、超高纯光纤材料存储容器用于存储纯度达到8个n以上的光纤用超高纯四氯化锗。光纤用四氯化锗与普通四氯化锗相比，砷、铅等有害杂质元素不能被检测出，碳氢、氢氧、氢氯等基团的红外吸收峰透过率要高于97%以上。因此，超高纯光纤材料存储容器在使用过程中，对其内壁的洁净度要求极高。由于其内部存储的物品纯度极高，因此哪怕是非常微量的杂质带入都会影响其存储产品的质量，降低其良率。
2、对于用于存储超高纯光纤材料的容器不管是新的容器，还是使用过以后被污染的容器，在灌装超高纯四氯化锗之前，必须对存储容器进行彻底清洗，以防止存储容器内的杂质对超高纯四氯化锗造成二次污染。
3、相关技术中公开号为cn219683514u的《一种四氯化锗储料罐清洗装置》，用以解决现有技术中无法对储存罐内部进行持续冲洗，清洗效果差的技术问题。该专利中提供的四氯化锗储料罐清洗装置，安装座形成有清洗区，压紧组件沿竖直方向活动安装于安装座，且位于清洗区的上方，清洗管设于清洗区的中部，并且竖直向上延伸设置，清洗管设有流道以及连通流道的清洗孔，清洗孔设有多个，多个清洗孔沿清洗管的周向和轴向间隔布设，具体使用时，首先向储料罐倒置放置于清洗区，也即储料罐的罐口对应清洗区设置，随后驱动压紧组件，通过压紧组件将储料罐压紧于清洗区上，由于清洗管位于清洗区的中部，所以此时清洗管位于储料罐内，随后泵水组件通过清洗管向储料罐内泵水，并通过多个清洗孔清洗储料罐的侧壁，具有较好地清洗效果，本实用新型能够持续对储料罐内部进行冲洗，提高清洗效率。
4、从该专利文件中可以看出，在对储料罐内壁进行清洗时，其完全依托于清水对储料罐内壁进行冲洗。然而，对于一些污染较厉害的储料罐，其内壁上的污染物包括有锈迹、氧化斑块等，上述清洗装置、清洗方法并不能将其有效去除，达不到储存超高纯光纤材料产品的要求。
5、此外，相关技术中公开号为cn103754428b的《一种光纤用四氯化锗的灌装方法》，该发明的灌装方法是将锗储罐进行氮气吹洗，然后在四氯化锗储罐清洗机内进行旋转清洗。然而，对于罐体内壁上的锈迹、氧化斑块等污染物，该发明中的氮气吹洗以及旋转清洗同样不能将其有效去除，因而对于具有这一类污染物的锗储罐来说，上述灌装方法依然不能满足清洗后储存超高纯光纤材料产品的要求。
6、因此，对于本领域技术人员来说，设计研究提供一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，可以高效去除锈迹、氧化斑块等污染物，从而满足超高纯光纤材料对于存储容器的洁净要求，一直是亟待解决的技术难题。
技术实现思路
1、为了克服背景技术中存在的问题，本发明提供了一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，按照此清洗方法操作，可以满足超高纯光纤材料对于存储容器的洁净要求，避免清洗过程中容器受污染、受损伤，从而保证存储的超高纯光纤材料器件的良率。
2、为实现上述目的，本发明是通过如下技术方案实现的：
3、一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，所述存储容器包括用于盛装超高纯光纤材料的罐体本体；对罐体本体清洗时包括以下步骤：
4、（1）纯水浸泡
5、先将待清洗的罐体本体单独拆卸下来，在罐体本体内注入纯水进行浸泡，然后排空纯水；
6、（2）混合酸溶液清洗
7、将分析纯氢氟酸、硝酸、纯水按照体积比1:3:6的比例配置成混合酸溶液；在罐体本体内注入一定量配好的混合酸溶液，翻滚罐体本体，确保罐体本体内壁都被混合酸液浸润到，然后倒出混合酸溶液；
8、（3）纯水冲洗
9、用流动的纯水对罐体本体内壁进行冲洗；
10、（4）脱水干燥
11、冲洗完毕以后，将罐体本体内壁擦干，并用高纯惰性气体吹扫，清洗结束。
12、优选地，所述步骤（1）中纯水浸泡时往罐体本体内注入1/3容积的纯水进行浸泡，用洁净布沾纯水擦拭罐体本体整个内壁，擦拭结束后排出纯水。
13、优选地，所述步骤（2）中在罐体本体内注入的混合酸溶液量以没过罐体本体底部为准。
14、优选地，所述步骤（3）中用流动的纯水冲洗15min以上。
15、优选地，所述步骤（4）中冲洗完毕以后，用百洁布擦干罐体本体内壁水分，然后用百洁布沾酒精擦拭罐体本体内壁，继续脱水，最后用高纯惰性气体吹扫罐体本体内壁。
16、优选地，所述高纯惰性气体为氩气或氮气。
17、优选地，所述高纯惰性气体吹扫时间为5~10min。
18、本发明的有益效果：
19、1、本发明清洗流程简单，清洗试剂廉价易得，解决了现有清洗方法清洗效果不达标、容器容易受污染、受损伤的问题，按照本发明中的清洗方法操作，可以满足超高纯光纤材料对于存储容器的洁净要求，且避免清洗过程中容器受污染、受损伤，从而保证存储的超高纯光纤材料器件的良率。
20、2、本发明实现了存储超高纯光纤材料容器清洗的规范化和标准化，具有广泛的适用性。
1.一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，所述存储容器包括用于盛装超高纯光纤材料的罐体本体；其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，其特征在于，所述步骤（1）中纯水浸泡时往罐体本体内注入1/3容积的纯水进行浸泡，用洁净布沾纯水擦拭罐体本体整个内壁，擦拭结束后排出纯水。
3.根据权利要求1所述的一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，其特征在于，所述步骤（2）中在罐体本体内注入的混合酸溶液量以没过罐体本体底部为准。
4.根据权利要求1所述的一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，其特征在于，所述步骤（3）中用流动的纯水冲洗15min以上。
5.根据权利要求1所述的一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，其特征在于，所述步骤（4）中冲洗完毕以后，用百洁布擦干罐体本体内壁水分，然后用百洁布沾酒精擦拭罐体本体内壁，继续脱水，最后用高纯惰性气体吹扫罐体本体内壁。
6.根据权利要求1所述的一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，其特征在于，所述高纯惰性气体为氩气或氮气。
7.根据权利要求6所述的一种用于清洗超高纯光纤材料存储容器的方法，其特征在于，所述高纯惰性气体吹扫时间为5~10min。
