本技术涉及清理设备，具体为一种用于多晶硅还原炉底盘硅粉清理设备。
背景技术：
1、多晶硅还原炉一种用于生产多晶硅的设备，多晶硅被广泛应用于太阳能电池、半导体器件等领域，多晶硅还原炉的主要用途是将高纯度的三氯化硅和金属硅在高温下反应，生成多晶硅。
2、在生产过程中炉内高温反下，会有晶硅粉末附着到还原炉底盘上，长此以往还原炉底盘就会有大量的硅粉沉积，还原炉底盘上的沉积会降低其受热性能，增加还原炉能耗，所以需要及时进行清理。因此、我们提出了一种用于多晶硅还原炉底盘硅粉清理设备对上述的问题进行改进。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提供一种用于多晶硅还原炉底盘硅粉清理设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于多晶硅还原炉底盘硅粉清理设备，包括工作台，所述工作台的顶端安装有挂杆，所述挂杆的底端安装有连接勾，所述连接勾的底部连接有连接环，所述连接环底端安装有防护罩，所述防护罩的内部安装有内管道，所述内管道的底部安装有雾化喷头，所述防护罩的顶端安装有输送水管。
3、优选的，所述雾化喷头呈等间距安装在内管道的底端，所述雾化喷头通过内管道安装在防护罩的内部，所述防护罩通过输送水管与高压泵相连接。
4、优选的，所述输送水管通过防护罩与内管道相连通，所述防护罩通过连接环与连接勾相连接，所述连接环通过连接勾与挂杆相连接。
5、优选的，所述工作台的内部设置有过滤槽，所述工作台底端的安装有收集箱，所述收集箱的内部安装有过滤网。
6、优选的，所述过滤槽通过工作台与收集箱相连通，所述过滤槽贯穿工作台的内部，所述收集箱通过工作台底部进行滑动，所述过滤网贯穿收集箱的内部。
7、优选的，所述工作台的底部安装有高压泵，所述高压泵的一侧连接有收集水箱。
8、优选的，所述工作台的一端安装有固定钉，所述固定钉的外部设置有清理风枪，所述清理风枪的底部连接有输送气管，所述输送气管的底部安装有高压空气泵。
9、优选的，所述清理风枪通过固定钉与工作台相连接，所述清理风枪通过输送气管与高压空气泵相连通，所述高压空气泵贯穿工作台的内部。
10、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该种用于多晶硅还原炉底盘硅粉清理设备不仅实现雾化分解功能，实现了收集过滤功能，而且实现了清理吹水功能；
11、（1）通过设置雾化分解结构，本实用新型有益为：使用时将防护罩通过连接环从连接勾取下来，将防护罩覆盖到工作台上的还原炉底盘上，通过将收集水箱内部的氢氟酸稀释液通过高压泵通过输送水管输送到防护罩内部，通过防护罩内部的内管道输送到雾化喷头内部，从而实现了雾化分解功能，雾化喷头上释放的氢氟酸稀释液对还原炉底盘进行喷洒，加速的还原炉底盘的硅粉进行分解；
12、（2）通过设置收集过滤结构，本实用新型有益为：使用时在工作台上的还原炉底盘上的硅粉凝结物溶解后，通过清水冲刷还原炉底盘后，水混合分解物通过工作台内部的过滤槽流入工作台顶端的收集箱内部，收集箱内部设置的过滤网将水和凝结物过滤，从而实现了收集过滤功能，方便后续进行清理；
13、（3）通过设置清理吹水结构，本实用新型有益为：使用时将通过固定钉固定在工作台一端的清理风枪取下来后，通过启动高压空气泵后，将高压空气泵的将高压气体通过输送气管通过清理风枪排出去，将气体通过清理风枪对的清洗后的还原炉底盘内部的小空间的水进行吹出去，从而实现了清理吹水功能，加速还原炉底盘的干燥和防锈。
1.一种用于多晶硅还原炉底盘硅粉清理设备，包括工作台（1），其特征在于：所述工作台（1）的顶端安装有挂杆（2），所述挂杆（2）的底端安装有连接勾（3），所述连接勾（3）的底部连接有连接环（16），所述连接环（16）底端安装有防护罩（4），所述防护罩（4）的内部安装有内管道（17），所述内管道（17）的底部安装有雾化喷头（5），所述防护罩（4）的顶端安装有输送水管（6）。
2.根据权利要求1所述的一种用于多晶硅还原炉底盘硅粉清理设备，其特征在于：所述雾化喷头（5）呈等间距安装在内管道（17）的底端，所述雾化喷头（5）通过内管道（17）安装在防护罩（4）的内部，所述防护罩（4）通过输送水管（6）与高压泵（9）相连接。
3.根据权利要求1所述的一种用于多晶硅还原炉底盘硅粉清理设备，其特征在于：所述输送水管（6）通过防护罩（4）与内管道（17）相连通，所述防护罩（4）通过连接环（16）与连接勾（3）相连接，所述连接环（16）通过连接勾（3）与挂杆（2）相连接。
4.根据权利要求1所述的一种用于多晶硅还原炉底盘硅粉清理设备，其特征在于：所述工作台（1）的内部设置有过滤槽（14），所述工作台（1）底端的安装有收集箱（7），所述收集箱（7）的内部安装有过滤网（13）。
5.根据权利要求4所述的一种用于多晶硅还原炉底盘硅粉清理设备，其特征在于：所述过滤槽（14）通过工作台（1）与收集箱（7）相连通，所述过滤槽（14）贯穿工作台（1）的内部，所述收集箱（7）通过工作台（1）底部进行滑动，所述过滤网（13）贯穿收集箱（7）的内部。
6.根据权利要求1所述的一种用于多晶硅还原炉底盘硅粉清理设备，其特征在于：所述工作台（1）的底部安装有高压泵（9），所述高压泵（9）的一侧连接有收集水箱（10）。
7.根据权利要求1所述的一种用于多晶硅还原炉底盘硅粉清理设备，其特征在于：所述工作台（1）的一端安装有固定钉（8），所述固定钉（8）的外部设置有清理风枪（12），所述清理风枪（12）的底部连接有输送气管（15），所述输送气管（15）的底部安装有高压空气泵（11）。
8.根据权利要求7所述的一种用于多晶硅还原炉底盘硅粉清理设备，其特征在于：所述清理风枪（12）通过固定钉（8）与工作台（1）相连接，所述清理风枪（12）通过输送气管（15）与高压空气泵（11）相连通，所述高压空气泵（11）贯穿工作台（1）的内部。
