本技术涉及除尘，特别是涉及一种水泡清洗装置。
背景技术：
1、气体除尘是利用除尘设备对气体中所携带的颗粒物进行去除的过程。湿式除尘是利用清洗液将气体中携带的颗粒物进行溶解或者使用液体的阻力将颗粒物进行截留的方式，因此又可以叫做气体清洗。
2、当下，对工业产生的气体进行清洗的过程通常是将气体通入到一个含有清洗液的罐体/箱体中，气体从底部通入，向上溢出，以此与清洗液体进行充分地接触后，通过清洗液体将气体中的颗粒物进行截留，达到除尘清洗的目的。但是气体在和清洗液体接触的过程中，会不可避免地携带水分，水分会随着气体一起从罐体/箱体中溢出，造成了清洗液体的一定损失，导致清洗液体的损耗量相对较大。如何降低清洗液体的损耗，以降低气体清洗成本，是当下亟需要解决的技术问题。
技术实现思路
1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种水泡清洗装置，以降低气体清洗成本。
2、本实用新型的技术方案是：
3、一种水泡清洗装置，包括清洗箱体，所述清洗箱体上端设置有挡水盖，所述挡水盖部分遮挡所述清洗箱体的上端，以在所述清洗箱体上端形成排风口，所述清洗箱体内部设置有挡水板，所述挡水板上设置有若干通孔，所述清洗箱体内设置有储风仓，所述储风仓内设置有进风列管，所述储风仓与所述清洗箱体内壁之间留有空间，以形成水回流通道。
4、进一步地，所述储风仓的上端设置有支撑板，所述支撑板连接所述挡水板。
5、进一步地，所述清洗箱体上设置有人孔。
6、进一步地，所述清洗箱体的底部设置有排污口。
7、进一步地，所述排污口上设置有排污阀。
8、进一步地，所述挡水盖为半圆弧形。
9、进一步地，所述储风仓设置为两个，且各个储风仓的下端均为开口状，各个储风仓内均设置有进风列管，当清洗箱体内放置有清洗液体时，所述进风列管的一端设置于所述清洗液体中。
10、进一步地，两个储风仓之间形成风流通道。
11、进一步地，所述挡水盖至少盖住所述清洗箱体上端65％的空间。
12、进一步地，所述清洗箱体上设置有溢流口。
13、与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：
14、根据本实用新型的一种水泡清洗装置，待清洗的气体进入到储风仓，并由进风列管通入到清洗箱体内与清洗箱体内的清洗液进行接触，使得空气中的灰尘被滞留在清洗液中，随后气体通过挡水板，气体由通孔向上流动，其携带的水分部分会经过挡水板进行初步截留，初步截留的水会回流至清洗箱体内部，通过挡水板的气体，与挡水盖发生碰撞，进行二次水分截留，最后气体通过排风口排出。在保证除尘效果的同时，通过挡水板和挡水盖的两次水分截留，减少了气体中携带的水分，以此节约了清洗液的用量。
1.一种水泡清洗装置，其特征在于，包括清洗箱体，所述清洗箱体上端设置有挡水盖，所述挡水盖部分遮挡所述清洗箱体的上端，以在所述清洗箱体上端形成排风口，所述清洗箱体内部设置有挡水板，所述挡水板上设置有若干通孔，所述清洗箱体内设置有储风仓，所述储风仓内设置有进风列管，所述储风仓与所述清洗箱体内壁之间留有空间，以形成水回流通道。
2.根据权利要求1所述的水泡清洗装置，其特征在于，所述储风仓的上端设置有支撑板，所述支撑板连接所述挡水板。
3.根据权利要求1所述的水泡清洗装置，其特征在于，所述清洗箱体上设置有人孔。
4.根据权利要求1所述的水泡清洗装置，其特征在于，所述清洗箱体的底部设置有排污口。
5.根据权利要求4所述的水泡清洗装置，其特征在于，所述排污口上设置有排污阀。
6.根据权利要求1所述的水泡清洗装置，其特征在于，所述挡水盖为半圆弧形。
7.根据权利要求1所述的水泡清洗装置，其特征在于，所述储风仓设置为两个，且各个储风仓的下端均为开口状，各个储风仓内均设置有进风列管，当清洗箱体内放置有清洗液体时，所述进风列管的一端设置于所述清洗液体中。
8.根据权利要求7所述的水泡清洗装置，其特征在于，两个储风仓之间形成风流通道。
9.根据权利要求1所述的水泡清洗装置，其特征在于，所述挡水盖至少盖住所述清洗箱体上端65％的空间。
10.根据权利要求1所述的水泡清洗装置，其特征在于，所述清洗箱体上设置有溢流口。
