半导体装置及半导体装置的制造方法与流程

专利2026-01-03  9


本发明的实施方式涉及半导体装置及半导体装置的制造方法。


背景技术:

1、mosfet(metal oxide semiconductor field effect transistor:金属氧化膜半导体场效应晶体管)等半导体装置被用于电力转换等用途。在半导体装置中,要求提高可靠性。


技术实现思路

1、实施方式的半导体装置具备导电部件、焊料层、芯片、覆盖膜、绝缘部和密封树脂。所述焊料层设于所述导电部件之上。所述芯片设于所述焊料层之上。所述覆盖膜为绝缘性。所述覆盖膜设于所述芯片之上。所述覆盖膜包含第一覆盖部分。所述第一覆盖部分覆盖所述芯片的上表面的外周端。所述绝缘部设于所述覆盖膜之上。所述密封树脂对所述焊料层、所述芯片、所述覆盖膜及所述绝缘部进行密封。

2、根据本实施方式,可提供能够提高可靠性的半导体装置。



技术特征:

1.一种半导体装置,其特征在于,具备:

2.根据权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,

3.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其特征在于,

4.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其特征在于,

5.根据权利要求1或2所述的半导体装置,其特征在于,

6.根据权利要求5所述的半导体装置,其特征在于,

7.一种半导体装置的制造方法,其特征在于,具备:

8.根据权利要求7所述的半导体装置的制造方法,其特征在于,

9.一种半导体装置,其特征在于,具备:

10.一种半导体装置的制造方法,其特征在于,具备:


技术总结
本发明的实施方式涉及半导体装置及半导体装置的制造方法。实施方式的半导体装置具备导电部件、焊料层、芯片、覆盖膜、绝缘部和密封树脂。所述焊料层设于所述导电部件之上。所述芯片设于所述焊料层之上。所述覆盖膜为绝缘性。所述覆盖膜设于所述芯片之上。所述覆盖膜包含第一覆盖部分。所述第一覆盖部分覆盖所述芯片的上表面的外周端。所述绝缘部设于所述覆盖膜之上。所述密封树脂对所述焊料层、所述芯片、所述覆盖膜及所述绝缘部进行密封。

技术研发人员:神谷俊佑,村上和裕
受保护的技术使用者:株式会社东芝
技术研发日:
技术公布日:2024/7/25
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