本技术涉及金属蒸发源，具体为一种金属蒸发源。
背景技术：
1、真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种，主要分为化学气相沉积与物理气相沉积2种。真空镀膜设备的基础是需要有个一个真空室，各类零配件均安装在真空室内，在高真空下进行工作。在蒸发金属材料时，高温会造成坩埚碎裂；同时高温幅射较大，会影响周边其它部件，也是造成加热器负载过大，且石英坩埚的熔点较低，无法蒸发金属材料；氮化硼坩埚在蒸发金属材料进容易碎裂，且成本较高；同样存在热幅射问题、加热器负载较大问题。
2、现有技术中，坩埚的制作不方便，现有蒸发源的坩埚主要用石英、氧化铝、氮化硼几种材料，无法用常规的机械加工方式，且成本较高，蒸发高温材料(如金属、氧化物)时，坩埚易损坏，容易开裂，蒸发源热利用率较低，部分热量辐射到源周围的真空室里，会影响其它部件，并且源本身的负载也变大。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提供一种金属蒸发源，解决了坩埚生产成本高、坩埚易开裂损坏及加热器利用率低的问题。
2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种金属蒸发源，包括真空室底板，所述真空室底板的内部设置有电极柱，所述电极柱上设置有蒸发源，所述蒸发源包括壳体、坩埚、加热丝、隔热套、绝缘套、导电柱。
3、优选的，所述壳体的内部设置有坩埚，所述坩埚的外侧设置有加热丝，所述壳体的外侧设置有隔热套，所述隔热套的内部设置有绝缘套，所述绝缘套上设置有导电柱，所述导电柱与电极柱固定连接。通过设计坩埚，可用于金属蒸发工作。
4、优选的，所述电极柱的数量为两个，两个所述电极柱在真空室底板上呈对称分布。通过设计电极柱，可对蒸发源进行供电。
5、优选的，所述壳体为陶瓷材质。通过设计壳体为陶瓷材质，可将坩埚与加热丝之间绝缘。
6、优选的，所述加热丝呈螺旋状分布在坩埚的外侧。通过设计加热丝，可对坩埚进行加热使用。
7、优选的，所述导电柱的数量为两个，两个所述导电柱在壳体上呈对称分布。通过设计导电柱，可将蒸发源与电极柱进行连接使用。
8、与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：
9、本实用新型通过采用金属钼或钨制作的坩埚，可以采用常规机械加工方法制作，降低了成本；采用了金属钼或钨的坩埚，蒸发高温金属材料时坩埚不会裂开，避免了坩埚开裂后金属液漏到加热丝上造成蒸发源损坏的风险，延长了使用寿命；在加热丝外面的隔热套，避免加热丝热量辐射，提高的热效率，降低了功耗。
1.一种金属蒸发源，包括真空室底板(1)，其特征在于：所述真空室底板(1)的内部设置有电极柱(2)，所述电极柱(2)上设置有蒸发源(3)，所述蒸发源(3)包括壳体(31)、坩埚(32)、加热丝(33)、隔热套(34)、绝缘套(35)、导电柱(36)。
2.根据权利要求1所述的一种金属蒸发源，其特征在于：所述壳体(31)的内部设置有坩埚(32)，所述坩埚(32)的外侧设置有加热丝(33)，所述壳体(31)的外侧设置有隔热套(34)，所述隔热套(34)的内部设置有绝缘套(35)，所述绝缘套(35)上设置有导电柱(36)，所述导电柱(36)与电极柱(2)固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种金属蒸发源，其特征在于：所述电极柱(2)的数量为两个，两个所述电极柱(2)在真空室底板(1)上呈对称分布。
4.根据权利要求1所述的一种金属蒸发源，其特征在于：所述壳体(31)为陶瓷材质。
5.根据权利要求1所述的一种金属蒸发源，其特征在于：所述加热丝(33)呈螺旋状分布在坩埚(32)的外侧。
6.根据权利要求1所述的一种金属蒸发源，其特征在于：所述导电柱(36)的数量为两个，两个所述导电柱(36)在壳体(31)上呈对称分布。
