用于过滤应用的垫片以及包括所述垫片的装置的制作方法

专利2025-12-23  16


本公开涉及用于过滤应用的垫片以及相关系统、设备、装置和方法。


背景技术:

1、过滤装置的组件上存在杂质是有问题的,尤其是对于需要高纯度的应用。过滤过程可能导致这些杂质或可萃取物从组件中释放,从而污染经过滤流体。


技术实现思路

1、一些实施例涉及一种用于过滤装置的垫片。在一些实施例中,所述垫片包括基底,所述基底包括环状聚烯烃。在一些实施例中,所述基底包括用于过滤平均颗粒大小大于50μm的颗粒的多个通孔。

2、一些实施例涉及一种过滤组合件。在一些实施例中,所述过滤组合件包括垫片。在一些实施例中,所述过滤组合件包括在所述垫片上游的膜。在一些实施例中,所述过滤组合件包括在所述垫片下游的膜。在一些实施例中,所述过滤组合件包括在所述垫片上游以及在所述垫片下游的膜。在一些实施例中,所述垫片包括环状聚烯烃和用于过滤平均颗粒大小大于50μm的颗粒的多个通孔。

3、一些实施例涉及一种过滤装置。在一些实施例中,所述过滤装置包括具有入口和出口的壳体。在一些实施例中,所述过滤装置包括过滤组合件,所述过滤组合件安置在所述壳体中的所述入口与所述出口之间。在一些实施例中,所述过滤组合件包括垫片。在一些实施例中,所述过滤组合件包括在所述垫片上游的膜。在一些实施例中,所述过滤组合件包括在所述垫片下游的膜。在一些实施例中,所述过滤组合件包括在所述垫片上游以及在所述垫片下游的膜。在一些实施例中,所述垫片包括环状聚烯烃和用于过滤平均颗粒大小大于50μm的颗粒的多个通孔。



技术特征:

1.一种用于过滤装置的垫片,所述垫片包括:

2.根据权利要求1所述的垫片,其中所述环状聚烯烃包括环烯烃共聚物。

3.根据权利要求1所述的垫片,其中所述环状聚烯烃包括环状嵌段共聚物。

4.根据权利要求1所述的垫片,其中所述环状聚烯烃包括环烯烃聚合物。

5.根据权利要求1所述的垫片,其中所述基底包括每克所述基底2μg或更少的金属杂质。

6.根据权利要求5所述的垫片,其中所述金属杂质包括以下中的至少一个:钠、镁、铝、钾、钙、铁、锌,或其任何组合。

7.根据权利要求1所述的垫片,其中所述基底包括基于所述基底的总重量的小于5重量%的聚合物杂质。

8.根据权利要求7所述的垫片,其中所述聚合物杂质具有2000g/mol或更小的重均分子量。

9.根据权利要求1所述的垫片,其中所述基底是编织基底,包括:

10.根据权利要求9所述的垫片,其中所述多个纤维具有10μm到500μm的纤维直径。

11.根据权利要求9所述的垫片,其中所述基底具有20μm到1000μm的厚度。

12.一种过滤装置,其包括:

13.根据权利要求12所述的过滤装置,其中所述环状聚烯烃包括以下中的至少一个:环烯烃共聚物、环状嵌段共聚物、环烯烃聚合物,或其任何组合。

14.根据权利要求12所述的过滤装置,其中所述垫片包括每克所述垫片2μg或更少的金属杂质。

15.根据权利要求14所述的过滤装置,其中所述金属杂质包括以下中的至少一个:钠、镁、铝、钾、钙、铁、锌,或其任何组合。

16.根据权利要求12所述的过滤装置,其中所述垫片包括基于所述垫片的总重量的小于重量5%的聚合物杂质。

17.根据权利要求16所述的过滤装置,其中所述聚合物杂质具有2000g/mol或更小的重均分子量。

18.一种过滤装置,其包括:

19.根据权利要求18所述的过滤装置,其中所述多个纤维具有10μm到500μm的纤维直径。

20.根据权利要求18所述的过滤装置,其中所述垫片的厚度为20μm到1000μm。


技术总结
本申请涉及用于过滤应用的垫片以及包括所述垫片的装置。提供用于过滤应用的垫片。用于过滤装置的垫片包括基底,所述基底包括环状聚烯烃。所述基底包括用于过滤平均颗粒大小大于50μm的颗粒的多个通孔。还提供过滤组合件、过滤装置以及相关系统和方法。

技术研发人员:李志峰,J·P·普利亚
受保护的技术使用者:恩特格里斯公司
技术研发日:
技术公布日:2024/7/25
转载请注明原文地址: https://bbs.8miu.com/read-436756.html

最新回复(0)