本实用新型涉及硅片加工技术领域，具体为硅片清洗线的管道改进清洗装置。
背景技术：
一般地，硅料经切割形成硅片后，硅片表面硅料碎屑或切割液等脏污，故需要通过硅片清洗装置对切割后的硅片进行清洗，然后进行烘干处理。
硅片清洗线通常使用酸洗和多道清水洗，现有的硅片清洗大多数是将硅片放置在清洗液中进行浸泡，由于静止浸泡清洗效率低，硅片清洗不干净并且在硅片浸泡清洗完成后，不方便把硅片从浸泡液中取出，喷淋清洗设备的喷淋的范围较小，不能均匀的硅片进行喷淋，造成工艺质量异常。
技术实现要素：
针对现有技术的不足，本实用新型提供了硅片清洗线的管道改进清洗装置，具备均匀的对硅片进行喷淋清洗，增加喷淋范围，保证了清洗效果的优点，解决了上述背景技术中所提出的问题。
本实用新型提供如下技术方案：硅片清洗线的管道改进清洗装置，包括清洗池，所述清洗池的下方固定安装有排水池，所述清洗池的内腔上方活动套接有上压辊，所述清洗池的下方活动套接有下压辊，所述清洗池的腔上方固定安装有集水管，所述排水池的前面固定安装有水箱，所述排水池的前面位于水箱的上方固定安装有水泵，所述水泵的下方固定安装有进水管，所述水泵的上方固定安装有送水管，所述送水管的另一端固定安装有分水管，所述集水管的右面固定安装有水刀，所述水刀的另一端固定安装有出水孔，所述送水管的表面固定安装有支撑板，所述下压辊的前端固定套接有带轮一，所述清洗池的前面固定安装有机架一，所述机架一的上方固定安装有电机一，所述电机一的输出端固定套接有带轮二，所述带轮一和带轮二的表面活动连接有皮带，所述清洗池的右面滑动连接有挡板，所述排水池的前面固定安装有机架二，所述机架二的上方固定安装有电机二，所述电机二的输出端固定套接有齿轮，所述挡板的左面固定安装有齿条。
精选的，所述清洗池的前后两面的顶面高于分水管的顶面，所述清洗池的右面高于下压辊的顶面，所述清洗池的左面高于下压辊的顶面，且清洗池左面的顶面低于清洗池右面的顶面。
精选的，所述排水池左面的高度值与清洗池左面的高度值相等，且排水池水平方向上的长度值与清洗池水平方向上的长度值相等。
精选的，所述送水管、分水管、集水管和下压辊的中心处于同一条直线上，所述上压辊的长度值与下压辊在清洗池内腔的长度值相等。
精选的，所述水刀在集水管上共安装四个，且每个水刀之间的间距值相等，所述水刀与水平方向的夹角为四十五度。
精选的，所述挡板的长度值为清洗池左面长度值的一半，所述齿条的长度值与挡板的长度值相等。
与现有技术对比，本实用新型具备以下有益效果：
1、本实用新型通过水泵将水箱内的水通过送水管和分水管送入到固定安装在集水管上的水刀内，通过出水孔对硅片的上表面进行清理，清洗硅片上表面后的水落入到清洗池的内腔，下压辊的顶面低于清洗池的左右两面，使放置在下压辊上的硅片的底部浸泡在清水中，对硅片的底面进行清理，在水刀上开设的出水孔保证了喷淋的范围，保证了清洗效果。
2、本实用新型通过设置多个集水管，对硅片进行多道清水洗，保证了清洗的效果，通过在清洗池的左面安装挡板，电机二带动齿轮与齿条啮合，使挡板实现前后移动，清洗池内的清水放置一段时间后，通过打开挡板将清洗池中的清水放出，使装置处于清洁状态，同时更换清洗池中的水可以提高装置的清洗效果。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图；
图2为本实用新型结构主视示意图；
图3为本实用新型结构出水孔示意图；
图4为本实用新型结构水刀示意图；
图5为本实用新型结构皮带连接示意图。
图中：1、清洗池；2、排水池；3、上压辊；4、下压辊；5、水箱；6、水泵；7、进水管；8、送水管；9、分水管；10、集水管；11、水刀；12、出水孔；13、支撑板；14、带轮一；15、机架一；16、电机一；17、带轮二；18、皮带；19、挡板；20、机架二；21、电机二；22、齿轮；23、齿条。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-5，硅片清洗线的管道改进清洗装置，包括清洗池1，清洗池1的前后两面的顶面高于分水管9的顶面，清洗池1的右面高于下压辊4的顶面，清洗池1的左面高于下压辊4的顶面，且清洗池1左面的顶面低于清洗池1右面的顶面，使清洗池1内的清水的液面处于下压辊4顶面的上方，保证了清洗池1中的清水通过清洗池1的左侧面流出，清洗池1的下方固定安装有排水池2，排水池2左面的高度值与清洗池1左面的高度值相等，且排水池2水平方向上的长度值与清洗池1水平方向上的长度值相等，方便清洗后的硅片取出，在排水池2的左侧也设置一个下压辊4使硅片在清洗后的取出更加顺利，清洗池1的内腔上方活动套接有上压辊3，清洗池1的下方活动套接有下压辊4，清洗池1的腔上方固定安装有集水管10，排水池2的前面固定安装有水箱5，排水池2的前面位于水箱5的上方固定安装有水泵6，对清水进行增压，保证从出水孔12喷出的水具有一定的压力，提高清洗效果，水泵6的下方固定安装有进水管7，水泵6的上方固定安装有送水管8，送水管8、分水管9、集水管10和下压辊4的中心处于同一条直线上，上压辊3的长度值与下压辊4在清洗池1内腔的长度值相等，设置多个集水管10、上压辊3和下压辊4对硅片进行多道清水处理，增加清洗效果，送水管8的另一端固定安装有分水管9，集水管10的右面固定安装有水刀11，水刀11在集水管10上共安装四个，且每个水刀11之间的间距值相等，水刀11与水平方向的夹角为四十五度，水刀11的另一端固定安装有出水孔12，开设的多个出水孔12增加了喷淋范围，水泵6将水箱5内的水通过送水管8和分水管9送入到固定安装在集水管10上的水刀11内，通过出水孔12喷淋到硅片的上表面对硅片的上表面进行清理，送水管8的表面固定安装有支撑板13，下压辊4的前端固定套接有带轮一14，清洗池1的前面固定安装有机架一15，机架一15的上方固定安装有电机一16，电机一16的输出端固定套接有带轮二17，带轮一14和带轮二17的表面活动连接有皮带18，皮带18带动固定套接在电机一16输出端的带轮二17和带轮一14转动，使下压辊4在清洗池1内转动带动硅片向左移动，清洗池1的右面滑动连接有挡板19，挡板19的长度值为清洗池1左面长度值的一半，齿条23的长度值与挡板19的长度值相等，排水池2的前面固定安装有机架二20，机架二20的上方固定安装有电机二21，电机二21的输出端固定套接有齿轮22，挡板19的左面固定安装有齿条23，电机二21带动齿轮22与齿条23啮合，使挡板19实现前后移动，清洗池1内的清水放置一段时间后，通过打开挡板19将清洗池1中的清水放出，落入到排水池2的内腔，通过排水池2排出。
工作原理：使用时，将硅片从装置的右面放入下压辊4的上方，通过皮带18带动固定套接在电机一16输出端的带轮二17和带轮一14转动，使下压辊4在清洗池1内转动带动硅片向左移动，上压辊3对硅片进行夹持，保证硅片的位置，水泵6将水箱5内的水通过送水管8和分水管9送入到固定安装在集水管10上的水刀11内，通过出水孔12喷淋到硅片的上表面对硅片的上表面进行清理，清理后的清水落入到清洗池1的内腔，下压辊4的顶面低于清洗池1的左右两面，使放置在下压辊4上的硅片的底部浸泡在清水中，对硅片的底面进行清理，电机二21带动齿轮22与齿条23啮合，使挡板19实现前后移动，清洗池1内的清水放置一段时间后，通过打开挡板19将清洗池1中的清水放出，落入到排水池2的内腔，通过排水池2排出。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。同时在本实用新型的附图中，填充图案只是为了区别图层，不做其他任何限定。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
1.硅片清洗线的管道改进清洗装置，包括清洗池(1)，其特征在于：所述清洗池(1)的下方固定安装有排水池(2)，所述清洗池(1)的内腔上方活动套接有上压辊(3)，所述清洗池(1)的下方活动套接有下压辊(4)，所述清洗池(1)的腔上方固定安装有集水管(10)，所述排水池(2)的前面固定安装有水箱(5)，所述排水池(2)的前面位于水箱(5)的上方固定安装有水泵(6)，所述水泵(6)的下方固定安装有进水管(7)，所述水泵(6)的上方固定安装有送水管(8)，所述送水管(8)的另一端固定安装有分水管(9)，所述集水管(10)的右面固定安装有水刀(11)，所述水刀(11)的另一端固定安装有出水孔(12)，所述送水管(8)的表面固定安装有支撑板(13)，所述下压辊(4)的前端固定套接有带轮一(14)，所述清洗池(1)的前面固定安装有机架一(15)，所述机架一(15)的上方固定安装有电机一(16)，所述电机一(16)的输出端固定套接有带轮二(17)，所述带轮一(14)和带轮二(17)的表面活动连接有皮带(18)，所述清洗池(1)的右面滑动连接有挡板(19)，所述排水池(2)的前面固定安装有机架二(20)，所述机架二(20)的上方固定安装有电机二(21)，所述电机二(21)的输出端固定套接有齿轮(22)，所述挡板(19)的左面固定安装有齿条(23)。
2.根据权利要求1所述的硅片清洗线的管道改进清洗装置，其特征在于：所述清洗池(1)的前后两面的顶面高于分水管(9)的顶面，所述清洗池(1)的右面高于下压辊(4)的顶面，所述清洗池(1)的左面高于下压辊(4)的顶面，且清洗池(1)左面的顶面低于清洗池(1)右面的顶面。
3.根据权利要求1所述的硅片清洗线的管道改进清洗装置，其特征在于：所述排水池(2)左面的高度值与清洗池(1)左面的高度值相等，且排水池(2)水平方向上的长度值与清洗池(1)水平方向上的长度值相等。
4.根据权利要求1所述的硅片清洗线的管道改进清洗装置，其特征在于：所述送水管(8)、分水管(9)、集水管(10)和下压辊(4)的中心处于同一条直线上，所述上压辊(3)的长度值与下压辊(4)在清洗池(1)内腔的长度值相等。
5.根据权利要求1所述的硅片清洗线的管道改进清洗装置，其特征在于：所述水刀(11)在集水管(10)上共安装四个，且每个水刀(11)之间的间距值相等，所述水刀(11)与水平方向的夹角为四十五度。
6.根据权利要求1所述的硅片清洗线的管道改进清洗装置，其特征在于：所述挡板(19)的长度值为清洗池(1)左面长度值的一半，所述齿条(23)的长度值与挡板(19)的长度值相等。
技术总结