本技术涉及清洁用具,更具体地说，它涉及一种硅胶洗头刷。
背景技术：
1、在清洁头发时，为了更加深层次的清洁头皮，通常在洗头的过程中还会借助手指和指甲对头皮进行清洁和按摩。但是婴幼儿的头皮较为脆弱，在帮助其清洁头皮时，极易发生婴儿头皮刮伤或者造成其疼痛的现象，而且用手指清洁，还易存在清洁不到位，造成污渍残留的现象。基于该问题，本申请提出一种辅助头皮清洁，且清洁效果更佳，不易对头皮造成损伤的硅胶洗头刷。
技术实现思路
1、针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种辅助头皮清洁，且清洁效果更佳，不易对头皮造成损伤的硅胶洗头刷。
2、为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种硅胶洗头刷，包括刷板、刷柄和刷齿组件，其中刷柄位于刷板的上端面，刷齿组件覆盖在刷板的下端面，所述刷齿组件由硅胶材料制成，包括位于刷板中心位置的施力齿部、围设于施力齿部外的清洁齿部、以及围设于清洁齿部外的按摩齿部，所述施力齿部的端部具有半球形的齿牙一，所述清洁齿部的端部设有至少两个清洁齿牙，所述按摩齿部的端部具有半球形的齿牙二，所述齿牙一的直径大于齿牙二的直径。
3、本实用新型进一步设置为：所述施力齿部包括主轴齿和围设于主轴齿外的侧边齿，所述主轴齿底部为圆柱形的齿体一，侧面齿的底部为圆台状的齿体二，所述齿体一和齿体二上均装配齿牙一，所述主轴齿上齿牙一直径大于侧边齿上齿牙一的直径。
4、本实用新型进一步设置为：所述齿体一与齿牙一，齿体二与齿牙一均呈一体结构设置。
5、本实用新型进一步设置为：所述清洁齿部包括围设于施力齿部外的齿圈一，和围设于齿圈一外的齿圈二，所述齿圈一包括多个齿块一，所述齿圈二包括多个齿块二，所述齿块一的横截面大于齿块二的横街面，所述齿块一和齿块二的端部均设有弧形面，其中齿块一上设有两个清洁齿牙，齿块二上设有三个清洁齿牙。
6、本实用新型进一步设置为：所述齿块一与清洁齿牙，齿块二与清洁齿牙均呈一体结构设置。
7、本实用新型进一步设置为：所述按摩齿部包括围设于清洁齿部外的齿环一，和围设于齿环一外的齿环二，所述齿环一包括多个按摩块一，所述齿环二包括多个按摩块二，所述按摩块一和按摩块二均呈圆台状设置，所述齿牙二位于按摩块一、按摩块二的端部，其中按摩块一上齿牙二的直径大于按摩块二上齿牙二的直径。
8、本实用新型进一步设置为：所述按摩块一与齿牙二，按摩块二与齿牙二均呈一体结构设置。
9、通过采用上述技术方案，设置具有不同结构，且不同功能的刷齿组件，既能对头皮进行有效的清洁工作，又不会伤害头皮，还具有按摩的功效，提升了清洁的舒适性和实用性。同时避免指甲接触头皮，避免细菌传染，更加卫生安全。
1.一种硅胶洗头刷，其特征在于：包括刷板、刷柄和刷齿组件，其中刷柄位于刷板的上端面，刷齿组件覆盖在刷板的下端面，所述刷齿组件由硅胶材料制成，包括位于刷板中心位置的施力齿部、围设于施力齿部外的清洁齿部、以及围设于清洁齿部外的按摩齿部，所述施力齿部的端部具有半球形的齿牙一，所述清洁齿部的端部设有至少两个清洁齿牙，所述按摩齿部的端部具有半球形的齿牙二，所述齿牙一的直径大于齿牙二的直径。
2.根据权利要求1所述的一种硅胶洗头刷，其特征在于：所述施力齿部包括主轴齿和围设于主轴齿外的侧边齿，所述主轴齿底部为圆柱形的齿体一，侧面齿的底部为圆台状的齿体二，所述齿体一和齿体二上均装配齿牙一，所述主轴齿上齿牙一直径大于侧边齿上齿牙一的直径。
3.根据权利要求2所述的一种硅胶洗头刷，其特征在于：所述齿体一与齿牙一，齿体二与齿牙一均呈一体结构设置。
4.根据权利要求1所述的一种硅胶洗头刷，其特征在于：所述清洁齿部包括围设于施力齿部外的齿圈一，和围设于齿圈一外的齿圈二，所述齿圈一包括多个齿块一，所述齿圈二包括多个齿块二，所述齿块一的横截面大于齿块二的横街面，所述齿块一和齿块二的端部均设有弧形面，其中齿块一上设有两个清洁齿牙，齿块二上设有三个清洁齿牙。
5.根据权利要求4所述的一种硅胶洗头刷，其特征在于：所述齿块一与清洁齿牙，齿块二与清洁齿牙均呈一体结构设置。
6.根据权利要求1所述的一种硅胶洗头刷，其特征在于：所述按摩齿部包括围设于清洁齿部外的齿环一，和围设于齿环一外的齿环二，所述齿环一包括多个按摩块一，所述齿环二包括多个按摩块二，所述按摩块一和按摩块二均呈圆台状设置，所述齿牙二位于按摩块一、按摩块二的端部，其中按摩块一上齿牙二的直径大于按摩块二上齿牙二的直径。
7.根据权利要求6所述的一种硅胶洗头刷，其特征在于：所述按摩块一与齿牙二，按摩块二与齿牙二均呈一体结构设置。
