本申请涉及半导体制造设备，尤其涉及一种掩模版载台。
背景技术：
1、在半导体和微电子制造领域中，掩模版的精确制造对于保证最终产品性能而言至关重要。掩模版是光刻过程中将电路图案转移到硅片上的载体。在制造掩模版的过程中，涉及多个湿法工艺步骤。在传统的湿法工艺中，涉及到的步骤包括显影、湿法蚀刻、清洗、光阻剥离。这些步骤通常采用单片掩模版的旋转式工艺方式。旋转式工艺方式就是将掩模版固定在平台上并使其以一定的转速旋转，同时将液体喷洒在掩模版表面。因此，液体在掩模版表面覆盖的均匀性是影响工艺能力的重要指标。
2、请参阅图1，其为现有技术中喷淋液体时掩模版20逆时针旋转的示意图。液体滴落在掩模版20上，其在掩模版20上的流动方向如图中箭头所示，由于掩模版为正方形结构，则随着掩模版20的旋转，液体在其内切圆范围(如图1中虚线框a所圈示的区域)内分布均匀，且作用时间较为均匀，但液体在其内切圆范围外的区域，例如四角区域(如图中箭头b所指示的区域)的分布较少，作用时间则相对减少，导致四角区域相较于其内切圆范围内在湿法工艺处理上存在差异，进而影响了掩模版的整体性能。
3、因此，亟需一种新的装置，解决掩模版的边缘与四角区域由于液体作用时间差异大导致加工质量不一致的问题，从而保证液体在掩模版表面覆盖均匀，提升工艺质量。
技术实现思路
1、本申请所要解决的技术问题是提供一种掩模版载台，所述掩模版载台能改善液体在掩模版表面分布的均匀性，提高掩模版的加工质量和制造效率。
2、为了解决上述问题，本申请提供了一种掩模版载台，包括：载台本体，用于承载及固定掩模版，所述载台本体用于液体喷淋时带动所述掩模版旋转；挡板，固定在所述载台本体上，多个所述挡板沿掩模版放置区域的周向分布，当将所述掩模版放置在所述掩模版载台上时，所述挡板位于所述掩模版的侧面，且所述挡板的顶面高于所述掩模版的上表面。
3、在一些实施例中，所述挡板的长度是所述掩模版侧边长度的30％～70％。
4、在一些实施例中，所述挡板的宽度为2毫米～10毫米。
5、在一些实施例中，当将所述掩模版放置在所述掩模版载台上时，所述挡板位于所述掩模版各个侧边的中心位置。
6、在一些实施例中，当将所述掩模版放置在所述掩模版载台上时，所述挡板与所述掩模版的侧面之间具有间隙。
7、在一些实施例中，所述间隙的宽度为1毫米～5毫米。
8、在一些实施例中，所述挡板在其朝向所述掩模版放置区域的一侧设有倾斜的斜面。
9、在一些实施例中，所述斜面的低位与所述掩模版的上表面齐平，所述斜面的高位比所述掩模版的上表面高2毫米～6毫米。
10、在一些实施例中，所述掩模版载台还包括第一支架，所述第一支架包括多根支撑臂，每一所述支撑臂的一端与所述载台本体连接，另一端与一所述挡板连接，用于将所述挡板固定在所述载台本体上。
11、在一些实施例中，所述载台本体包括第二支架以及环形的第三支架，所述第二支架设置在所述第三支架的环形区域内，且所述第二支架包括多根连杆，多根所述连杆以所述载台本体的中心点为起始向外辐射式延伸至所述第三支架，并与所述第三支架固定连接，且所述支撑臂的一端与所述连杆的汇聚处连接。
12、在一些实施例中，各相邻的所述连杆之间具有容纳空间，所述挡板以及所述支撑臂设置在所述容纳空间处。
13、在一些实施例中，所述掩模版载台还包括多个设置在所述载台本体上的固定装置以及支撑装置；所述固定装置设置在所述掩模版放置区域的顶角区域的外围，所述固定装置包括第一限位柱以及第二限位柱，所述第一限位柱以及所述第二限位柱分别设置在所述掩模版放置区域的相邻的两个侧面；所述支撑装置包括支撑柱，所述支撑柱设置在所述掩模版放置区域的顶角区域；当将所述掩模版放置在所述掩模版载台上时，所述第一限位柱与所述第二限位柱分别位于所述掩模版相邻两个侧面，用于限位所述掩模版；所述支撑柱位于所述掩模版顶角区域的下方，用于支撑所述掩模版。
14、上述技术方案在所述掩模版放置区域的周向设置所述挡板，多个所述挡板固定在所述载台本体上，当将所述掩模版与所述载台本体相固定时，多个所述挡板设置于所述掩模版侧面，且所述挡板的顶面高于所述掩模版的上表面，当喷淋液体时所述载台本体带动所述掩模版旋转，在表面摩檫力作用下液体运动方向会和掩模版旋转方向一致，并且在离心力作用下液体会向远离旋转中心的方向运动，最终脱离所述掩模版表面，而在所述掩模版的边缘区域，所述挡板阻挡所述液体的离开，并能够引导这些液体向所述掩模版的顶角区域流动，进而增加了顶角区域的液体的量，能够提升制造过程中所述掩模版表面液体覆盖的均匀性，从而提升加工质量和效率。
15、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本申请。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。
1.一种掩模版载台，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的掩模版载台，其特征在于，所述挡板的长度是所述掩模版侧边长度的30％～70％。
3.根据权利要求1所述的掩模版载台，其特征在于，所述挡板的宽度为2毫米～10毫米。
4.根据权利要求1所述的掩模版载台，其特征在于，当将所述掩模版放置在所述掩模版载台上时，所述挡板位于所述掩模版各个侧边的中心位置。
5.根据权利要求1所述的掩模版载台，其特征在于，当将所述掩模版放置在所述掩模版载台上时，所述挡板与所述掩模版的侧面之间具有间隙。
6.根据权利要求5所述的掩模版载台，其特征在于，所述间隙的宽度为1毫米～5毫米。
7.根据权利要求1所述的掩模版载台，其特征在于，所述挡板在其朝向所述掩模版放置区域的一侧设有倾斜的斜面。
8.根据权利要求7所述的掩模版载台，其特征在于，所述斜面的低位与所述掩模版的上表面齐平，所述斜面的高位比所述掩模版的上表面高2毫米～6毫米。
9.根据权利要求1所述的掩模版载台，其特征在于，所述掩模版载台还包括第一支架，所述第一支架包括多根支撑臂，每一所述支撑臂的一端与所述载台本体连接，另一端与一所述挡板连接，用于将所述挡板固定在所述载台本体上。
10.根据权利要求9所述的掩模版载台，其特征在于，所述载台本体包括第二支架以及环形的第三支架，所述第二支架设置在所述第三支架的环形区域内，且所述第二支架包括多根连杆，多根所述连杆以所述载台本体的中心点为起始向外辐射式延伸至所述第三支架，并与所述第三支架固定连接，且所述支撑臂的一端与所述连杆的汇聚处连接。
11.根据权利要求10所述的掩模版载台，其特征在于，各相邻的所述连杆之间具有容纳空间，所述挡板以及所述支撑臂设置在所述容纳空间处。
12.根据权利要求1所述的掩模版载台，其特征在于，所述掩模版载台还包括多个设置在所述载台本体上的固定装置以及支撑装置；
