本技术涉及阳极板加工，尤其是涉及一种阳极板加工系统。
背景技术：
1、在一些相关技术中，阳极板加工系统用于对冶炼生产得到的阳极板进行加工，使阳极板的各项技术参数包括物理规格、单重等符合后续电解生产要求。在阳极板加工过程中，由于阳极板晃动或者对阳极板表面进行铣削等原因，会产生大量粉尘例如铜粉等，粉尘会扩散至阳极板加工系统所处的周围环境中，对阳极板加工系统的正常运转过程和人员的工作环境造成影响。
技术实现思路
1、本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种阳极板加工系统，粉尘外溢程度低，对人员的工作环境造成的影响小。
2、根据本实用新型实施例的阳极板加工系统包括阳极板加工系统本体和吸尘系统，所述吸尘系统具有多个吸尘口，所述吸尘系统构造成可从所述吸尘口吸入粉尘，多个所述吸尘口中的至少部分所述吸尘口对应所述阳极板加工系统本体的多个区域。
3、根据本实用新型实施例的阳极板加工系统通过设置吸尘系统，吸尘系统的多个吸尘口中的至少部分吸尘口对应阳极板加工系统本体的多个区域，从而多个吸尘口可以对阳极板加工系统的多个区域进行吸尘处理，减少粉尘扩散外溢到周围环境中，从而减少因粉尘扩散而对阳极板加工系统本体的正常运转过程和人员的工作环境造成的影响。
4、根据本实用新型的一些实施例，所述阳极板加工系统本体包括转运单元，所述转运单元用于对阳极板进行转运，所述转运单元的两侧设有压耳单元，所述压耳单元用于对阳极板的底耳施加压力，至少一个所述吸尘口朝向两个所述压耳单元之间的区域设置。
5、根据本实用新型的一些实施例，所述阳极板加工系统本体包括压力机，所述压力机用于对阳极板的侧面施加压力，其中，
6、所述压力机的顶部设有至少一个所述吸尘口；和/或，
7、至少一个所述吸尘口朝向所述压力机的进料口处设置；和/或，
8、至少一个所述吸尘口朝向所述压力机的出料口处设置。
9、根据本实用新型的一些实施例，所述阳极板加工系统本体包括底铣单元，所述底铣单元用于对阳极板的底耳进行铣削加工，至少一个所述吸尘口朝向所述底铣单元的刀具处设置。
10、根据本实用新型的一些实施例，多个所述吸尘口中的至少部分所述吸尘口为移动吸尘口。
11、根据本实用新型的一些实施例，所述吸尘系统包括风机、布袋除尘器和管路总成，所述风机、所述布袋除尘器和所述管路总成依次连接，所述管路总成具有所述吸尘口。
12、根据本实用新型的一些实施例，所述管路总成包括主管路和多个分管路，所述主管路的一端与所述布袋除尘器连接，多个所述分管路的一端分别与所述主管路连接，所述分管路具有所述吸尘口。
13、根据本实用新型的一些实施例，所述分管路具有控制阀，所述控制阀用于控制所述分管路的抽风量。
14、根据本实用新型的一些实施例，至少部分所述分管路为软管。
15、根据本实用新型的一些实施例，所述布袋除尘器与所述阳极板加工系统本体位于不同空间。
16、本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。
1.一种阳极板加工系统，其特征在于，包括阳极板加工系统本体和吸尘系统，所述吸尘系统具有多个吸尘口，所述吸尘系统构造成可从所述吸尘口吸入粉尘，多个所述吸尘口中的至少部分所述吸尘口对应所述阳极板加工系统本体的多个区域。
2.根据权利要求1所述的阳极板加工系统，其特征在于，所述阳极板加工系统本体包括转运单元，所述转运单元用于对阳极板进行转运，所述转运单元的两侧设有压耳单元，所述压耳单元用于对阳极板的底耳施加压力，至少一个所述吸尘口朝向两个所述压耳单元之间的区域设置。
3.根据权利要求1所述的阳极板加工系统，其特征在于，所述阳极板加工系统本体包括压力机，所述压力机用于对阳极板的侧面施加压力，其中，
4.根据权利要求1所述的阳极板加工系统，其特征在于，所述阳极板加工系统本体包括底铣单元，所述底铣单元用于对阳极板的底耳进行铣削加工，至少一个所述吸尘口朝向所述底铣单元的刀具处设置。
5.根据权利要求1所述的阳极板加工系统，其特征在于，多个所述吸尘口中的至少部分所述吸尘口为移动吸尘口。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的阳极板加工系统，其特征在于，所述吸尘系统包括风机、布袋除尘器和管路总成，所述风机、所述布袋除尘器和所述管路总成依次连接，所述管路总成具有所述吸尘口。
7.根据权利要求6所述的阳极板加工系统，其特征在于，所述管路总成包括主管路和多个分管路，所述主管路的一端与所述布袋除尘器连接，多个所述分管路的一端分别与所述主管路连接，所述分管路具有所述吸尘口。
8.根据权利要求7所述的阳极板加工系统，其特征在于，所述分管路具有控制阀，所述控制阀用于控制所述分管路的抽风量。
9.根据权利要求7所述的阳极板加工系统，其特征在于，至少部分所述分管路为软管。
10.根据权利要求6所述的阳极板加工系统，其特征在于，所述布袋除尘器与所述阳极板加工系统本体位于不同空间。
