本实用新型属于离子清洗机技术领域，具体涉及一种新型等离子清洗机的腔体清洗装置。
背景技术：
等离子清洁机也叫等离子表面处理仪，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子清洗设备的原理是通过电场作用(也就是射频)将气体原子电离成正离子和电子，正离子在电场作用下向阴极方向加速运动，去轰击引线框架表面光刻胶，达到去胶清洗效果。
现有的等离子的清洗结构较为复杂，通常设有阴阳两层电极，因此在清洗保养时很麻烦，清洗时间更长，很难清洗干净电极槽内的污染物。
技术实现要素：
针对现有技术中的缺陷，本实用新型公开了一种新型等离子清洗机的腔体清洗装置，采用单层电极设计，将电极框架作为阳极电极，将腔体作为阴极电极，结构简单，易于清洗保养，降低了生产成本。
本实用新型提供了一种新型等离子清洗机的腔体清洗装置，包括射频供电模块、匹配器和清洗腔；
所述清洗腔包括腔体和位于所述腔体内的电极框架；
所述射频供电模块的输出端接匹配器的输入端，所述匹配器的输出端接电极框架，所述腔体接地。
优选地，所述射频供电模块包括射频电源和电阻r；
所述射频电源的负极接地，所述射频电源的正极接电阻r的一端，所述电阻r的另一端接匹配器的输入端。
优选地，所述匹配器包括电容c1、电感l和电容ct；
所述电阻r的另一端经依次串联的电感l和电容ct接电极框架，所述电阻r和电感l的公共端经电容c1接地。
优选地，所述电极框架包括水平电极板和导电体；
所述腔体包括腔体上盖和腔体下盖，所述腔体下盖上设有通孔；
所述腔体下盖上设有所述水平电极板，所述导电体穿过所述通孔后固定在所述水平电极板的下表面。
优选地，所述新型等离子清洗机的腔体清洗装置还包括主控制器，所述主控制器与射频电源电连接。
优选地，所述射频电源采用的射频频率为13.56mhz。
优选地，所述腔体采用sus304材料制成。
优选地，所述水平电极板采用6061铝合金材料制成。
本实用新型的技术方案，采用单层电极设计，将电极框架作为阳极电极，将腔体作为阴极电极，结构简单，易于清洗保养，降低了生产成本。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
图1为本实施例中新型等离子清洗机的腔体清洗装置的结构示意图；
附图标记：
1-射频电源模块、2-匹配器、3-电极框架、4-腔体
31-水平电极板、32-导电体
41-腔体上盖、42-腔体下盖
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，因此只是作为示例，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
实施例：
本实用新型提供了一种新型等离子清洗机的腔体清洗装置，如图1所示，包括射频供电模块、匹配器2和清洗腔；
所述清洗腔包括腔体4和位于所述腔体4内的电极框架3；
所述射频供电模块的输出端接匹配器2的输入端，所述匹配器2的输出端接电极框架3，所述腔体4接地。
等离子清洗的原理是在真空状态下，压力越来越小，分子间间距越来越大，分子间力越来越小，利用射频电源产生的阴极电极和阳极电极之间的高压交变电场将氧、氩、氢等工作气体震荡成具有高反应活性或高能量的离子，然后与产品上的有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，然后由工作气体及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到对产品表面进行清洗的目的。
现有的清洗机，通常在清洗腔内设有阴阳两层电极，因此电极在清洗保养时很麻烦，清洗时间更长，本实施例的腔体清洗装置采用单层电极设计，将电极框架3作为阳极电极，将腔体4作为阴极电极，结构简单，更便于清洗保养。
其中，所述射频供电模块包括射频电源和电阻r；
所述射频电源的负极接地，所述射频电源的正极接电阻r的一端，所述电阻r的另一端接匹配器2的输入端。
其中，所述匹配器2包括电容c1、电感l和电容ct；
所述电阻r的另一端经依次串联的电感l和电容ct接电极框架3，所述电阻r和电感l的公共端经电容c1接地。
其中，所述电极框架3包括水平电极板31和导电体32；
所述腔体4包括腔体上盖41和腔体下盖42，所述腔体下盖42上设有通孔；
所述腔体下盖42上设有所述水平电极板31，所述导电体32穿过所述通孔后固定在所述水平电极板31的下表面。
本实施例由电容c1、电感l和电容ct组成了匹配器2，与负载阻抗进行匹配。本实施例的射频电源产生固定频率的正弦波电压，通过匹配器2将电能传输给水平电极板31，从而在水平电极板31和腔体上盖41之间产生高压交变电场。本实施例的射频电源采用的射频频率为13.56mhz，射频输出功率小于1000w，阻抗自动匹配时间小于3s，能快速自动匹配腔体4内的负载阻抗，工作时反射功率小于5w，具有rie模式和阴极偏压模式，产品清洗高效均匀，产品清洗面中央与边缘水滴角偏差极小。
本实施例在水平电极板31下方设有玻璃板，所述玻璃板为绝缘体，在水平电极板31的下方形成阻隔，能够减弱水平电极板31下方的电场，这样，在相同的清洗时间下，使用的射频电源的功率更小，清洗时材料的温度更低，射频电源的寿命更长。
本实施例的新型等离子清洗机的腔体清洗装置还包括主控制器，所述主控制器与射频电源电连接。主控制器采用的型号为stm32f103c8t6，主控制器用于给射频电源发送工作指令，从而控制射频电源的工作状态。
本实施例的腔体4采用sus304材料制成，sus304是应用最为广泛的一种铬-镍不锈钢，作为一种用途广泛的钢，具有良好的耐蚀性、耐热性，低温强度和机械特性；冲压、弯曲等热加工性能好。本实施例的水平电极板31采用6061铝合金材料制成，6061铝合金具有加工性能极佳、优良的焊接特点及电镀性、良好的抗腐蚀性、韧性高及加工后不变形、材料致密无缺陷及易于抛光、上色膜容易、氧化效果极佳等优良特点。
综上所述，本实施例的腔体清洗装置采用单层电极设计，将电极框架3作为阳极电极，将腔体4作为阴极电极，结构简单，易于清洗保养，降低了生产成本。本实施例在水平电极板31下方设置有绝缘的玻璃板，从而形成阻隔，减弱水平电极板31下方的电场，因此，在相同的清洗时间下，使用的射频电源的功率更小，清洗时材料的温度更低，射频电源的寿命更长。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求和说明书的范围当中。
1.一种新型等离子清洗机的腔体清洗装置，其特征在于，包括射频供电模块、匹配器和清洗腔；
所述清洗腔包括腔体和位于所述腔体内的电极框架；
所述射频供电模块的输出端接匹配器的输入端，所述匹配器的输出端接电极框架，所述腔体接地。
2.根据权利要求1所述的一种新型等离子清洗机的腔体清洗装置，其特征在于，所述射频供电模块包括射频电源和电阻r；
所述射频电源的负极接地，所述射频电源的正极接电阻r的一端，所述电阻r的另一端接匹配器的输入端。
3.根据权利要求2所述的一种新型等离子清洗机的腔体清洗装置，其特征在于，所述匹配器包括电容c1、电感l和电容ct；
所述电阻r的另一端经依次串联的电感l和电容ct接电极框架，所述电阻r和电感l的公共端经电容c1接地。
4.根据权利要求3所述的一种新型等离子清洗机的腔体清洗装置，其特征在于，
所述电极框架包括水平电极板和导电体；
所述腔体包括腔体上盖和腔体下盖，所述腔体下盖上设有通孔；
所述腔体下盖上设有所述水平电极板，所述导电体穿过所述通孔后固定在所述水平电极板的下表面。
5.根据权利要求4所述的一种新型等离子清洗机的腔体清洗装置，其特征在于，还包括主控制器，所述主控制器与射频电源电连接。
6.根据权利要求5所述的一种新型等离子清洗机的腔体清洗装置，其特征在于，所述射频电源采用的射频频率为13.56mhz。
7.根据权利要求6所述的一种新型等离子清洗机的腔体清洗装置，其特征在于，所述腔体采用sus304材料制成。
8.根据权利要求7所述的一种新型等离子清洗机的腔体清洗装置，其特征在于，所述水平电极板采用6061铝合金材料制成。
技术总结