本技术涉及电极加工设备领域，具体涉及一种玻碳电极打磨装置。
背景技术：
1、玻碳电极是一种广泛应用于化学、生物、医学等领域的电化学分析仪器，由碳素和玻璃等多种材料组成,具有高强度、高硬度、耐腐蚀等特性,并能够承受高温高压的环境。玻碳电极在使用前和使用后都必须保证表面呈镜面和清洁，清洁玻碳电极的主要方法有三种：化学法、电化学法、打磨清洗法，由于化学法和电化学法的打磨操作较为复杂，目前实验室一般采用第三种人工打磨玻碳电极的方法进行清洗。打磨清洗方法是以0.05μm的氧化铝粉在麂皮上打磨玻碳电极至光滑，再分别用去离子水和无水乙醇交替超声1分钟。
2、现有打磨清洗方法一次只能打磨一根玻碳电极，由于打磨力度、速度控制不当，以及人工操作的不同，容易导致玻碳电极的损坏或造成打磨效果不佳，从而严重影响科研效率。基于此问题，一种玻碳电极打磨清洗机的文献公开了：包括外壳、清洗装置。当需要对玻碳电极进行打磨清洗时，将玻碳电极插入固定于固定装置上，玻碳电极最下端与麂皮相接触，通过进水管将水喷洒在麂皮上，并在麂皮上涂上氧化铝粉末，使用控制面板控制动力装置启动，动力装置带动转轴、转盘、麂皮旋转，从麂皮上甩出的多余的水会从外壳底部的出水管中排出，完成对玻碳电极的自动打磨与清洗。避免了使用人工对玻碳电极进行打磨清洗效率低、容易造成损坏的问题，清洗效果好、效率高。
3、但是，现有的打磨清洗机，对多个玻碳电极打磨过程中的压力不均匀，影响玻碳电极的打磨效果。
技术实现思路
1、本实用新型意在提供一种玻碳电极打磨装置，以解决打磨压力不均匀的问题。
2、本方案中的玻碳电极打磨装置，包括底座、平台、麂皮、电极固定支架和控制盒；
3、所述底座顶端上方设有用于限定平台运动轨迹且沿底座长度方向移动的导轨组件；
4、所述平台位于导轨组件上方，所述平台顶端面上固设有麂皮，所述底座上设有带动平台在圆周轨迹上作平移周期运动的动力组件，所述控制盒位于底座一侧端处，所述控制盒内设有用于控制动力组件工作的控制器；
5、所述电极固定支架固定于底座上并位于平台上方，所述电极固定支架上开设有多个供玻碳电极穿过接触麂皮的通孔；
6、还包括能够套在玻碳电极顶端的配重块。
7、进一步，所述动力组件包括步进电机、转盘和限位筒，所述步进电机固设在底座内，所述转盘固定在步进电机的输出轴上，所述转盘上偏心固定有能够插入限位筒内的限位柱，所述限位筒固设在平台底端面上。
8、进一步，所述导轨组件包括正方体框状的基框体，所述基框体一端面的四个角处分别固设有一凹形的第一导轨，所述基框体沿着底座长度方向上的两个第一导轨的凹陷处中心轴同轴，所述第一导轨内转动连接有沿底座长度方向滚动的第一滑轮，所述基框体位于底座长度方向上的两个第一导轨的正对一侧均设有两个第一承重轮，所述第一承重轮的中心轴与第一滑轮中心轴垂直；
9、所述基框体另一端面的四个角处分别固设有凹形的第二导轨，所述基框体沿着底座宽度方向上的两个第二导轨的凹陷处中心轴同轴，所述第二导轨内转动连接有沿底座宽度方向滚动的第二滑轮，所述基框体位于底座宽度方向上的两个第二导轨的正对一侧均设有两个第二承重轮，所述第二承重轮的中心轴与第二滑轮中心轴垂直。
10、进一步，所述平台朝向导轨组件一侧面上固设有两条沿底座宽度方向布设的限位条，所述限位条底端面接触第二滑轮，所述限位条的外侧壁面接触第二承重轮，所述底座顶端面上固设有两条沿底座长度方向布设的滑轨，所述滑轨的顶端面接触第一滑轮，所述滑轨的外侧壁面接触第一承重轮。
11、进一步，所述电极固定支架包括底架，所述底架边缘上固设有顶架，所述通孔分别分布在底架和顶架上，所述底架和顶架的通孔一一对应。
12、进一步，所述通孔的直径等于玻碳电极的直径，所述麂皮的面积大于设置通孔区域的面积。
13、进一步，所述配置块包括配重板和多个支柱，所述支柱均固设在顶架上，所述配重板固设在支柱顶端，所述配重板与玻碳电极之间卡接有压簧。
14、进一步，所述配重板的重量为18-22g。
15、与现有技术相比，本方案的有益效果是：
16、通过多个通孔的设置，能够同时插入多个玻碳电极，以能够同时打磨多根电极，大大提高了打磨效率；通过对步进电机进行控制，从而自定义打磨速度、时间，由平台向上给玻碳电极施加打磨的力，结合玻碳电极自身重力，打磨时的力更均匀，在相同时间内，打磨得到的电极更光洁。
1.一种玻碳电极打磨装置，其特征在于：包括底座、平台、麂皮、电极固定支架和控制盒；
2.根据权利要求1所述的一种玻碳电极打磨装置，其特征在于：所述动力组件包括步进电机、转盘和限位筒，所述步进电机固设在底座内，所述转盘固定在步进电机的输出轴上，所述转盘上偏心固定有能够插入限位筒内的限位柱，所述限位筒固设在平台底端面上。
3.根据权利要求1所述的一种玻碳电极打磨装置，其特征在于：所述导轨组件包括正方体框状的基框体，所述基框体一端面的四个角处分别固设有一凹形的第一导轨，所述基框体沿着底座长度方向上的两个第一导轨的凹陷处中心轴同轴，所述第一导轨内转动连接有沿底座长度方向滚动的第一滑轮，所述基框体位于底座长度方向上的两个第一导轨的正对一侧均设有两个第一承重轮，所述第一承重轮的中心轴与第一滑轮中心轴垂直；
4.根据权利要求3所述的一种玻碳电极打磨装置，其特征在于：所述平台朝向导轨组件一侧面上固设有两条沿底座宽度方向布设的限位条，所述限位条底端面接触第二滑轮，所述限位条的外侧壁面接触第二承重轮，所述底座顶端面上固设有两条沿底座长度方向布设的滑轨，所述滑轨的顶端面接触第一滑轮，所述滑轨的外侧壁面接触第一承重轮。
5.根据权利要求1所述的一种玻碳电极打磨装置，其特征在于：所述电极固定支架包括底架，所述底架边缘上固设有顶架，所述通孔分别分布在底架和顶架上，所述底架和顶架的通孔一一对应。
6.根据权利要求5所述的一种玻碳电极打磨装置，其特征在于：所述通孔的直径等于玻碳电极的直径，所述麂皮的面积大于设置通孔区域的面积。
7.根据权利要求5所述的一种玻碳电极打磨装置，其特征在于：所述配重块包括配重板和多个支柱，所述支柱均固设在顶架上，所述配重板固设在支柱顶端，所述配重板与玻碳电极之间卡接有压簧。
8.根据权利要求7所述的一种玻碳电极打磨装置，其特征在于：所述配重板的重量为18-22g。
