本技术属于光刻机，具体地说是一种光刻机自动定位工装。
背景技术：
1、光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序，在进行光刻时可通过光刻机内的定位设备进行夹持定位，现有的光刻机定位设备通常是通过气缸推进夹持，虽然夹持紧固，但是气缸在推进时的作用力较大，可能会造成基片的损伤。
2、综上，因此本实用新型提供了一种光刻机自动定位工装，以解决上述问题。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种光刻机自动定位工装，以解决现有技术中气缸在推进时的作用力较大，可能会造成基片的损伤等问题。
2、一种光刻机自动定位工装，包括主体，所述主体的内部安装有螺纹杆，所述螺纹杆的侧面安装有移动块，所述移动块的一侧安装有夹板，所述夹板设置在主体的上侧，所述主体的上侧设置有挡板，所述挡板的一侧安装有固定板，所述固定板的下侧安装有滑动杆，所述滑动杆的侧面安装有压板，所述固定板的一侧安装有电控推杆，所述电控推杆的一侧安装在压板的上侧。
3、进一步的，所述主体的一侧安装有进风口，所述主体的下侧安装有限制块，所述限制块的上侧设置有收集箱，所述收集箱的上方设置有斜板，所述斜板的一端设置有过滤网，所述过滤网设置在出风口内，所述出风口设置在主体的一侧，所述出风口的内部设置有吹风机。
4、进一步的，所述螺纹杆的一侧设置有驱动电机，所述驱动电机安装在主体的一侧。
5、进一步的，所述固定板的相对的两端分别连接有进风口和出风口。
6、进一步的，所述限制块与收集箱滑动连接。
7、进一步的，所述进风口与出风口相连通。
8、与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：
9、1、本实用新型通过操控驱动电机，使得驱动电机的输出端带动螺纹杆转动，使得螺纹杆带动移动块移动，使得移动块带动夹板移动，使得夹板和挡板可以方便的夹住光刻机基片，同时通过控制驱动电机的转速可以避免对基片造成损伤，再启动电控推杆，使得电控推杆带动压板移动，使得装置可以对基片进行定位，防止定位跑偏。
10、2、本实用新型通过吹风机吹风，将基片的承片台的灰尘吹入进风口内，方便对基片的承片台进行快速清理，从而有利于基片光刻的效果。
1.一种光刻机自动定位工装，包括主体(1)，其特征在于：所述主体(1)的内部安装有螺纹杆(11)，所述螺纹杆(11)的侧面安装有移动块(12)，所述移动块(12)的一侧安装有夹板(5)，所述夹板(5)设置在主体(1)的上侧，所述主体(1)的上侧设置有挡板(18)，所述挡板(18)的一侧安装有固定板(15)，所述固定板(15)的下侧安装有滑动杆(16)，所述滑动杆(16)的侧面安装有压板(17)，所述固定板(15)的一侧安装有电控推杆(14)，所述电控推杆(14)的一侧安装在压板(17)的上侧。
2.如权利要求1所述一种光刻机自动定位工装，其特征在于：所述主体(1)的一侧安装有进风口(3)，所述主体(1)的下侧安装有限制块(9)，所述限制块(9)的上侧设置有收集箱(10)，所述收集箱(10)的上方设置有斜板(8)，所述斜板(8)的一端设置有过滤网(7)，所述过滤网(7)设置在出风口(4)内，所述出风口(4)设置在主体(1)的一侧，所述出风口(4)的内部设置有吹风机(6)。
3.如权利要求1所述一种光刻机自动定位工装，其特征在于：所述螺纹杆(11)的一侧设置有驱动电机(2)，所述驱动电机(2)安装在主体(1)的一侧。
4.如权利要求2所述一种光刻机自动定位工装，其特征在于：所述固定板(15)的相对的两端分别连接有进风口(3)和出风口(4)。
5.如权利要求2所述一种光刻机自动定位工装，其特征在于：所述限制块(9)与收集箱(10)滑动连接。
6.如权利要求4所述一种光刻机自动定位工装，其特征在于：所述进风口(3)与出风口(4)相连通。
