一种农田土壤Cd污染处理药物喷洒装置的制作方法

专利2022-06-29  82


本实用新型涉及土壤cd污染处理技术领域,具体为一种农田土壤cd污染处理药物喷洒装置。



背景技术:

土壤中金属污染是一个十分严重的问题,农田的土壤在被cd污染后,会失去原本的肥力,从而无法种植农作物,为改治理受污染的土壤,需要使用专门的药物喷洒装置对土壤进行治理。

现有的药物喷洒装置多为手动增压喷洒,药物喷洒起来不均匀,药物的覆盖率不高,同时,装置使用时无法对药物进行间隔喷洒,容易造成土壤重复受药,药物损耗量大。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种农田土壤cd污染处理药物喷洒装置,以解决上述背景技术中提出的药物喷洒不均匀,喷射覆盖率不高,无法间隔喷洒,药物损耗量大的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种农田土壤cd污染处理药物喷洒装置,包括机壳、电机、旋转臂、调节轮和滑动块,所述机壳顶部设有加料口,且机壳通过加料口与储液槽连接,并且储液槽前端设有喷洒口,所述电机螺栓固定在机壳顶部,且电机通过传动轴与转盘连接,并且转盘表面一体化连接有限位杆,所述旋转臂中部通过固定轴与机壳连接,且旋转臂表面设有限位槽,并且旋转臂前端一体化连接有调节板,所述调节轮侧面一体化连接有限位块,且调节轮侧面设有齿轮,并且调节轮两侧通过旋转轴与机壳连接,所述滑动块中部设有限位架,且滑动块前端设有活塞。

优选的,所述转盘的直径与限位槽的长度相同,且转盘垂直于限位杆,并且限位杆的直径与限位槽的宽度相同。

优选的,所述调节板垂直于旋转臂前端板面,且调节板与旋转臂的水平夹角均为30°,并且调节板的宽度与限位块的长度相同。

优选的,所述调节轮圆周表面等距分布有限位块,且调节轮表面切线垂直于限位块,并且调节轮的轴线与齿轮的轴线共线。

优选的,所述滑动块为“l”型齿槽结构,且滑动块的宽度与限位架的宽度相同,并且滑动块的长度与储液槽的长度相同。

优选的,所述储液槽为中空的圆筒形结构,且储液槽的直径与活塞的直径相同,并且储液槽关于机壳中心线对称。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该农田土壤cd污染处理药物喷洒装置通过活塞的滑动给储液槽增压,从而使得喷洒口中部的瓣膜打开对药物进行喷洒,提高了装置的喷洒均匀度,同时,通过调节板与限位块组合滑动,实现了装置间断喷洒药物的操作,极大地降低了药物的损耗;

1.启动电机可以带动滑动块整体推动活塞贴合储液槽滑动,从而有效将储液槽中的药物从喷洒口的瓣片压出,确保了装置喷洒药物时分散均匀,提高了装置的喷洒精度;

2.旋转臂带动表面的调节板左右往复运动,从而推动调节轮侧边的限位块移动,使得调节轮可以单向间隔转动,确保了药物可以间隔喷洒,极大地节省了药物的损耗。

附图说明

图1为本实用新型侧视结构示意图;

图2为本实用新型旋转臂的俯视结构示意图;

图3为本实用新型调节轮的正视结构示意图。

图中:1、机壳;2、加料口;3、电机;4、传动轴;5、转盘;6、限位杆;7、固定轴;8、旋转臂;9、调节板;10、调节轮;11、限位块;12、滑动块;13、齿轮;14、旋转轴;15、限位架;16、活塞;17、储液槽;18、喷洒口;19、限位槽。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3,本实用新型提供一种技术方案:一种农田土壤cd污染处理药物喷洒装置,包括机壳1、加料口2、电机3、传动轴4、转盘5、限位杆6、固定轴7、旋转臂8、调节板9、调节轮10、限位块11、滑动块12、齿轮13、旋转轴14、限位架15、活塞16、储液槽17、喷洒口18和限位槽19,机壳1顶部设有加料口2,且机壳1通过加料口2与储液槽17连接,并且储液槽17前端设有喷洒口18,电机3螺栓固定在机壳1顶部,且电机3通过传动轴4与转盘5连接,并且转盘5表面一体化连接有限位杆6,旋转臂8中部通过固定轴7与机壳1连接,且旋转臂8表面设有限位槽19,并且旋转臂8前端一体化连接有调节板9,调节轮10侧面一体化连接有限位块11,且调节轮10侧面设有齿轮13,并且调节轮10两侧通过旋转轴14与机壳1连接,滑动块12中部设有限位架15,且滑动块12前端设有活塞16。

转盘5的直径与限位槽19的长度相同,且转盘5垂直于限位杆6,并且限位杆6的直径与限位槽19的宽度相同,使得限位杆6可以贴合限位槽19前后滑动。

调节板9垂直于旋转臂8前端板面,且调节板9与旋转臂8的水平夹角均为30°,并且调节板9的宽度与限位块11的长度相同,使得调节板9可以推动限位块11转动,从而带动调节轮10整体转动。

调节轮10圆周表面等距分布有限位块11,且调节轮10表面切线垂直于限位块11,并且调节轮10的轴线与齿轮13的轴线共线,使得调节轮10可以带动齿轮13一并沿着旋转轴14单向转动。

滑动块12为“l”型齿槽结构,且滑动块12的宽度与限位架15的宽度相同,并且滑动块12的长度与储液槽17的长度相同,使得滑动块12可以贴合限位架15滑动。

储液槽17为中空的圆筒形结构,且储液槽17的直径与活塞16的直径相同,并且储液槽17关于机壳1中心线对称,使得活塞16可以贴合储液槽17滑动,从而将药物从储液槽17侧面的喷洒口18排出。

工作原理:在使用该农田土壤cd污染处理药物喷洒装置时,先将需要喷洒的药物添加到装置中,参见图1、图2,打开机壳1顶部的加料口2,将需要喷洒的药物沿着加料口2添加到储液槽17中,关闭加料口2,再启动电机3,电机3带动传动轴4转动,从而带动转盘5旋转,此时,转盘5表面的限位杆6贴合限位槽19滑动,从而带动旋转臂8沿着固定轴7左右往复转动,最终带动滑动块12整体推动活塞16贴合储液槽17不断向内滑动,使得储液槽17中的压强不断增大,喷洒口18内侧的瓣膜在压强的作用下打开,将储液槽17中的药物喷洒出机壳1,从而完成药物的喷洒操作。

参见图1、图2和图3,当旋转臂8左右转动时,旋转臂8前端的2个调节板9不断与调节轮10表面的限位块11接触,从而推动调节轮10单向转动,此时,调节轮10外侧的齿轮13贴合滑动块12内侧的齿槽旋转,从而带动滑动块12整体滑动,使得滑动块12前端的活塞16滑动,最终实现了装置间断喷洒药物的操作,提高了装置的喷洒均匀度。

尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征:

1.一种农田土壤cd污染处理药物喷洒装置,包括机壳(1)、电机(3)、旋转臂(8)、调节轮(10)和滑动块(12),其特征在于:所述机壳(1)顶部设有加料口(2),且机壳(1)通过加料口(2)与储液槽(17)连接,并且储液槽(17)前端设有喷洒口(18),所述电机(3)螺栓固定在机壳(1)顶部,且电机(3)通过传动轴(4)与转盘(5)连接,并且转盘(5)表面一体化连接有限位杆(6),所述旋转臂(8)中部通过固定轴(7)与机壳(1)连接,且旋转臂(8)表面设有限位槽(19),并且旋转臂(8)前端一体化连接有调节板(9),所述调节轮(10)侧面一体化连接有限位块(11),且调节轮(10)侧面设有齿轮(13),并且调节轮(10)两侧通过旋转轴(14)与机壳(1)连接,所述滑动块(12)中部设有限位架(15),且滑动块(12)前端设有活塞(16)。

2.根据权利要求1所述的一种农田土壤cd污染处理药物喷洒装置,其特征在于:所述转盘(5)的直径与限位槽(19)的长度相同,且转盘(5)垂直于限位杆(6),并且限位杆(6)的直径与限位槽(19)的宽度相同。

3.根据权利要求1所述的一种农田土壤cd污染处理药物喷洒装置,其特征在于:所述调节板(9)垂直于旋转臂(8)前端板面,且调节板(9)与旋转臂(8)的水平夹角均为30°,并且调节板(9)的宽度与限位块(11)的长度相同。

4.根据权利要求1所述的一种农田土壤cd污染处理药物喷洒装置,其特征在于:所述调节轮(10)圆周表面等距分布有限位块(11),且调节轮(10)表面切线垂直于限位块(11),并且调节轮(10)的轴线与齿轮(13)的轴线共线。

5.根据权利要求1所述的一种农田土壤cd污染处理药物喷洒装置,其特征在于:所述滑动块(12)为“l”型齿槽结构,且滑动块(12)的宽度与限位架(15)的宽度相同,并且滑动块(12)的长度与储液槽(17)的长度相同。

6.根据权利要求1所述的一种农田土壤cd污染处理药物喷洒装置,其特征在于:所述储液槽(17)为中空的圆筒形结构,且储液槽(17)的直径与活塞(16)的直径相同,并且储液槽(17)关于机壳(1)中心线对称。

技术总结
本实用新型公开了一种农田土壤Cd污染处理药物喷洒装置,包括机壳、电机、旋转臂、调节轮和滑动块,所述机壳顶部设有加料口,且机壳通过加料口与储液槽连接,所述电机螺栓固定在机壳顶部,且电机通过传动轴与转盘连接,所述旋转臂中部通过固定轴与机壳连接,且旋转臂表面设有限位槽,所述调节轮侧面一体化连接有限位块,且调节轮侧面设有齿轮,所述滑动块中部设有限位架,且滑动块前端设有活塞。该农田土壤Cd污染处理药物喷洒装置通过活塞的滑动给储液槽增压,从而使得喷洒口中部的瓣膜打开对药物进行喷洒,提高了装置的喷洒均匀度,同时,通过调节板与限位块组合滑动,实现了装置间断喷洒药物的操作,极大地降低了药物的损耗。

技术研发人员:马志刚;张有军;薛清泼;牛真茹;从辉;刘仕刚;李智;张晓鹏;蔡童
受保护的技术使用者:天津华勘环境治理工程有限公司
技术研发日:2019.10.08
技术公布日:2020.06.09

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