1.本技术涉及搅拌定位的技术领域，尤其是涉及一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构。
背景技术：2.反应釜是综合反应容器，根据反应条件对反应釜结构功能及配置附件的设计,反应物/产物浓度等重要参数进行严格的调控反应釜在工作过程中需要搅拌轴对物料进行充分的搅拌。
3.但是，现有的搅拌轴在搅拌过程中，旋转会产生离心力，需要对搅拌轴进行支撑定位，避免偏斜，针对不同的反应釜还需要对支撑定位装置不断调整，且搅拌装置与反应釜连接位置需要确保较好的密封性。因此，本领域技术人员提供了一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构，以解决上述背景技术中提出的问题。
技术实现要素：4.为了解决上述背景技术中提出的问题，本技术提供一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构。
5.本技术提供的一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构采用如下的技术方案：
6.一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构，包括反应釜，所述反应釜上端设有电机，所述电机驱动搅拌轴旋转，所述搅拌轴贯穿固定块且和转接在其内部，所述固定块安装在反应釜上端，所述反应釜内壁连接磁力座，所述磁力座侧壁采用螺栓连接气缸，所述气缸驱动固接在推杆上的定位块移动，所述定位块卡接在限位块内，所述限位块同轴线固接在搅拌轴外壁。
7.通过采用上述技术方案，将磁力座吸附在反应釜内壁，将搅拌轴插接在反应釜内，启动气缸，推动固接在推杆上的定位块移动，直至卡接在限位块上，避免了搅拌轴在转动过程中上下抖动，且定位块与轴承和限位块配合，使得限位块外的轴承始终接触连接在定位块内壁，避免了搅拌轴旋转引离心力导致的偏移和晃动，对搅拌轴进行支撑定位，且根据不同的反应釜可以控制气缸调整推杆上固接的定位块移动，从而适应不同大小的反应釜，适用性更高。
8.优选的，所述限位块纵向截面为工字型，所述定位块为二分之一圆环结构，所述限位块与定位块接触位置设有轴承。
9.通过采用上述技术方案，因限位块纵向截面为工字型，因此当搅拌轴旋转时，定位块卡接在限位块侧壁凹槽处，对搅拌轴竖直方向进行限制，避免了搅拌轴在转动过程中上下抖动，且定位块为二分之一圆环结构，并与轴承和限位块配合，使得限位块外的轴承始终接触连接在定位块内壁，避免了搅拌轴旋转引离心力导致的偏移和晃动。
10.优选的，所述固定块外壁同轴线固接密封块，所述密封块滑动连接在密封槽内，所述密封槽为反应釜上端开设的槽，所述密封块采用紧固螺栓连接在密封槽内，所述密封槽
内壁同轴线固接下密封块，所述下密封块滑动连接在上密封槽内，所述上密封槽为密封块下端开设的槽。
11.通过采用上述技术方案，密封块插接在密封块内，采用紧固螺栓固定连接，对固定块上的搅拌轴进行安装，与此同时，下密封块插接在上密封槽内，插接后，下密封块与上密封槽连接逐渐聚拢，卡死，连接紧密提高密封性。
12.优选的，所述下密封块为纵向截面为梯形的圆环块结构，所述上密封槽为纵向截面为梯形的环形凹槽结构，所述上密封槽与下密封块接触位置设有密封圈。
13.通过采用上述技术方案，因下密封块为纵向截面为梯形的圆环块结构，在插接时，进行导向，避免偏移。
14.优选的，位于下密封块外侧的密封槽内壁同轴线开设下密封槽，所述下密封槽内部滑动连接上密封块，所述上密封块固接在密封块下端。
15.通过采用上述技术方案，下密封槽与上密封块的插接使得密封块与密封槽形成的间隙的路径加长，且方向改变，与下密封块与上密封槽之间的间歇位置错开，对密封进行双重加强，使得固定块上的搅拌轴与反应釜连接更加稳定。
16.综上所述，本技术包括以下有益技术效果：
17.将磁力座吸附在反应釜内壁，将搅拌轴插接在反应釜内，启动气缸，推动固接在推杆上的定位块移动，直至卡接在限位块上，因限位块纵向截面为工字型，因此当搅拌轴旋转时，定位块卡接在限位块侧壁凹槽处，对搅拌轴竖直方向进行限制，避免了搅拌轴在转动过程中上下抖动，且定位块为二分之一圆环结构，并与轴承和限位块配合，使得限位块外的轴承始终接触连接在定位块内壁，避免了搅拌轴旋转引离心力导致的偏移和晃动，对搅拌轴进行支撑定位，且根据不同的反应釜可以控制气缸调整推杆上固接的定位块移动，从而适应不同大小的反应釜，适用性更高。
附图说明
18.图1是本技术实施例中一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构的结构示意图；
19.图2是本技术实施例中限位块与定位块分开立体结构示意图；
20.图3是本技术实施例中图1中a处放大结构示意图；
21.图4是本技术实施例中固定块的立体结构示意图；
22.图5是本技术实施例中反应釜的剖开立体结构示意图。
23.附图标记说明：1、反应釜；2、电机；3、固定块；4、搅拌轴；6、磁力座；7、气缸；8、推杆；9、定位块；10、轴承；11、限位块；21、密封块；22、密封槽；23、紧固螺栓；25、连接块；27、下密封块；28、上密封槽；29、密封圈；30、上密封块；31、下密封槽。
具体实施方式
24.以下结合附图1-5对本技术作进一步详细说明。
25.本技术实施例公开一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构。参照图1-5，一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构包括反应釜1，将磁力座6吸附在反应釜1内壁，将搅拌轴4插接在反应釜1内，反应釜1上端设有电机2，电机2驱动搅拌轴4旋转，搅拌轴4贯穿固定块3且和转接在其内部，固定块3安装在反应釜1上端，反应釜1内壁连接磁力座6，磁力座6侧壁采用螺
栓连接气缸7，气缸7驱动固接在推杆8上的定位块9移动(反应釜1侧壁设有观察窗，便于推杆8移动时候进行观察调节)，启动气缸7，推动固接在推杆8上的定位块9移动，定位块9卡接在限位块11内，直至卡接在限位块11上，当搅拌轴4旋转时，定位块9卡接在限位块11侧壁凹槽处，限位块11同轴线固接在搅拌轴4外壁，对搅拌轴4竖直方向进行限制，避免了搅拌轴4在转动过程中上下抖动，且定位块9与轴承10和限位块11配合，使得限位块11外的轴承10始终接触连接在定位块9内壁，避免了搅拌轴4旋转引离心力导致的偏移和晃动，对搅拌轴进行支撑定位，且根据不同的反应釜1可以控制气缸7调整推杆8上固接的定位块9移动，从而适应不同大小的反应釜1，适用性更高。
26.限位块11纵向截面为工字型，因限位块11纵向截面为工字型，因此当搅拌轴4旋转时，定位块9卡接在限位块11侧壁凹槽处，限位块11同轴线固接在搅拌轴4外壁，对搅拌轴4竖直方向进行限制，定位块9为二分之一圆环结构，限位块11与定位块9接触位置设有轴承10，定位块9为二分之一圆环结构，并与轴承10和限位块11配合，使得限位块11外的轴承10始终接触连接在定位块9内壁，避免了搅拌轴4旋转引离心力导致的偏移和晃动。
27.固定块3外壁同轴线固接密封块21，密封块21滑动连接在密封槽22内，密封槽22为反应釜1上端开设的槽，密封块21侧壁固接对称的连接块25，连接块25采用紧固螺栓23连接在密封槽22内，密封块21插接在密封块21内，采用紧固螺栓23固定连接，对固定块3上的搅拌轴4进行安装，密封槽22内壁同轴线固接下密封块27，下密封块27滑动连接在上密封槽28内，下密封块27插接在上密封槽28内，上密封槽28为密封块21下端开设的槽，且插接后，下密封块27与上密封槽28连接逐渐聚拢，卡死，连接紧密提高密封性。
28.下密封块27为纵向截面为梯形的圆环块结构，上密封槽28为纵向截面为梯形的环形凹槽结构，在插接时，进行导向，避免偏移，上密封槽28与下密封块27接触位置设有密封圈29，密封圈29提高密封性。
29.位于下密封块27外侧的密封槽22内壁同轴线开设下密封槽31，下密封槽31内部滑动连接上密封块30，上密封块30固接在密封块21下端，下密封槽31与上密封块30的插接使得密封块21与密封槽22形成的间隙的路径加长，且方向改变，与下密封块27与上密封槽28之间的间歇位置错开，对密封进行双重加强，使得固定块3上的搅拌轴4与反应釜1连接更加稳定。
30.本技术实施例一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构的实施原理为：本装置在进行使用时，将磁力座6吸附在反应釜1内壁，将搅拌轴4插接在反应釜1内，密封块21插接在密封块21内，采用紧固螺栓23固定连接，对固定块3上的搅拌轴4进行安装，与此同时，下密封块27插接在上密封槽28内，因下密封块27为纵向截面为梯形的圆环块结构，在插接时，进行导向，避免偏移，且插接后，下密封块27与上密封槽28连接逐渐聚拢，卡死，连接紧密提高密封性，下密封槽31与上密封块30的插接使得密封块21与密封槽22形成的间隙的路径加长，且方向改变，与下密封块27与上密封槽28之间的间歇位置错开，对密封进行双重加强，使得固定块3上的搅拌轴4与反应釜1连接更加稳定，启动气缸7，推动固接在推杆8上的定位块9移动，直至卡接在限位块11上，因限位块11纵向截面为工字型，因此当搅拌轴4旋转时，定位块9卡接在限位块11侧壁凹槽处，对搅拌轴4竖直方向进行限制，避免了搅拌轴4在转动过程中上下抖动，且定位块9为二分之一圆环结构，并与轴承10和限位块11配合，使得限位块11外的轴承10始终接触连接在定位块9内壁，避免了搅拌轴4旋转引离心力导致的偏移和晃动，
对搅拌轴进行支撑定位，且根据不同的反应釜1可以控制气缸7调整推杆8上固接的定位块9移动，从而适应不同大小的反应釜1，适用性更高。
31.以上均为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围之内。
技术特征：1.一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构，包括反应釜(1)，其特征在于：所述反应釜(1)上端设有电机(2)，所述电机(2)驱动搅拌轴(4)旋转，所述搅拌轴(4)贯穿固定块(3)且和转接在其内部，所述固定块(3)安装在反应釜(1)上端，所述反应釜(1)内壁连接磁力座(6)，所述磁力座(6)侧壁采用螺栓连接气缸(7)，所述气缸(7)驱动固接在推杆(8)上的定位块(9)移动，所述定位块(9)卡接在限位块(11)内，所述限位块(11)同轴线固接在搅拌轴(4)外壁。2.根据权利要求1所述的一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构，其特征在于：所述限位块(11)纵向截面为工字型，所述定位块(9)为二分之一圆环结构，所述限位块(11)与定位块(9)接触位置设有轴承(10)。3.根据权利要求1所述的一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构，其特征在于：所述固定块(3)外壁同轴线固接密封块(21)，所述密封块(21)滑动连接在密封槽(22)内，所述密封槽(22)为反应釜(1)上端开设的槽，所述密封块(21)采用紧固螺栓(23)连接在密封槽(22)内，所述密封槽(22)内壁同轴线固接下密封块(27)，所述下密封块(27)滑动连接在上密封槽(28)内，所述上密封槽(28)为密封块(21)下端开设的槽。4.根据权利要求3所述的一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构，其特征在于：所述下密封块(27)为纵向截面为梯形的圆环块结构，所述上密封槽(28)为纵向截面为梯形的环形凹槽结构，所述上密封槽(28)与下密封块(27)接触位置设有密封圈(29)。5.根据权利要求4所述的一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构，其特征在于：位于下密封块(27)外侧的密封槽(22)内壁同轴线开设下密封槽(31)，所述下密封槽(31)内部滑动连接上密封块(30)，所述上密封块(30)固接在密封块(21)下端。
技术总结本申请涉及一种稳定磁力耦合搅拌轴的定位结构，其包括反应釜，反应釜上端设有电机，电机驱动搅拌轴旋转，搅拌轴贯穿固定块且和转接在其内部，固定块安装在反应釜上端，反应釜内壁连接磁力座，磁力座侧壁采用螺栓连接气缸，气缸驱动固接在推杆上的定位块移动，定位块卡接在限位块内，限位块同轴线固接在搅拌轴外壁，限位块外的轴承始终接触连接在定位块内壁，避免了搅拌轴旋转引离心力导致的偏移和晃动，对搅拌轴进行支撑定位，且根据不同的反应釜可以控制气缸调整推杆上固接的定位块移动，从而适应不同大小的反应釜，适用性更高。适用性更高。适用性更高。
技术研发人员：杜安虎 郭兴宽
受保护的技术使用者：合肥赛芙特仪器有限公司
技术研发日：2022.05.25
技术公布日：2022/12/16
