1.本实用新型属于靶材加工技术领域，更具体而言，涉及一种旋转靶材烧结用支架。
背景技术：2.旋转靶材在烧结时，一般是呈竖直状态布置，这种情况下，旋转靶材的内腔很难与氧气接触，导致旋转靶材烧结不够充分，影响旋转靶材烧结后的质量。
3.cn112898014a公开了一种ito颗粒的气氛烧结方法，其提到ito素坯在烧结炉中烧结，烧结炉内设置有用于放置ito素坯的支撑装置，支撑装置包括固定在所述烧结炉内的固定板，所述固定板顶面设置有用于放置所述ito素坯的放置面，所述放置面为倾斜设置，所述放置面上开设有用于氧气填充的凹槽，所述凹槽设置有多个，多个所述凹槽沿所述放置面倾斜方向等间距布置。
4.上述支撑装置通过在放置面上设置凹槽，来为平面靶材的背面供氧，使平面靶材的背面可以与氧气充分接触，但是该支撑装置无法适用于旋转靶材，其结构无法为旋转靶材的内腔供氧。
技术实现要素：5.本实用新型的主要目的在于提供一种旋转靶材烧结用支架，旨在可为旋转靶材的内腔供氧，提高旋转靶材的烧结质量。
6.根据本实用新型的第一方面，提供了一种旋转靶材烧结用支架，包括底板，所述底板上设有一用于供旋转靶材套设的支撑柱，所述支撑柱的外径小于旋转靶材的内径，所述支撑柱的外壁和旋转靶材的内壁之间形成一腔室，所述支撑柱和/或底板上设有若干个与腔室连通的供氧孔。
7.上述的旋转靶材烧结用支架中，所述供氧孔为多个且均设置在底板上。
8.上述的旋转靶材烧结用支架中，所述供氧孔围绕所述支撑柱周向均布。
9.上述的旋转靶材烧结用支架中，所述底板的底面设有一朝下开放的凹腔，所述供氧孔与凹腔连通，所述底板的底面还设有若干个氧气流道，所述氧气流道的一端与凹腔连通，所述氧气流道的另一端位于底板的侧面上形成开口。
10.上述的旋转靶材烧结用支架中，所述凹腔为环绕所述支撑柱布置的环形腔体。
11.上述的旋转靶材烧结用支架中，所述底板为矩形，所述氧气流道沿底板的长度方向延伸，所述氧气流道为沿凹腔的径向对称布置的两个。
12.上述的旋转靶材烧结用支架中，所述底板的厚度为15-35mm；所述支撑柱的高度为所述底板的长度的2-4倍。
13.上述的旋转靶材烧结用支架中，所述供氧孔的直径为5-10mm。
14.上述的旋转靶材烧结用支架中，所述底板和支撑柱的材质可为氧化铝或碳化硅。
15.本实用新型上述技术方案中的一个技术方案至少具有如下优点或有益效果之一：
16.本实用新型中设有支撑柱，旋转靶材会套设在支撑柱外部，当旋转靶材倒塌时，支
撑柱可以提供必要的支撑；而支撑柱的直径是小于旋转靶材的内径的，在支撑柱和旋转靶材之间形成一个腔室，还设有供氧孔，外设供氧设备会与供氧孔连接，让供氧孔向腔室内供氧，使腔室内含有大量的氧气，旋转靶材在烧结过程中氧气浓度较高，这样有利于抑制二氧化锡的挥发，进而有利于旋转靶材密度的提高。
附图说明
17.下面结合附图和实施例对本实用新型进一步地说明；
18.图1是本实用新型第一实施例的结构示意图；
19.图2是本实用新型第一实施例的另一个结构示意图；
20.图3是本实用新型第一实施例使用时的结构示意图；
21.图4是本实用新型第一实施例使用时的结构剖视图；
22.图5是本实用新型第一实施例的图4的a的局部放大图。
具体实施方式
23.下面详细描述本实用新型的实施方式，实施方式的示例在附图中示出，其中相同或类似的标号自始至终表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
24.下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本实用新型的不同方案。
25.参照图1至图5所示，本实用新型一个实施例中，提供一种旋转靶材烧结用支架，包括底板1，底板1上设有一用于供旋转靶材套设的支撑柱2，当旋转靶材倒塌时，支撑柱2可以为旋转靶材提供必要的支撑；支撑柱2的外径小于旋转靶材的内径，支撑柱2的外壁和旋转靶材的内壁之间形成一腔室3，支撑柱2和/或底板1上设有若干个与腔室3连通的供氧孔4，外设供氧设备会与供氧孔4连接，让供氧孔4向腔室3内供氧，使腔室3内含有大量的氧气，旋转靶材的内壁可以与氧气充分接触，旋转靶材在烧结过程中氧气浓度较高，这样有利于抑制二氧化锡的挥发，有利于旋转靶材密度的提高。
26.需要说明的是，该供氧孔4可以只设置在支撑柱2上或只设置在底板1上，甚至可以在支撑柱2和底板1上都设置，只要让供氧孔4与腔室3连通即可。
27.优选地，供氧孔4为多个且均设置在底板1上，相比较将供氧孔4设置在支撑柱2上，将供氧孔4设置在底板1上会更加便捷，当供氧孔4设置在支撑柱2上时，需要考虑旋转靶材的放料和取料问题，要避免旋转靶材拿取时与外设供氧设备的供氧管道发生干涉，而将供氧孔4设置在底板1上则没有这些问题。
28.本实施例中，供氧孔4为3-12个；作为本实施例的具体表现形式，供氧孔4为4个。
29.本实施例中，供氧孔4的直径为5-10mm；并不是说腔室3的宽度一定要大于供氧孔4的直径，其实，只需要供氧孔4有一部分裸露到腔室3中即可，支撑柱2的直径与旋转靶材的内径之差不会很大，这样子支撑柱2才可以有一定的支撑作用，而旋转靶材放置到底板1上时，会遮盖住供氧孔4的一部分，供氧孔4没有被旋转靶材的底部遮盖的部分会与腔室3连通，以此为腔室3供氧。
30.优选地，供氧孔4围绕支撑柱2周向均布，腔室3是由旋转靶材的内壁和支撑柱2的
外壁所围成的，那么腔室3也是环状，供氧孔4的布局会更加适应腔室3的形状，均匀的释放氧气。
31.在实际烧结时，如果是冷的氧气直接排放至腔室3中，与旋转靶材的内壁一接触容易导致旋转靶材开裂，所以需要对输入的氧气进行一个预热；为此，在底板1的底面设有一朝下开放的凹腔11，供氧孔4与凹腔11连通，底板1的底面还设有若干个氧气流道12，氧气流道12的一端与凹腔11连通，氧气流道12的另一端位于底板1的侧面上形成开口；
32.外设供氧设备通过开口将氧气输送进氧气流道12，氧气经过氧气流道12到达凹腔11内，凹腔11中的氧气便可以进入到供氧孔4中，由于底板1也会处于烧结炉中，那么底板1本身就具有较高的温度，氧气在氧气流道12和凹腔11中便可进行预热，预热后的氧气再通过供氧孔4进入腔室3，便不会导致旋转靶材开裂。
33.在具体的实施方式中，底板1是会放置在氧化锡粉末上的，氧化锡粉末有助于旋转靶材的收缩移动，避免旋转靶材开裂和倒塌；所以凹腔11朝下开放并不会导致氧气全部泄漏，有着氧化锡粉末的封堵，大部分的氧气还是会经过供氧孔4进入到腔室3中；同理，氧气流道12靠下的一侧也可以是开放的，在氧化锡粉末的封堵下并不会出现大量的泄漏。
34.优选地，凹腔11为环绕支撑柱2布置的环形腔体，可以适应腔室3的形状，方便供氧孔4的布置。
35.优选地，底板1为矩形，氧气流道12沿底板1的长度方向延伸，可以使氧气流道12的长度尽可能长，有利于加热氧气流道12内的氧气；氧气流道12为沿凹腔11的径向对称布置的两个，分流输送氧气，氧气的加热效率比较高。
36.本实施例中，底板1的厚度为15-35mm，使整个支架具有足够的稳定性，不会轻易倒塌；由于旋转靶材是比较长的，所以支撑柱2的高度也会比较高，为了确保支架有足够的稳定性，支撑柱2的高度为底板1的长度的2-4倍，使底板1可以配合支撑柱2的高度，有着足够的长度来防止支架倒塌。
37.作为本实施例的具体表现形式，支撑柱2的高度为底板1的长度的2倍。
38.优选地，底板1可为正方形。
39.本实施例中，底板1和支撑柱2的材质可为氧化铝或碳化硅，在高温下变形较小，也不容易开裂。
40.同时，为了减轻支架的重量，支撑柱2可以是中空的。
41.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施方式，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施方式进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。
技术特征：1.一种旋转靶材烧结用支架，其特征在于，包括底板(1)，所述底板(1)上设有一用于供旋转靶材套设的支撑柱(2)，所述支撑柱(2)的外径小于旋转靶材的内径，所述支撑柱(2)的外壁和旋转靶材的内壁之间形成一腔室(3)，所述支撑柱(2)和/或底板(1)上设有若干个与腔室(3)连通的供氧孔(4)。2.根据权利要求1所述的旋转靶材烧结用支架，其特征在于，所述供氧孔(4)为多个且均设置在底板(1)上。3.根据权利要求2所述的旋转靶材烧结用支架，其特征在于，所述供氧孔(4)围绕所述支撑柱(2)周向均布。4.根据权利要求3所述的旋转靶材烧结用支架，其特征在于，所述底板(1)的底面设有一朝下开放的凹腔(11)，所述供氧孔(4)与凹腔(11)连通，所述底板(1)的底面还设有若干个氧气流道(12)，所述氧气流道(12)的一端与凹腔(11)连通，所述氧气流道(12)的另一端位于底板(1)的侧面上形成开口。5.根据权利要求4所述的旋转靶材烧结用支架，其特征在于，所述凹腔(11)为环绕所述支撑柱(2)布置的环形腔体。6.根据权利要求5所述的旋转靶材烧结用支架，其特征在于，所述底板(1)为矩形，所述氧气流道(12)沿底板(1)的长度方向延伸，所述氧气流道(12)为两个且沿凹腔(11)的径向对称布置。7.根据权利要求6所述的旋转靶材烧结用支架，其特征在于，所述底板(1)的厚度为15-35mm；所述支撑柱(2)的高度为所述底板(1)的长度的2-4倍。8.根据权利要求1所述的旋转靶材烧结用支架，其特征在于，所述供氧孔(4)的直径为5-10mm。9.根据权利要求1所述的旋转靶材烧结用支架，其特征在于，所述底板(1)和支撑柱(2)的材质可为氧化铝或碳化硅。
技术总结本实用新型公开了一种旋转靶材烧结用支架，旨在可为旋转靶材的内腔供氧，提高旋转靶材的烧结质量，其技术方案：一种旋转靶材烧结用支架，包括底板，所述底板上设有一用于供旋转靶材套设的支撑柱，所述支撑柱的外径小于旋转靶材的内径，所述支撑柱的外壁和旋转靶材的内壁之间形成一腔室，所述支撑柱和/或底板上设有若干个与腔室连通的供氧孔，属于靶材加工技术领域。技术领域。技术领域。
技术研发人员：刘文杰 李帅 王梓通 钟小华 童培云 朱刘
受保护的技术使用者：先导薄膜材料（广东）有限公司
技术研发日：2022.05.25
技术公布日：2022/12/16
