内浮顶排液装置的制作方法

专利2022-06-29  81


技术领域:

本实用新型涉及一种能排出内浮顶顶部积液的装置。



背景技术:

目前内浮顶在工作时,因冷凝液下落、盘面泄露、内浮顶下面压力过大将液体冲击至盘面上等原因会在内浮顶顶部产生积液,当积液过多时,影响检、维修工作,严重会发生沉盘事故。浮顶上部液体通过蒸汽蒸罐也不能解决问题,安全隐患较大。



技术实现要素:

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种不用清罐,能将内浮顶顶部积液排至内浮顶下面液体中,从而避免因积液聚集而造成沉盘事故的内浮顶排液装置。

上述目的是这样实现的:它包括排液槽,排液槽的中部固定有隔板,隔板上设有孔,还包括倒u形的上排液管,倒u形的上排液管右端插入到隔板的孔内并且倒u形的上排液管固定在孔壁上,倒u形的上排液管的左端伸入到排液槽内。

隔板下方的排液槽内的空间为积气腔,排液槽的槽底设有孔,下排液管的上端插入到排液槽槽底的孔内,并且下排液管固定在槽底的孔壁上。

其中下排液管下端与排液槽上端之间的距离大于上排液管左端开口与上排液管最高处之间的距离。

在内浮顶中央设开口,将排液槽顶部固定在开口处的内浮顶下表面上,在排液槽和内浮顶接触的部位采用满角焊。在储罐进液时,下排液管会进入液体,当液体将浮顶浮顶时,通过下排液管进入的液体会冲满下排液管、积气腔、直至上排液管一部分(上排液管内部液体高度与罐内液体高度基本一致)。积气腔内的气体会通过倒u型管排出。当内浮顶顶部有积液时,积液会从浮顶开口处流入至隔板上方的排液槽内,并在此聚集,此时倒u形上排液管的左端位于积液液面下方。当罐内液体排放至液面高度低于下排液管下口时,下排液管内的液体在重力作用下向下移动,在倒u形的上排液管内部气体产生负压,导致隔板上方的排液槽内的液体被吸进上排液管,从而使液体源源不断地经积气腔、下排液管流入至浮顶底部。

本实用新型的优点是:在不清罐的情况下,无需设备、人员进入罐内,靠液体排放能将内浮顶顶部的积液排放至内浮顶下方,防止积液过多,一是避免了因积液过多出现沉盘事故;二是储罐维修时罐内有液体人员不能进入作业,本装置结构简单,适于推广应用。

附图说明:

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式:

参照图1,它包括排液槽1,排液槽的中部固定有隔板2,隔板上设有孔,还包括倒u形的上排液管3,倒u形的上排液管右端插入到隔板的孔内并且倒u形的上排液管固定在孔壁上,倒u形的上排液管的左端伸入到排液槽内。

隔板下方的排液槽内的空间为积气腔4,排液槽的槽底设有孔,下排液管5的上端插入到排液槽槽底的孔内,并且下排液管固定在槽底的孔壁上。

其中下排液管下端与排液槽上端之间的距离大于上排液管左端开口与上排液管最高处之间的距离。

在内浮顶6中央设开口,将排液槽顶部固定在开口处的内浮顶下表面上,在排液槽和内浮顶接触的部位采用满角焊。在储罐进液时,下排液管会进入液体,当液体将浮顶浮顶时,通过下排液管进入的液体会冲满下排液管、积气腔、直至上排液管一部分(上排液管内部液体高度与罐内液体高度基本一致)。积气腔内的气体会通过倒u型管排出。当内浮顶顶部有积液时,积液会从浮顶开口处流入至隔板上方的排液槽内,并在此聚集,此时倒u形上排液管的左端位于积液液面下方。当罐内液体排放至液面高度低于下排液管下口时,下排液管内的液体在重力作用下向下移动,在倒u形的上排液管内部气体产生负压,导致隔板上方的排液槽内的液体被吸进上排液管,从而使液体源源不断地经积气腔、下排液管流入至浮顶底部。


技术特征:

1.内浮顶排液装置,其特征是:包括排液槽(1),排液槽的中部固定有隔板(2),隔板上设有孔,还包括倒u形的上排液管(3),倒u形的上排液管右端插入到隔板的孔内并且倒u形的上排液管固定在孔壁上,倒u形的上排液管的左端伸入到排液槽内;

隔板下方的排液槽内的空间为积气腔(4),排液槽的槽底设有孔,下排液管(5)的上端插入到排液槽槽底的孔内,并且下排液管固定在槽底的孔壁上。

2.按照权利要求1所述的内浮顶排液装置,其特征是:下排液管下端与排液槽上端之间的距离大于上排液管左端开口与上排液管最高处之间的距离。

技术总结
内浮顶排液装置涉及一种能排出内浮顶顶部积液的装置。主要是为解决目前内浮顶工作时顶部产生的积液会影响维修工作,发生沉盘事故的问题而设计的。它包括排液槽,排液槽的中部固定有隔板,隔板上设有孔,还包括倒U形的上排液管,倒U形的上排液管右端插入到隔板的孔内并且倒U形的上排液管固定在孔壁上,倒U形的上排液管的左端伸入到排液槽内。隔板下方的排液槽内的空间为积气腔,排液槽的槽底设有孔,下排液管的上端插入到排液槽槽底的孔内,并且下排液管固定在槽底的孔壁上。其中下排液管下端与排液槽上端之间的距离大于上排液管左端开口与上排液管最高处之间的距离。优点是能将内浮顶顶部的积液排放至内浮顶下方。

技术研发人员:孙宝祥;吴永浩;孙恺鸣;何国阳;孙野
受保护的技术使用者:孙宝祥
技术研发日:2019.07.06
技术公布日:2020.06.09

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