本发明是有关于一种彩色滤光片及彩色滤光片的制造方法。
背景技术：
近年来对于液晶显器的各种需求皆在上升。在显示装置的领域中，轻薄且大尺寸的平板显示器(fpd)已经快速取代大体积的阴极射线管(cathoderaytube，crt)。例如，已经开发并且广泛使用的各种平板显示器，包括液晶显示器(liquidcrystaldisplay，lcd)、等离子体显示面板(plasmadisplaypanel，pdp)、有机发光显示器(organiclight-emittingdiode，oled)、场发射显示装置(fieldemissiondisplay，fed)、电泳显示器(electro-phoreticdisplay，ed)等，而液晶显示器目前仍为市售显示器的主流。以目前使用的红色/绿色荧光粉发光二极管(led)搭配高色彩饱和度的彩色滤光片(colorfilter，cf)，虽然可以大幅提升色彩饱和度，但也造成透过率大幅衰减，色域却仍难以达到要求。为了能轻易提升色彩饱和度，并维持相当的透过率，业界已导入了量子点(quantumdot，qd)的技术，也越来越多厂商开发此材料的应用性及其效能。
虽然量子点应用于背光已实际商品化，但仍有效能损失与量子点使用寿命上的问题。因绿色及红色量子点靠近背光，蓝光发光二极管的激发光不会选择性的激发，故当进入液晶显示器的彩色滤光片时，即会有一半的光效能会损失。目前使用量较高的量子点膜(qdfilm)则使用量子点粒子加入高分子中形成量子点膜，量子点粒子的使用量大，相对成本也较高。而封装在发光二极管中与制作量子点管的方法，则因太接近激发光源，因而使其使用寿命大幅降低。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种彩色滤光片，其可避免异常光造成混色的问题。
本发明的一方面是提供一种彩色滤光片，其包含透明基板、图案化吸光层、红色次像素、绿色次像素、蓝色次像素以及偏光片。图案化吸光层设置于透明基板上且包含多个开口。红色次像素、绿色次像素及蓝色次像素各自设置于这些开口的对应的一个中。红色次像素包含红色光阻以及位于红色光阻上的红色量子点层，绿色次像素包含绿色光阻以及位于绿色光阻上的绿色量子点层，且蓝色次像素包含蓝色光阻。偏光片设置于红色次像素、绿色次像素及蓝色次像素上方。
根据本发明某些实施方式，图案化吸光层具有高度为2.2至4.2微米。
根据本发明某些实施方式，彩色滤光片还包含保护层覆盖红色次像素、绿色次像素、蓝色次像素和图案化吸光层，并夹置在红色次像素与偏光片之间。
根据本发明某些实施方式，蓝色次像素延伸覆盖红色次像素、绿色次像素和图案化吸光层。
本发明的另一方面是提供一种彩色滤光片，其包含透明基板、图案化吸光层、图案化蓝色光阻层、红色次像素、绿色次像素、蓝色次像素以及偏光片。图案化吸光层设置于透明基板上且包含多个第一开口。图案化蓝色光阻层设置于图案化吸光层上。图案化蓝色光阻层包含多个第二开口，且第二开口大致对准第一开口。红色次像素、绿色次像素及蓝色次像素各自设置于第一开口的对应的一个中。红色次像素包含红色光阻以及位于红色光阻上的红色量子点层，绿色次像素包含绿色光阻以及位于绿色光阻上的绿色量子点层，且蓝色次像素包含蓝色光阻。偏光片设置于红色次像素、绿色次像素及蓝色次像素上方。
根据本发明某些实施方式，图案化吸光层具有高度为0.2至2.2微米。
根据本发明某些实施方式，图案化蓝色光阻层具有高度为1至3微米。
根据本发明某些实施方式，彩色滤光片还包含保护层覆盖红色次像素、绿色次像素、蓝色次像素和图案化蓝色光阻层，并夹置在红色次像素与偏光片之间。
根据本发明某些实施方式，图案化蓝色光阻层延伸覆盖红色量子点层和绿色量子点层。
本发明的另一方面是提供一种彩色滤光片的制造方法，此方法的步骤包括：在透明基板上形成图案化吸光层，其中图案化吸光层包含多个开口。在开口的对应的一个中形成红色次像素，在开口的对应的一个中形成绿色次像素，以及在开口的对应的一个中形成蓝色次像素。红色次像素包含红色光阻以及位于红色光阻上的红色量子点层，绿色次像素包含绿色光阻以及位于绿色光阻上的绿色量子点层，且蓝色次像素包含蓝色光阻。在红色次像素、绿色次像素及蓝色次像素上方设置偏光片。
根据本发明某些实施方式，在形成红色次像素、绿色次像素及蓝色次像素的步骤之后且在设置偏光片的步骤之前，还包含形成保护层覆盖红色次像素、绿色次像素、蓝色次像素和图案化吸光层。
根据本发明某些实施方式，在形成保护层的步骤之后且在设置偏光片的步骤之前，还包含平坦化保护层。
根据本发明某些实施方式，图案化吸光层具有高度为2.2至4.2微米。
本发明的另一方面是提供一种彩色滤光片的制造方法，此方法的步骤包括：在透明基板上形成图案化吸光层，其中图案化吸光层包含多个开口。在开口的对应的一个中形成红色次像素以及在开口的对应的一个中形成绿色次像素。红色次像素包含红色光阻以及位于红色光阻上的红色量子点层，且绿色次像素包含绿色光阻以及位于绿色光阻上的绿色量子点层。形成蓝色次像素覆盖红色次像素、绿色次像素和图案化吸光层。在蓝色次像素上方设置偏光片。
根据本发明某些实施方式，在形成蓝色次像素的步骤之后且在设置偏光片的步骤之前，还包含平坦化蓝色次像素。
根据本发明某些实施方式，红色次像素及绿色次像素的顶表面高于图案化吸光层的顶表面。
本发明的另一方面是提供一种彩色滤光片的制造方法，此方法的步骤包括：在透明基板上形成图案化吸光层，其中图案化吸光层包含多个第一开口。在透明基板上形成图案化蓝色光阻层。图案化蓝色光阻层包含第一部分和第二部分，其中第一部分位于图案化吸光层上且包含多个第二开口大致对准第一开口，第二部分位于第一开口的对应的一个中。在第一开口的对应的一个中形成红色次像素以及在第一开口的对应的一个中形成绿色次像素。红色次像素包含红色光阻以及位于红色光阻上的红色量子点层，且绿色次像素包含绿色光阻以及位于绿色光阻上的绿色量子点层。设置偏光片于图案化蓝色光阻层、红色次像素和绿色次像素上。
根据本发明某些实施方式，在形成红色次像素及绿色次像素的步骤之后且在设置偏光片的步骤之前，还包含形成保护层覆盖红色次像素、绿色次像素和图案化蓝色光阻层。
本发明的又一方面是提供一种彩色滤光片的制造方法，此方法的步骤包括：在透明基板上形成图案化吸光层，其中图案化吸光层包含多个第一开口。在第一开口的对应的一个中形成红色光阻以及在第一开口的对应的一个中形成绿色光阻。在图案化吸光层上形成图案化光阻层。图案化光阻层包含多个第二开口，且这些第二开口大致对准第一开口。在第二开口的对应的一个中形成红色量子点层以及在第二开口的对应的一个中形成绿色量子点层。移除图案化光阻层。形成蓝色光阻层覆盖图案化吸光层、红色量子点层及绿色量子点层。在蓝色光阻层上设置偏光片。
根据本发明某些实施方式，在形成蓝色光阻层的步骤之后且在设置偏光片的步骤之前，还包含平坦化蓝色光阻层。
与现有技术相比，本发明的彩色滤光片及其制造方法，具有可避免异常光造成混色的问题和可以延长使用寿命的有益效果。
附图说明
为让本发明的上述和其他目的、特征、优点与实施例能更明显易懂，结合附图详细说明如下：
图1绘示根据本发明一实施方式的彩色滤光片的剖面示意图。
图2绘示根据本发明另一实施方式的彩色滤光片的剖面示意图。
图3绘示根据本发明又一实施方式的彩色滤光片的剖面示意图。
图4绘示根据本发明再一实施方式的彩色滤光片的剖面示意图。
图5绘示根据本发明又再一实施方式的彩色滤光片的剖面示意图。
图6a至图6d绘示根据本发明一实施方式各阶段制造彩色滤光片的剖面示意图。
图7a至图7d绘示根据本发明另一实施方式各阶段制造彩色滤光片的剖面示意图。
图8a至图8d绘示根据本发明又一实施方式各阶段制造彩色滤光片的剖面示意图。
图9a至图9e绘示根据本发明再一实施方式各阶段制造彩色滤光片的剖面示意图。
图10a至图10g绘示根据本发明又再一实施方式各阶段制造彩色滤光片的剖面示意图。
具体实施方式
为了使本揭示内容的叙述更加详尽与完备，可参照所附的附图及以下所述各种实施方式，附图中相同之号码代表相同或相似之元件。
本发明的一方面是提供一种彩色滤光片。图1绘示根据本发明一实施方式的彩色滤光片10a的剖面示意图。彩色滤光片10a包含透明基板110、图案化吸光层120、红色次像素130、绿色次像素140、蓝色次像素150以及偏光片160。具体的说，图案化吸光层120设置于透明基板110上，且图案化吸光层120包含多个开口120a。更详细的说，如图1所示，位于透明基板110上的图案化吸光层120，其开口120a定义出多个次像素区域。在多个实施例中，透明基板110可为塑胶基板、玻璃基板或石英基板。在多个实施例中，图案化吸光层120为黑色矩阵(blackmatrix，bm)。在多个实施例中，图案化吸光层120可因不同的制作方式而具有不同的剖面轮廓，例如梯形或矩形。在一实施例中，图案化吸光层120具有高度120h为2.2微米至4.2微米，例如可为2.4微米、2.6微米、2.8微米、3.0微米、3.2微米、3.4微米、3.6微米、3.8微米或4.0微米。
请继续参阅图1，红色次像素130、绿色次像素140及蓝色次像素150各自设置于对应的一个开口120a中。更详细的说，红色次像素130包含红色光阻132以及位于红色光阻132上的红色量子点层134；绿色次像素140包含绿色光阻142以及位于绿色光阻142上的绿色量子点层144；以及蓝色次像素150包含蓝色光阻152。可以理解的是，当使用短波长(例如，蓝光或紫外线)光源激发量子点层134/144时，其中的量子点会发出特定波长的光，如绿光和/或红光，进而达到色转换的效果。然而，量子点被激发所产生的光并无方向性，容易从相邻的次像素散射出去，而造成异常混光的问题。因此，本实施方式通过具有2.2微米至4.2微米高度的图案化吸光层120来阻隔相邻次像素之间的混光问题。此外，未激发量子点的短波长激发光或来自环境的各波长混色光也会影响量子点，使其不正常发光，因此本实施方式在红色量子点层134和绿色量子点层144的下方(出光处)再分别加入红色光阻132和绿色光阻142，其可吸收掉短波长的激发光，且不会影响量子点之发射光。在其他实施例中，蓝色次像素150也可以包含蓝色光阻152以及位于蓝色光阻152上的蓝色量子点层(图未示)。
在多个实施例中，红色量子点层134可包含cdse、inp以及化学通式为cspb(br1-bib)3，其中当0.5≦b≦1时的全无机钙钛矿量子点。在多个实施例中，绿色量子点层144可包含cdse、cds、cdte、slnp、inn、alinn、ingan、algainn、cuingase以及化学通式为cspb(br1-bib)3，其中当0≦b＜0.5时的全无机钙钛矿量子点。在多个实施例中，蓝色量子点层(图未示)可包含化学通式为cspb(clabr1-a)3，其中当0＜a≦1时的全无机钙钛矿量子点。
请继续参阅图1，偏光片160设置于红色次像素130、绿色次像素140及蓝色次像素150上方。如上所述，由于量子点被激发所产生的光并非偏振光，所以在应用上，例如液晶显示器，会造成液晶显示器的液晶层无光阀效果，进而无法显示黑白和调阶。因此，本实施方式在激发光源(例如，蓝光发光二极管或紫外线光源)(图未示)进入彩色滤光片10a的量子点层134/144之前，先经过偏光片160，将激发光源转换成偏振光后，使得液晶显示器的液晶层得以具有光阀特性。
如图1所示，在多个实施例中，彩色滤光片10a可以还包含保护层170覆盖红色次像素130、绿色次像素140、蓝色次像素150和图案化吸光层120。具体的说，保护层170夹置在红色次像素130(绿色次像素140或蓝色次像素150)与偏光片160之间。在多个实施例中，保护层170包含硅胶、树脂、玻璃、石英或其他合适的透明材料。保护层170可以增加屏蔽水气入侵的面积，保护量子点层134/144免于受到水气的干扰，进而提升产品的信赖性及使用寿命。
下文将依序介绍其他的各种实施例及比较例，且为了便于比较与上述实施方式的相异处并简化说明，在下文的各实施例中使用相同的符号标注相同的元件，且主要针对各实施方式的相异处进行说明，而不再对重复部分进行赘述。图2绘示根据本发明另一实施方式的彩色滤光片10b的剖面示意图。彩色滤光片10b与彩色滤光片10a的不同之处在于：彩色滤光片10b不包含保护层170，且彩色滤光片10b的蓝色次像素150是延伸覆盖红色次像素130、绿色次像素140和图案化吸光层120。也就是说，覆盖红色次像素130和绿色次像素140的部分的蓝色次像素150具有保护的功效，例如可以用以保护红色次像素130和绿色次像素140中的量子点层134/144免于受到水气的干扰。
图3绘示根据本发明又一实施方式的彩色滤光片10c的剖面示意图。彩色滤光片10c包含透明基板110、图案化吸光层120、图案化蓝色光阻层156、红色次像素130、绿色次像素140、蓝色次像素150以及偏光片160。具体的说，图案化吸光层120设置于透明基板110上，且图案化吸光层120包含多个第一开口120a。在本实施方式中，图案化吸光层120具有高度120h为0.2微米至2.2微米，例如可为0.4微米、0.6微米、0.8微米、1.0微米、1.2微米、1.4微米、1.6微米、1.8微米或2.0微米。图案化蓝色光阻层156设置于图案化吸光层120上。在多个实施例中，图案化蓝色光阻层156的宽度可以小于或实质上等于图案化吸光层120的宽度。在本实施方式中，图案化蓝色光阻层156具有高度156h为1.0微米至3.0微米，例如可为1.2微米、1.4微米、1.6微米、1.8微米、2.0微米、2.2微米、2.4微米、2.6微米或2.8微米。图案化蓝色光阻层156包含多个第二开口156a，且第二开口156a大致对准第一开口120a。在多个实施例中，第二开口156a的宽度可以大于或实质上等于第一开口120a的宽度。
请继续参阅图3，红色次像素130、绿色次像素140及蓝色次像素150各自设置于对应的一个第一开口120a(或第二开口156a)中。更详细的说，红色次像素130包含红色光阻132以及位于红色光阻132上的红色量子点层134；绿色次像素140包含绿色光阻142以及位于绿色光阻142上的绿色量子点层144；以及蓝色次像素150包含蓝色光阻152。在其他实施例中，蓝色次像素150也可以包含蓝色光阻152以及位于蓝色光阻152上的蓝色量子点层(图未示)。有关红色次像素130、绿色次像素140及蓝色次像素150的详细内容可参照前文叙述，在此不再赘述。
如图3所示，在一些实施例中，红色光阻132和绿色光阻142的顶表面可高于图案化吸光层120的顶表面，且红色光阻132和绿色光阻142可覆盖图案化吸光层120顶表面的一部分。在一些实施例中，红色量子点层134和绿色量子点层144的顶表面低于图案化蓝色光阻层156的顶表面。在一些实施例中，红色量子点层134和绿色量子点层144是分别完全覆盖红色光阻132和绿色光阻142，且覆盖图案化吸光层120顶表面的一部分。在一实施例中，蓝色光阻152与图案化蓝色光阻层156具有实质上相同的高度。也就是说，蓝色光阻152的顶表面与图案化蓝色光阻层156的顶表面实质上齐平。在多个实施例中，图案化蓝色光阻层156延伸覆盖红色次像素130和绿色次像素140。更详细的说，图案化蓝色光阻层156延伸覆盖红色量子点层134和绿色量子点层144的顶表面。应注意，本实施方式中，蓝色次像素150的蓝色光阻152与图案化蓝色光阻层156包含相同的材料，因此，蓝色次像素150的蓝色光阻152与图案化蓝色光阻层156之间不具有明显的界线。
请继续参阅图3，偏光片160设置于红色次像素130、绿色次像素140和蓝色次像素150上方。如上所述，由于量子点被激发所产生的光并非偏振光，所以在应用上，例如液晶显示器，会造成液晶显示器的液晶层无光阀效果，进而无法显示黑白和调阶。因此，本实施方式在激发光源(例如，蓝光发光二极管或紫外线光源)(图未示)进入彩色滤光片10c的量子点层134/144之前，先经过偏光片160，将激发光源转换成偏振光后，使得液晶显示器的液晶层得以具有光阀特性。
图4绘示根据本发明再一实施方式的彩色滤光片10d的剖面示意图。彩色滤光片10d与彩色滤光片10c的不同之处在于：彩色滤光片10d还包含保护层170覆盖红色次像素130、绿色次像素140、蓝色次像素150和图案化蓝色光阻层156。更详细的说，保护层170是夹置在红色次像素130(绿色次像素140或蓝色次像素150)与偏光片160之间。保护层170可以增加屏蔽水气入侵的面积，保护量子点层134/144免于受到水气的干扰，进而提升产品的信赖性及使用寿命。
图5绘示根据本发明又再一实施方式的彩色滤光片10e的剖面示意图。彩色滤光片10e与彩色滤光片10c的不同之处在于：彩色滤光片10e的红色量子点层134和绿色量子点层144分别不完全覆盖红色光阻132和绿色光阻142。更详细的说，红色量子点层134和绿色量子点层144的底表面的宽度小于红色光阻132和绿色光阻142的顶表面的宽度。
本发明的另一方面是提供一种彩色滤光片的制造方法。图6a至图6d绘示根据本发明一实施方式各阶段制造彩色滤光片10a的剖面示意图。首先，在透明基板110上形成图案化吸光层120，如图6a所示。具体的说，图案化吸光层120包含多个开口120a。在一实施例中，图案化吸光层120具有高度120h为2.2微米至4.2微米，例如可为2.4微米、2.6微米、2.8微米、3.0微米、3.2微米、3.4微米、3.6微米、3.8微米或4.0微米。在多个实施例中，可以利用微影蚀刻的方式和/或其他合适的工艺来形成图案化吸光层120。
然后，在对应的一个开口120a中形成红色次像素120，在对应的一个开口120a中形成绿色次像素130，以及在对应的一个开口120a中形成蓝色次像素150，如图6b所示。更详细的说，红色次像素130包含红色光阻132以及位于红色光阻132上的红色量子点层134；绿色次像素140包含绿色光阻142以及位于绿色光阻142上的绿色量子点层144；以及蓝色次像素150包含蓝色光阻152。在其他实施例中，蓝色次像素150也可以包含蓝色光阻152以及位于蓝色光阻152上的蓝色量子点层(图未示)。有关红色次像素130、绿色次像素140及蓝色次像素150的详细内容可参照前文叙述，在此不再赘述。在一些实施例中，可以使用染色法(dyeing)、颜料分散法(pigmentdispersion)、电镀沉积法(electro-deposition)、印刷法(printing)和/或喷墨法(ink-jet)来形成这些次像素130/140/150。在一实施例中，可以先形成红色光阻132、绿色光阻142和蓝色光阻152，再分别形成红色量子点层134、绿色量子点层144和蓝色量子点层(图未示)于红色光阻132、绿色光阻142和蓝色光阻152上。应注意，红色光阻132、绿色光阻142和蓝色光阻152可以同时形成或依序形成。
在一实施例中，可以在形成红色次像素130、绿色次像素140和蓝色次像素150的步骤之后，形成保护层170覆盖红色次像素130、绿色次像素140、蓝色次像素150和图案化吸光层120，如图6c所示。保护层170可以增加屏蔽水气入侵的面积，保护量子点层134/144免于受到水气的干扰，进而提升产品的信赖性及使用寿命。在多个实施例中，可以使用涂布、印刷或其他合适的工艺来形成保护层170。在多个实施例中，可在形成保护层170的步骤之后，对保护层170进行平坦化工艺，使得保护层170具有更平坦表面，以利后续偏光片的设置。在多个实施例中，可以使用化学机械研磨(chemical-mechanicalplanarization，cmp)来平坦化保护层170。
接着，在红色次像素130、绿色次像素140和蓝色次像素150上方设置偏光片160，如图6d所示。更详细的说，偏光片160是设置于保护层170上，即完成如图1所示的彩色滤光片10a。如前文所述，由于量子点被激发所产生的光并非偏振光，所以在应用上，例如液晶显示器，会造成液晶显示器的液晶层无光阀效果，进而无法显示黑白和调阶。因此，本实施方式在激发光源(例如，蓝光发光二极管或紫外线光源)(图未示)进入彩色滤光片10a的量子点层134/144之前，先经过偏光片160，将激发光源转换成偏振光后，使得液晶显示器的液晶层得以具有光阀特性。
图7a至图7d绘示根据本发明另一实施方式各阶段制造彩色滤光片10b的剖面示意图。首先，在透明基板110上形成图案化吸光层120，如图7a所示。具体的说，图案化吸光层120包含多个开口120a。在一实施例中，图案化吸光层120具有高度120h为2.2微米至4.2微米，例如可为2.4微米、2.6微米、2.8微米、3.0微米、3.2微米、3.4微米、3.6微米、3.8微米或4.0微米。在多个实施例中，可以利用微影蚀刻的方式和/或其他合适的工艺来形成图案化吸光层120。
然后，在对应的一个开口120a中形成红色次像素130以及在对应的一个开口120a中形成绿色次像素140，如图7b所示。具体的说，红色次像素130包含红色光阻132以及位于红色光阻132上的红色量子点层134；以及绿色次像素140包含绿色光阻142以及位于绿色光阻142上的绿色量子点层144。有关红色次像素130和绿色次像素140的详细内容可参照前文叙述，在此不再赘述。在本实施方式中，红色次像素130和绿色次像素140的顶表面可低于或实质上齐平图案化吸光层120的顶表面。在一些实施例中，可以使用染色法(dyeing)、颜料分散法(pigmentdispersion)、电镀沉积法(electro-deposition)、印刷法(printing)和/或喷墨法(ink-jet)来形成红色次像素130和绿色次像素140。在一实施例中，可以先形成红色光阻132和绿色光阻142，再分别形成红色量子点层134和绿色量子点层144于红色光阻132和绿色光阻142上。应注意，红色光阻132和绿色光阻142可以同时形成或依序形成。
接着，形成蓝色次像素150覆盖红色次像素130、绿色次像素140和图案化吸光层120，如图7c所示。更详细的说，蓝色次像素150除了填充于对应的一个开口120a中之外，还延伸覆盖红色次像素130、绿色次像素140和图案化吸光层120。在一实施例中，蓝色次像素150包含蓝色光阻152。更详细的说，覆盖红色次像素130和绿色次像素140的部分的蓝色次像素150具有保护的功效，例如可以用以保护红色次像素130和绿色次像素140中的量子点层134/144免于受到水气的干扰。在一实施例中，可在形成蓝色次像素150的步骤之后，平坦化蓝色次像素150，使得蓝色次像素150具有更平坦表面，以利后续偏光片的设置。在多个实施例中，可以使用化学机械研磨(chemical-mechanicalplanarization，cmp)来平坦化蓝色次像素150。
接着，在蓝色次像素150上方设置偏光片160，如图7d所示。更详细的说，偏光片160完全覆盖蓝色次像素150，即完成如图2所示的彩色滤光片10b。有关偏光片160的技术效果可参照前文叙述，在此不再赘述。
图8a至图8d绘示根据本发明又一实施方式各阶段制造彩色滤光片10c的剖面示意图。首先，在透明基板110上形成图案化吸光层120，如图8a所示。具体的说，图案化吸光层120包含多个开口120a。在一实施例中，图案化吸光层120具有高度120h为0.2微米至2.2微米，例如可为0.4微米、0.6微米、0.8微米、1.0微米、1.2微米、1.4微米、1.6微米、1.8微米或2.0微米。在多个实施例中，可以利用微影蚀刻的方式和/或其他合适的工艺来形成图案化吸光层120。
然后，在对应的一个开口120a中形成红色次像素130以及在对应的一个开口120a中形成绿色次像素140，如图8b所示。具体的说，红色次像素130包含红色光阻132以及位于红色光阻132上的红色量子点层134；以及绿色次像素140包含绿色光阻142以及位于绿色光阻142上的绿色量子点层144。有关红色次像素130和绿色次像素140的详细内容可参照前文叙述，在此不再赘述。更详细的说，在本实施方式中，红色光阻132和绿色光阻142的顶表面可高于图案化吸光层120的顶表面，且红色光阻132和绿色光阻142可覆盖图案化吸光层120顶表面的一部分。红色量子点层134和绿色量子点层144是分别完全覆盖红色光阻132和绿色光阻142，且覆盖图案化吸光层120顶表面的一部分。在一些实施例中，可以使用染色法(dyeing)、颜料分散法(pigmentdispersion)、电镀沉积法(electro-deposition)、印刷法(printing)和/或喷墨法(ink-jet)来形成红色次像素130和绿色次像素140。在一实施例中，可以先形成红色光阻132和绿色光阻142，在红色光阻132和绿色光阻142上再分别形成红色量子点层134和绿色量子点层144。应注意，红色光阻132和绿色光阻142可以同时形成或依序形成。
接着，形成蓝色次像素150覆盖红色次像素130、绿色次像素140和图案化吸光层120，如图8c所示。更详细的说，蓝色次像素150除了填充于对应的一个开口120a中之外，还延伸覆盖红色次像素130、绿色次像素140和图案化吸光层120。在一实施例中，蓝色次像素150包含蓝色光阻152。更详细的说，覆盖红色次像素130和绿色次像素140的部分的蓝色次像素150具有保护的功效，例如可以用以保护红色次像素130和绿色次像素140中的量子点层134/144免于受到水气的干扰。在一实施例中，可在形成蓝色次像素150的步骤之后，对蓝色次像素150进行平坦化工艺，使得蓝色次像素150具有更平坦表面，以利后续偏光片的设置。在多个实施例中，可以使用化学机械研磨(chemical-mechanicalplanarization，cmp)来平坦化蓝色次像素150。
接着，在蓝色次像素150上方设置偏光片160，如图8d所示。更详细的说，偏光片160完全覆盖蓝色次像素150，即完成如图3所示的彩色滤光片10c。有关偏光片160的技术效果可参照前文叙述，在此不再赘述。
图9a至图9e绘示根据本发明再一实施方式各阶段制造彩色滤光片10d的剖面示意图。首先，在透明基板110上形成图案化吸光层120，如图9a所示。具体的说，图案化吸光层120包含多个第一开口120a。在一实施例中，图案化吸光层120具有高度120h为0.2微米至2.2微米，例如可为0.4微米、0.6微米、0.8微米、1.0微米、1.2微米、1.4微米、1.6微米、1.8微米或2.0微米。在多个实施例中，可以利用微影蚀刻的方式和/或其他合适的工艺来形成图案化吸光层120。
然后，在透明基板110上形成图案化蓝色光阻层150”，如图9b所示。具体的说，图案化蓝色光阻层150”包含第一部分156”和第二部分152”，其中第一部分156”位于图案化吸光层120上且包含多个第二开口156a”大致对准第一开口120a，而第二部分152”位于对应的一个第一开口120a中。更详细的说，图案化蓝色光阻层150”是由蓝色光阻所形成的，其中第一部分156”用以架高高度较低的图案化吸光层120，而第二部分152”则作为蓝色次像素之用。在多个实施例中，第一开口120a的宽度小于或实质上等于第二开口156a”的宽度。在多个实施例中，图案化蓝色光阻层150”的第一部分156”的顶表面实质上齐平第二部分152”的顶表面。
接着，在对应的一个第一开口120a中形成红色次像素130以及在对应的第一开口120a中形成绿色次像素140，如图9c所示。具体的说，红色次像素130包含红色光阻132以及位于红色光阻132上的红色量子点层134；以及绿色次像素140包含绿色光阻142以及位于绿色光阻142上的绿色量子点层144。有关红色次像素130和绿色次像素140的详细内容可参照前文叙述，在此不再赘述。在多个实施例中，红色次像素130和绿色次像素140的顶表面低于或实质上齐平图案化蓝色光阻层150”的顶表面。
在一实施例中，可在形成红色次像素130及绿色次像素140的步骤之后，形成保护层170覆盖图案化蓝色光阻层150”、红色次像素130和绿色次像素140，如图9d所示。保护层170可以增加屏蔽水气入侵的面积，保护量子点层134/144免于受到水气的干扰，进而提升产品的信赖性及使用寿命。在多个实施例中，可以使用涂布、印刷或其他合适的工艺来形成保护层170。在多个实施例中，可在形成保护层170的步骤之后，平坦化保护层170，使得保护层170具有更平坦表面，以利后续偏光片的设置。在多个实施例中，可以使用化学机械研磨(chemical-mechanicalplanarization，cmp)来平坦化保护层170。
接着，在图案化蓝色光阻层150”、红色次像素130和绿色次像素140上方设置偏光片160，如图9e所示。更详细的说，偏光片160完全覆盖保护层170，即完成如图4所示的彩色滤光片10d。有关偏光片160的技术效果可参照前文叙述，在此不再赘述。
图10a至图10g绘示根据本发明又再一实施方式各阶段制造彩色滤光片10e的剖面示意图。首先，在透明基板110上形成图案化吸光层120，如第图10a所示。具体的说，图案化吸光层120包含多个第一开口120a。在一实施例中，图案化吸光层120具有高度120h为0.2微米至2.2微米，例如可为0.4微米、0.6微米、0.8微米、1.0微米、1.2微米、1.4微米、1.6微米、1.8微米或2.0微米。在多个实施例中，可以利用微影蚀刻的方式和/或其他合适的工艺来形成图案化吸光层120。
然后，在对应的第一开口120a中形成红色光阻132以及在对应的第一开口120a中形成绿色光阻142，如图10b所示。在一些实施例中，可以使用染色法(dyeing)、颜料分散法(pigmentdispersion)、电镀沉积法(electro-deposition)、印刷法(printing)和/或喷墨法(ink-jet)来形成红色光阻132及绿色光阻142。应注意，红色光阻132和绿色光阻142可以同时形成或依序形成。在一些实施例中，红色光阻132和绿色光阻142各自会覆盖图案化吸光层120的一部分。
接着，在图案化吸光层120上形成图案化光阻层190，如图10c所示。具体的说，图案化光阻层190包含多个第二开口190a，且第二开口190a大致对准第一开口120a。更详细的说，第二开口190a会暴露出红色光阻132、绿色光阻142和部分的透明基板110。在多个实施例中，第二开口190a的宽度大于或实质上等于第一开口120a的宽度。在一些实施例中，可以通过微影蚀刻工艺来形成图案化光阻层190。
然后，在对应的第二开口190a中形成红色量子点层134以及在对应的第二开口190a中形成绿色量子点层144，如图10d所示。详细的说，红色量子点层134形成在红色光阻132上，且绿色量子点层144形成在绿色光阻142上。
接着，移除图案化光阻层190，如图10e所示。在多个实施方式中，可以通过剥膜工艺来移除图案化光阻层190。
然后继续形成蓝色光阻层152覆盖图案化吸光层120、红色量子点层134及绿色量子点层144，如图10f所示。
在一实施例中，可在形成蓝色光阻层152的步骤之后，对蓝色光阻层152进行平坦化工艺，使得蓝色光阻层152具有更平坦表面，以利后续偏光片的设置。在多个实施例中，可以使用化学机械研磨(chemical-mechanicalplanarization，cmp)来平坦化蓝色光阻层152。
接着，在蓝色光阻层152上设置偏光片160，如图10g所示。更详细的说，偏光片160完全蓝色光阻层152，即完成如图5所示的彩色滤光片10e。有关偏光片160的技术效果可参照前文叙述，在此不再赘述。
虽然本发明已以实施方式公开如上，然其并非用以限定本发明，任何所属领域的一般技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视权利要求书所界定的范围为准。
1.一种彩色滤光片，其特征在于，包含：
图案化吸光层，设置于透明基板上，所述图案化吸光层包含多个开口；
红色次像素、绿色次像素及蓝色次像素，各自设置于所述多个开口的对应的一个中，其中所述红色次像素包含一红色光阻以及位于所述红色光阻上的红色量子点层，所述绿色次像素包含绿色光阻以及位于所述绿色光阻上的绿色量子点层，且所述蓝色次像素包含蓝色光阻；以及
偏光片，设置于所述红色次像素、所述绿色次像素及所述蓝色次像素上方。
2.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，所述图案化吸光层具有高度为2.2至4.2微米。
3.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，所述彩色滤光片还包含保护层覆盖所述红色次像素、所述绿色次像素、所述蓝色次像素和所述图案化吸光层，并夹置在所述红色次像素与所述偏光片之间。
4.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，所述蓝色次像素延伸覆盖所述红色量子点层、所述绿色量子点层和所述图案化吸光层。
5.一种彩色滤光片，其特征在于，包含：
图案化吸光层，设置于透明基板上，所述图案化吸光层包含多个第一开口；
图案化蓝色光阻层，设置于所述图案化吸光层上，所述图案化蓝色光阻层包含多个第二开口，且所述多个第二开口大致对准所述多个第一开口；
红色次像素、绿色次像素及蓝色次像素，各自设置于所述多个第一开口的对应的一个中，其中所述红色次像素包含红色光阻以及位于所述红色光阻上的红色量子点层，所述绿色次像素包含绿色光阻以及位于所述绿色光阻上的绿色量子点层，且所述蓝色次像素包含蓝色光阻；以及
偏光片，设置于所述红色次像素、所述绿色次像素及所述蓝色次像素上方。
6.如权利要求5所述的彩色滤光片，其特征在于，所述图案化吸光层具有高度为0.2至2.2微米。
7.如权利要求5所述的彩色滤光片，其特征在于，所述图案化蓝色光阻层具有高度为1至3微米。
8.如权利要求5所述的彩色滤光片，其特征在于，所述彩色滤光片还包含保护层覆盖所述红色次像素、所述绿色次像素、所述蓝色次像素和所述图案化蓝色光阻层，并夹置在所述红色次像素与所述偏光片之间。
9.如权利要求5所述的彩色滤光片，其特征在于，所述图案化蓝色光阻层延伸覆盖所述红色量子点层和所述绿色量子点层。
10.一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于，包含：
在透明基板上形成图案化吸光层，所述图案化吸光层包含多个开口；
在所述多个开口的对应的一个中形成红色次像素，在所述多个开口的对应的一个中形成绿色次像素，以及在所述多个开口的对应的一个中形成蓝色次像素，其中所述红色次像素包含红色光阻以及位于所述红色光阻上的红色量子点层，所述绿色次像素包含绿色光阻以及位于所述绿色光阻上的绿色量子点层，且所述蓝色次像素包含蓝色光阻；以及
在所述红色次像素、所述绿色次像素及所述蓝色次像素上方设置偏光片。
11.如权利要求10所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，在形成所述红色次像素、所述绿色次像素及所述蓝色次像素的步骤之后且在设置所述偏光片的步骤之前，还包含：
形成保护层覆盖所述红色次像素、所述绿色次像素、所述蓝色次像素和所述图案化吸光层。
12.如权利要求11所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，在形成所述保护层的步骤之后且在设置所述偏光片的步骤之前，还包含：
平坦化所述保护层。
13.如权利要求10所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述图案化吸光层具有高度为2.2至4.2微米。
14.一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于，包含：
在一透明基板上形成图案化吸光层，所述图案化吸光层包含多个开口；
在所述多个开口的对应的一个中形成红色次像素以及在所述多个开口的对应的一个中形成绿色次像素，其中所述红色次像素包含红色光阻以及位于所述红色光阻上的红色量子点层，且所述绿色次像素包含绿色光阻以及位于所述绿色光阻上的绿色量子点层；
形成蓝色次像素覆盖所述红色次像素、所述绿色次像素和所述图案化吸光层；以及
在所述蓝色次像素上方设置偏光片。
15.如权利要求14所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，在形成所述蓝色次像素的步骤之后且在设置所述偏光片的步骤之前，还包含：
平坦化所述蓝色次像素。
16.如权利要求14所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述红色次像素及所述绿色次像素的顶表面高于所述图案化吸光层的顶表面。
17.一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于，包含：
在透明基板上形成图案化吸光层，所述图案化吸光层包含多个第一开口；
在所述透明基板上形成图案化蓝色光阻层，所述图案化蓝色光阻层包含第一部分和第二部分，其中所述第一部分位于所述图案化吸光层上且包含多个第二开口实质上对准所述多个第一开口，所述第二部分位于所述多个第一开口的对应的一个中；
在所述多个第一开口的对应的一个中形成红色次像素以及在所述多个第一开口的对应的一个中形成绿色次像素，其中所述红色次像素包含红色光阻以及位于所述红色光阻上的红色量子点层，且所述绿色次像素包含绿色光阻以及位于所述绿色光阻上的绿色量子点层；以及
在所述图案化蓝色光阻层、所述红色次像素和所述绿色次像素上设置偏光片。
18.如权利要求17所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，在形成所述红色次像素及所述绿色次像素的步骤之后且在设置所述偏光片的步骤之前，还包含：
形成保护层覆盖所述红色次像素、所述绿色次像素和所述图案化蓝色光阻层。
19.一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于，包含：
在透明基板上形成图案化吸光层，所述图案化吸光层包含多个第一开口；
在所述多个第一开口的对应的一个中形成红色光阻以及在所述多个第一开口的对应的一个中形成绿色光阻；
在所述图案化吸光层上形成图案化光阻层，所述图案化光阻层包含多个第二开口，其中所述多个第二开口大致对准所述多个第一开口；
在所述多个第二开口的对应的一个中形成红色量子点层以及在所述多个第二开口的对应的一个中形成绿色量子点层；
移除所述图案化光阻层；
形成蓝色光阻层覆盖所述图案化吸光层、所述红色量子点层及所述绿色量子点层；以及
在所述蓝色光阻层上设置偏光片。
20.如权利要求19所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，在形成所述蓝色光阻层的步骤之后且在设置所述偏光片的步骤之前，还包含：
平坦化所述蓝色光阻层。
技术总结