本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种支撑架、真空干燥装置、干燥系统、基板干燥方法。
背景技术：
在显示面板的制造过程中，通常采用光刻工艺形成所需的图案。光刻工艺是在沉积有薄膜的基板上涂覆光刻胶，光刻胶经过干燥、曝光、显影和烘烤等工艺步骤，形成抗刻蚀的图形，再经刻蚀和光刻胶剥离等工艺后，使基板上的薄膜形成所需的图案。
技术实现要素：
本申请的实施例提供一种支撑架、真空干燥装置、干燥系统、基板干燥方法，能够降低光刻胶干燥过程中支撑针导致的显示面板的亮度不均匀现象的发生几率。
为达到上述目的，本申请的实施例采用如下技术方案：
本申请实施例的第一方面，提供了一种支撑架。该支撑架包括：支撑座和多个支撑杆。多个支撑杆中每个支撑杆沿第一方向延伸，多个支撑杆沿第二方向间隔且平行设置，并固定于支撑座上。第一方向和第二方向垂直。多个支撑杆包括一个第一支撑杆和两个第二支撑杆。第二支撑杆位于多个支撑杆的最外侧，第一支撑杆与两个第二支撑杆的间距相等。第一支撑杆上设有多个第一支撑针，每个第二支撑杆上设有多个第二支撑针。其中，多个第一支撑针和多个第二支撑针的高度方向为垂直支撑座设置支撑杆的表面的方向，且多个第一支撑针和多个第二支撑针用于对基板进行支撑。该基板包括多个结构相同的子基板。第一支撑杆上多个第一支撑针与第二支撑杆上多个第二支撑针之间的区域，用于使该基板中的多个子基板位于该区域内。
可选的，第一支撑杆上沿第一方向设置有多个间隔设置的第一固定槽，且第一支撑杆上的第一固定槽的个数大于第一支撑杆上第一支撑针的个数，多个第一支撑针中的每一个分别固定于一个第一固定槽内。
可选的，第一支撑杆上的多个第一固定槽等间距排布，且任意相邻两个第一固定槽的间距为0.5～2cm。
可选的，第一固定槽内设置有第一铁块，第一支撑针靠近支撑座的底部嵌设有第一磁块，第一支撑针的底部与第一铁块远离支撑座的表面接触。
可选的，第一支撑杆上设置有凹槽，凹槽沿第一方向延伸。第一支撑针的部分位于凹槽内。在靠近每个第一支撑针的位置处对应设置有一个固定件，固定件用于对第一支撑针进行固定，使第一支撑针垂直第一支撑杆。
可选的，固定件包括方卡子。方卡子包括两个块状的夹持块，两个夹持块相互靠近的侧面上分别设置有半圆柱状开口，形成沿第一支撑针高度方向延伸，且用于容置第一支撑针的容置孔。
可选的，第二支撑杆上沿第一方向设置有多个间隔设置的第二固定槽，且第二支撑杆上的第二固定槽与第二支撑杆上第二支撑针的个数相同，第二支撑针与第二固定槽的位置一一对应。第二固定槽内设置有第二铁块，第二支撑针靠近支撑座的底部嵌设有第二磁块，第二支撑针的底部与第二铁块远离支撑座的表面接触。
可选的，多个支撑杆还包括多个第三支撑杆，多个第三支撑杆分设于第一支撑杆两侧。第三支撑杆上设置有两个第二支撑针、至少一个第一支撑针以及多个第三支撑针。第三支撑杆上的两个第二支撑针位于第三支撑杆的两端。第三支撑杆上的一个第一支撑针位于第三支撑杆的中间位置。相对支撑座设置支撑杆的表面，第三支撑针远离该表面一端的高度低于第一支撑针和第二支撑针远离该平面的一端的高度。
可选的，第三支撑杆上沿第一方向设置有多个间隔设置的第三固定槽，每个第一支撑针、每个第二支撑针和每个第三支撑针均位于一个第三固定槽内。第三支撑针包括螺杆，与第三支撑针对应的第三固定槽内壁上具有与螺杆匹配的螺纹。
本申请实施例的第二方面提供一种真空干燥装置。该真空干燥装置包括第一腔室，第一腔室内设置有用于支撑基板的支撑架。该支撑架为本申请实施例的第一方面提供的支撑架。第一腔室联通有抽真空管和进气管。
本申请实施例的第三方面提供一种干燥系统。该干燥系统包括真空干燥装置和加热干燥装置。该真空干燥装置为本申请实施例的第二方面提供的真空干燥装置。
可选的，加热干燥装置包括第二腔室，第二腔室内设置有加热板、以及穿过加热板的多个第四支撑针和多个第五支撑针。多个第四支撑针和多个第五支撑针用于支撑基板。多个第四支撑针沿第一方向排成一行。多个第五支撑针排成多行，多行第五支撑针沿第二方向分布，多行第五支撑针中的部分行和其余部分行分设于一行第四支撑针两侧，第五支撑针远离加热板一端的高度相比第四支撑针远离加热板的一端的高度高3-4mm。加热干燥装置还包括固定装置，固定装置位于加热板下方并用于固定第四支撑针和第五支撑针，且固定装置不与加热板接触。
可选的，加热干燥装置还包括升降装置，升降装置用于驱动固定装置进行升降。
本申请实施例的第四方面提供一种基板干燥方法。该方法采用本申请实施例的第三方面提供的干燥系统对基板进行干燥。该干燥方法包括：将基板放置于真空干燥装置中第一腔室的支撑架上，对基板进行低压干燥。将基板从第一腔室传输至第二腔室，放置于第五支撑针上，保持一定时间。其中，第五支撑针远离加热板一端距离加热板的高度为65～70mm。使第五支撑针和第四支撑针同步下降，直至第五支撑针远离加热板一端距离加热板的高度为4～6mm，保持50～80s，对基板进行预加热。使第五支撑针和第四支撑针同步下降，直至将基板置于加热板上，保持80～110s，对基板进行加热干燥。
本申请提供的支撑架，第一支撑杆上多个第一支撑针与第二支撑杆上多个第二支撑针之间的区域，用于使基板中的多个子基板位于该区域内，用于对基板进行支撑的第一支撑针和第二支撑针均位于基板上的子基板之外的区域，这样一来，在干燥过程中，第一支撑针和第二支撑针不会对子基板上的光刻胶造成影响，从而可以降低因支撑针导致的显示面板显示亮度不均匀现象的发生几率。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1a为相关技术中基板的示意图；
图1b为相关技术中支撑针导致的显示面板亮度不均的示意图；
图2为本申请实施例提供的一种真空干燥装置的示意图；
图3a为本申请实施例提供的一种支撑架的示意图；
图3b为本申请实施例提供的一种支撑架与基板对应关系的示意图；
图3c为本申请实施例提供的一种支撑架上的支撑针的示意图；
图4a为本申请实施例提供的一种第一支撑杆的示意图；
图4b为图4a中a-a’的剖面图；
图4c为相关技术中支撑架的示意图；
图4d为本申请实施例提供的另一种第一支撑杆的示意图；
图5a为本申请另一实施例提供的一种第一支撑杆的示意图；
图5b为本申请另一实施例提供的另一种第一支撑杆的示意图；
图5c为图5b所示的第一支撑杆的正视图；
图5d为本申请另一实施例提供的又一种第一支撑杆的示意图；
图5e为图5d中b-b’的剖面图；
图6a为本申请实施例提供的一种第二支撑杆的示意图；
图6b为图6a中c-c’的剖面图；
图7a为本申请实施例提供的一种第三支撑杆的示意图；
图7b为图7a中d-d’的剖面图；
图8a为本申请实施例提供的一种加热干燥装置的示意图；
图8b为本申请实施例提供的一种加热板的示意图；
图8c为本申请实施例提供的加热干燥装置对显示面板mura的改善效果的示意图；
图9为本申请实施例提供的一种基板干燥方法的流程图；
图10为本申请实施例提供的一种基板加热干燥过程的示意图。
附图标记：
100-基板；101-子基板；01-第一腔室；2-抽真空管；3-进气管；4-支撑架；5-驱动装置；40-支撑杆；41-支撑座；410-第一支撑杆；411-第一支撑针；420-第二支撑杆；421-第二支撑针；430-第三支撑杆；431-第三支撑针；4311-螺杆；4301-螺纹；412-第一固定槽；4111-第一磁块；4121-第一铁块；4122-顶出孔；413-凹槽；414-固定件；4141-夹持块；4142-第一螺钉；4131-条形铁块；4143-固定块；4144-第二螺钉；422-第二固定槽；4211-第二磁块；4221-第二铁块；432-第三固定槽；02-第二腔室；6-加热板；7-固定装置；8-升降装置；641-第四支撑针；651-第五支撑针；661-第六支撑针。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
以下，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
此外，本申请中，“上”、“下”等方位术语可以包括但不限于相对附图中的部件示意置放的方位来定义的，应当理解到，这些方向性术语可以是相对的概念，它们用于相对于的描述和澄清，其可以根据附图中部件附图所放置的方位的变化而相应地发生变化。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。
在显示面板的制造过程中，为了降低生产成本，提高生产效率，如图1a所示，通常在一张大的基板100上同时制作多个相互间隔的且结构相同的子基板101，经切割形成多个显示用基板。可以理解的是，每个子基板101具有一个显示区。其中，每个子基板101上包括多个功能结构，例如液晶显示面板(thinfilmtransistorliquidcrystaldisplay，tft-lcd)中的开关晶体管、像素电极、公共电极等。或者又例如有机发光二极管显示面板(organiclightemittingdiode，oled)中的开关晶体管、驱动晶体管、像素界定层(pixeldefinitionlayer，pdl)、平坦化层(planarization，pln)、发光器件等。
上述功能结构中例如构成开关晶体管和/或驱动晶体管的栅极、有源图案、源极和漏极、像素电极、公共电极、像素界定层、平坦化层等通常采用光刻工艺形成。其中，光刻工艺的过程为：首先在基板100上沉积相应的膜层，然后经光刻胶涂布、曝光、显影和烘烤等工艺步骤，形成与所需功能图案相同的抗刻蚀图形，再经刻蚀和光刻胶剥离等工艺后，使基板100上的薄膜形成所需的功能图案。其中光刻胶涂布完成后需要对光刻胶进行干燥处理，去除光刻胶中的溶剂、增强光刻胶与基板之间的附着力，为后续的曝光、显影做准备。
由于光刻胶涂布在基板100上，流动性较高，因此一般先在真空环境中进行低压干燥，去除大部分的溶剂。然后将基板100在加热腔中进行加热干燥，进一步去除光刻胶溶剂，并增强光刻胶与基板100的附着力。
在低压干燥和加热干燥的过程中，通常采用支撑针(pin)来对基板100进行支撑，基板100上与支撑针接触的部位和没有与支撑针接触的其他部位的受力和受热的程度不一致，会导致支撑针对应位置与其他位置的光刻胶的厚度不一致，经过刻蚀等工艺后，相应位置的膜层厚度产生不均匀。这样一来，生产的显示面板在相应位置容易产生亮度不均(mura)等现象，其示意图如图1b所示，在显示面板上呈现出污渍状发暗不良。特别是在低压干燥和加热干燥叠加影响下，使mura现象更加明显，造成产品良率的损失。
基于此，本申请的一些实施例提供一种干燥系统，能够降低光刻胶干燥过程中支撑针导致的显示面板亮度不均匀现象的发生几率。本申请的一些实施例提供的干燥系统，包括真空干燥装置和加热干燥装置，分别用于对涂覆有光刻胶的基板进行低压干燥和加热干燥处理。
如图2所示，在本申请的一些实施例中，真空干燥装置包括第一腔室01，第一腔室01联通有抽真空管2和进气管3。抽真空管2用于对第一腔室01进行抽真空，使涂覆有光刻胶的基板100处于低气压环境中，从而有利于光刻胶中的溶剂的挥发。进气管3用于在低压干燥完成后，对第一腔室01进行充气，使第一腔室01内的压力恢复到大气压状态，从而方便将基板100从第一腔室01内传出。
需要说明的是，本申请对上述抽真空管2和进气管3的设置数量及在第一腔室01的联通位置不作具体限定，只要能使基板100上的光刻胶均匀干燥，并能使第一腔室01恢复到大气压状态而不对基板100造成影响即可。上述抽真空管2可以连接抽气泵，例如干泵(drypump)等，用于抽气。进气管3可以连接气体源，例如干燥空气(cleandryair，cda)或者氮气(n2)等，用于向第一腔室01提供气体。
此外，第一腔室01内设置有支撑架4，支撑架4用于在基板100干燥过程中支撑基板100。
在一些实施例中，如图2所示，支撑架4还连接有驱动装置5，例如可以为马达或气缸等。驱动装置5位于支撑架4的下方，可以带动支撑架4在竖直方向上升和下降。
上述支撑架4如图2所示，包括：多个支撑杆40和支撑座41。多个支撑杆40固定于支撑座41上。
如图3a所示，上述多个支撑杆40中每个支撑杆40均沿第一方向(如图3a中的x方向)延伸，并且多个支撑杆40沿第二方向(如图3a中的y方向)间隔且平行设置，其中第一方向和第二方向垂直。
如图3a所示，上述多个支撑杆40包括一个第一支撑杆410和两个第二支撑杆420。其中，两个第二支撑杆420分别位于多个支撑杆40的最外侧。第一支撑杆410与两个第二支撑杆420的间距相等，即第一支撑杆410位于多个支撑杆40的中间位置。
如图3a所示，上述第一支撑杆410上设有多个第一支撑针411，每个第二支撑杆420上设置有多个第二支撑针421。
其中，如图2所示，上述多个第一支撑针411和多个第二支撑针421的高度方向为垂直支撑座41设置支撑杆40的表面的方向。可以理解的是，第一支撑针411和第二支撑针421各自远离支撑座41的端部位于同一平面上，该平面与支撑座41设置支撑杆40的表面平行，即，第一支撑针411和第二支撑针421具有相同的高度。多个第一支撑针411和多个第二支撑针421用于对基板100进行支撑。
如图3b所示，基板100包括多个结构相同的子基板101，在形成所需的功能图案后，沿子基板101之间的区域进行切割，即可得到所需尺寸的显示用基板，该显示用基板可用于制备显示面板。
如图3b所示，第一支撑杆410上多个第一支撑针411与第二支撑杆420上多个第二支撑针421之间的区域，用于使该基板100中的多个子基板101位于该区域内。在一些实施例中，上述第一支撑针411位于子基板101之间的区域，第二支撑针421位于所有子基板101所在区域的外侧。即，用于支撑基板100的第一支撑针411和第二支撑针421均对应于子基板101之外的区域。
本申请提供的支撑架4，用于对基板100进行支撑的第一支撑针411和第二支撑针421均位于基板100上的子基板101之外的区域，这样一来，在干燥过程中，上述第一支撑针411和第二支撑针421不会对子基板101上的光刻胶造成影响，从而可以降低因支撑针导致的显示面板显示亮度不均匀现象的发生几率。
在此基础上，如图3c所示，上述第一支撑针411和第二支撑针421靠近基板100的一端可以为锥形，这样一来，可以减小与基板100之间的接触面积，从而减小支撑针对基板100的影响。
可选的，第一支撑针411和第二支撑针421的材料可以为聚醚醚酮(polyetheretherketone，peek)，具有较高的机械强度，且不容易对基板造成划伤。
以下对本申请中第一支撑杆410的具体结构进行详细说明。
示例一
在本申请的一些实施例中，如图4a所示，第一支撑杆410上沿第一方向设置有多个间隔设置的第一固定槽412，且第一固定槽412的个数大于第一支撑杆410上第一支撑针411的个数，多个第一支撑针411中的每一个分别固定于一个第一固定槽412内。
相对于如图4c所示，每个第一支撑针411一一对应的位于一个第一固定槽412内，第一支撑针411在第一支撑杆410上的设置位置固定，而无法根据基板100上的子基板101的尺寸灵活调整。当子基板101尺寸变更时，可能会导致部分第一支撑针411位于子基板101的范围内，从而导致产品出现mura不良。
本申请实施例提供的第一支撑杆410上间隔设置多个第一固定槽412，第一固定槽412的个数大于第一支撑针411的个数。这样一来，可使第一支撑针411在第一支撑杆410上的位置根据需要调整到其他第一固定槽412中，从而可根据基板100上的子基板101的大小来调整第一支撑针411在第一支撑杆410上的位置，进而使第一支撑针411的位置可避开子基板101所在的区域，避免因第一支撑针411的影响而使显示面板产生mura现象。
在此基础上，在本申请的一些实施例中，第一支撑杆410上的多个第一固定槽412为等间距排布，且任意相邻两个第一固定槽412的间距为0.5～2cm。示例的，第一固定槽412的间距可以为0.7～1.6cm。例如第一固定槽412的间距可以为0.5cm，1cm，1.5cm，2cm。
这样一来，在第一支撑杆410上可以设置更多的第一固定槽412，使得第一支撑针411在第一支撑杆410上的可调位置较多，能够满足更多的产品设计需求，具有较高的灵活性。
在本申请的一些实施例中，第一支撑杆410采用铝合金材料制作而成。
在本申请的一些实施例中，如图4b(图4a中a-a’的剖面图)所示，第一支撑杆410上的第一固定槽412内设置有第一铁块4121。
在此基础上，如图4b所示，第一支撑针411靠近支撑座41的底部嵌设有第一磁块4111。第一支撑针411的底部与第一铁块4121远离支撑座41的表面接触。这样一来，第一支撑针411通过磁吸的方式固定于第一支撑杆410上，方便对第一支撑针411的位置进行变更。
在本申请的一些实施例中，如图4b所示，在第一固定槽靠近支撑座41还设置有顶出孔4122，以方便通过顶出的方式将第一铁块4121从第一固定槽412中取出。
需要说明的是，上述是以第一固定槽412内设置第一铁块4121，第一支撑针411的底部设置第一磁块4111为例进行说明的。在另一些实施例中，第一固定槽412内也可以设置一磁块，第一支撑针411的底部设置可以设置一铁块。本申请对此不作限定，只要能使第一支撑针411稳定地固定在第一支撑杆410上并能方便移动即可。
示例的，如图4d所示，第一支撑杆410上包括5个第一支撑针411，第一支撑针411在第一支撑杆410上的设置位置如图4d所示。一个第一支撑针411位于第一支撑杆410长度方向的中间位置，两个第一支撑针411分别位于距第一支撑杆410的两个端面7mm的位置，另外两个第一支撑针411分别位于距第一支撑杆410的两个端面543mm的位置。对应于一些尺寸的子基板101，第一支撑针411位于基板100上的子基板101之间的区域，而且第一支撑针411在第一支撑杆410上的位置可以调整。这样一来，可避免第一支撑针411导致显示面板产生mura。
示例二
在本申请的另一些实施例中，如图5a所示，上述第一支撑杆410上设置有凹槽413，凹槽413沿第一方向延伸。
第一支撑针411的部分位于上述凹槽413内。并且，如图5b所示，在第一支撑杆410上靠近每个第一支撑针411的位置处对应设置有一个固定件414，用于对第一支撑针411进行固定，使第一支撑针411垂直第一支撑杆410。避免在对基板100进行低压干燥过程中，第一支撑针411由于受力导致位置偏移。
在本申请的一些实施例中，如图5b(第一支撑杆410的俯视图)和图5c(第一支撑杆410的正视图)所示，上述固定件414包括方卡子，方卡子包括两个块状的夹持块4141，两个夹持块4141相互靠近的一侧分别设置有半圆柱状开口，形成沿第一支撑针411高度方向延伸，用于容置第一支撑针411的容置孔。
其中，该两个夹持块4141可以是相互独立的，也可以是连接的结构。当两个夹持块4141为连接的结构时，该两个夹持块4141可以开合，这样当打开时可将第一支撑针411置于其内，从而在闭合时，使第一支撑针411位于上述容置孔内，即将第一支撑针411包裹在内，从而起到对第一支撑针411的支撑作用。
当该两个夹持块4141可以是相互独立的结构时，例如该两个夹持块4141上还分别设置有螺孔，第一螺钉4142穿过螺孔将两个夹持块4141连接，从而使第一支撑针411置于其内的容置孔中。当然，也不限于通过螺孔和螺钉的固定方式，也可以是其他固定方式，具体在此不做限定。
可选的，如图5b所示，凹槽413内还设置有沿第一方向延伸的条形铁块4131。第一支撑针411的底部嵌设有第一磁块4111，第一支撑针411磁吸在条形铁块4131上，可进一步增强第一支撑针411的稳定性。
在本申请的另一些实施例中，如图5d和图5e(图5d中b-b’的剖面图)所示，上述凹槽413沿第二方向的截面形状可以为倒“t”形，第一支撑针411的部分位于凹槽413内。固定件414包括设置在凹槽413内，且位于第一支撑针411沿第一方向两侧的两个固定块4143。固定块4143沿第二方向的长度，大于凹槽413在第一支撑杆410设置第一支撑针411的表面上沿第二方向的长度。两个固定块4143上还分别设置有沿垂直于第一支撑杆410设置第一支撑针411的表面方向延伸的螺孔，螺孔贯穿固定块4143，螺孔的位置对应于第一支撑杆410设置第一支撑针411的表面上凹槽413的位置。固定件414还包括第二螺钉4144，第二螺钉4144穿过每个固定块4143上的螺孔，如图5e所示，第二螺丝4144的一端顶在凹槽413的底部，固定块4143的一个端面顶靠在“t”形凹槽的内部顶面，这样就将固定块4143和第二螺钉4144固定在凹槽内，从而将第一支撑针411固定在凹槽413内两个固定块4143之间的位置。
可选的，两个固定块4143靠近第一支撑针411的侧面上可分别设置半圆柱状开口，形成沿第一支撑针411高度方向延伸，且用于容置第一支撑针411的容置孔，将第一支撑针411包裹在容置孔内，使第一支撑针411更稳定。
本申请实施例提供的第一支撑杆410上设置沿第一支撑杆410长度方向的凹槽413，第一支撑针411设置在凹槽413内，第一支撑针411可沿凹槽413移动，从而可将第一支撑针411设置在第一支撑杆410上的任意位置，从而可根据基板100上子基板101的大小，任意调整第一支撑针411在第一支撑杆410上的位置，具有较高的灵活性。
在本申请的一些实施例中，如图6a所示，上述第二支撑杆420上沿第一方向设置有多个间隔设置的第二固定槽422，并且，第二支撑杆420上的第二固定槽422与第二支撑杆420上的第二支撑针421的个数相同，第二支撑针421与第二固定槽422的位置一一对应。
如图6b(图6a中c-c’的剖面图)所示，第二支撑杆420上的第二固定槽422内设置有第二铁块4221，第二支撑针421靠近支撑座41的底部内嵌设有第二磁块4211。第二支撑针421的底部与第二铁块4221远离支撑座41的表面接触。第二支撑针421通过磁吸的方式固定于第二固定槽422内。这样一来，可方便地对第二支撑针421的高度进行调整，例如可以根据需求，通过调整第二铁块4221高度等方式来调整第二支撑针421的高度。
此外，与第一支撑杆410相同，如图6b所示，在第二支撑杆420远离第二铁块4221的一侧也设置有顶出孔4122，以方便通过顶出的方式将第二铁块4221从孔中取出。
需要说明的是，第二固定槽422内也可以设置一磁块，第二支撑针421的底部设置可以设置一铁块。本申请对此不作限定，只要能使第二支撑针421稳定地固定在第二支撑杆420上即可。
此外，在本申请的一些实施例中，如图3a所示，多个支撑杆40还包括多个第三支撑杆430，多个第三支撑杆430分设于第一支撑杆410的两侧。即，多个第三支撑杆430分别位于第一支撑杆410和第二支撑杆420之间。
每个第三支撑杆430上设置有两个第二支撑针421，两个第二支撑针421位于第三支撑杆430的两端。其中，第三支撑杆430上的第二支撑针421也位于基板100上所有子基板101所在区域的外侧。
每个第三支撑杆430上设置有至少一个第一支撑针411，第一支撑针411位于第三支撑杆430的中间位置。
第三支撑杆430上还设置有多个第三支撑针431。相对支撑座41设置支撑杆40的表面，第三支撑针431远离该表面一端的高度低于第一支撑针411和第二支撑针421远离该平面的一端的高度。因此，支撑架4上对基板100起到主要支撑作用的支撑针为第一支撑针411和第二支撑针421，第三支撑针431为非主要受力的支撑针。
在本申请的一些实施例中，如图7a所示，第三支撑杆430上沿第一方向设置有多个间隔设置的第三固定槽432，第三支撑杆430上的每个第一支撑针411、每个第二支撑针421、每个第三支撑针431各位于一个第三固定槽432内。
其中，第一支撑针411、第二支撑针421在第三固定槽432的固定方式与其在第一支撑杆410、第二支撑杆420上的固定方式相同，此处不再赘述。
如图7b(图7a中d-d’的剖面图)所示，上述第三支撑针431包括螺杆4311，第三支撑杆430上与第三支撑针431对应的第三固定槽432的内壁上具有与螺杆匹配的螺纹4301，第三支撑针431通过螺纹连接固定在第三支撑杆430上。通过螺纹连接的方式固定，使第三支撑针431的固定更稳定，且拆卸方便，便于更换。
此外，如图7b所示，第三支撑针431的顶部为圆盘状。第三支撑针431较第一支撑针411和第二支撑针421的高度低，为非主要受力的支撑针，将第三支撑针431靠近基板100的一端设置成圆盘状，当第三支撑针431与基板100接触时可增大第三支撑针431与基板100之间的接触面积，可减小第三支撑针431作用在基板100上的压强，从而减小第三支撑针431导致显示面板发生mura不良的几率。
以下对本申请提供的干燥系统的加热干燥装置进行详细说明。
如图8a所示，本申请的一些实施例提供的加热干燥装置包括第二腔室02，第二腔室02内设置有加热板6。在本申请的一些实施例中，加热板6内设置有电热丝，用于对涂布有光刻胶的基板100进行加热，使基板100上光刻胶中的溶剂在加热的环境中快速挥发，并增强光刻胶与基板100之间的附着力。
第二腔室02内还设置有多个第四支撑针641、多个第五支撑针651。多个第四支撑针641和多个第五支撑针651穿过加热板6，用于支撑基板100。
如图8b(图8a中加热板的俯视图)所示，多个第四支撑针641沿第一方向(如图8b中的x方向)排成一行。多个第五支撑针651沿第二方向(如图8b中的y方向)排成多行，每行第五支撑针651中的第五支撑针651沿第一方向排布，且多行第五支撑针651中部分行与其余部分行分设于一行第四支撑针641的两侧。
需要说明的是，图8b中虚线仅为了说明多个支撑针位于同一行，实际中这些虚线并不存在。
在本申请的一些实施例中，上述多行第五支撑针651在基板100上的对应位置，分别与上述真空干燥装置中第二支撑杆420和第三支撑杆430上的支撑针在基板100上的对应位置可相同。
此外，如图8a所示，第五支撑针651远离加热板6一端的高度高于第四支撑针641远离加热板6一端的高度。
在本申请的一些实施例中，第五支撑针651远离加热板6一端的高度相比第四支撑针641远离加热板6的一端的高度高3-4mm。示例的，第五支撑针651远离加热板6一端的高度相比第四支撑针641远离加热板6的一端的高度高3mm，3.5mm，4mm。
这样一来，在加热干燥过程中，第四支撑针641对基板100的作用减弱，从而对基板100的影响较小，避免因低压干燥和加热干燥的叠加作用，造成基板100上中间的子基板101产生严重的mura现象，降低mura的发生几率。
在本申请的一些实施例中，如图8a所示，上述加热干燥装置还包括固定装置7，固定装置7位于加热板6的下方，用于固定第四支撑针641和第五支撑针651，固定装置7不与加热板6接触。
此外，加热干燥装置还包括升降装置8，升降装置8与上述固定装置7连接，用于驱动固定装置7进行升降。示例的，升降装置8可以为马达。
图8c为在oled显示面板的制作过程中，从不同功能图案层开始采用本申请实施例提供的上述加热干燥装置对涂布有光刻胶的基板100进行加热干燥，所制备的显示面板的mura发生率曲线。在采用一些相关技术提供的加热干燥装置进行加热干燥时，显示面板的mura不良发生率为1％。如图8c所示，采用本申请实施例提供的上述加热干燥装置，显示面板的mura不良发生率得到有效降低，而且越早导入，mura不良发生率越低。从有源层(active)层开始，及其以后的各膜层均采用本申请提供的加热干燥装置时，其mura不良发生率仅为0.21％。
本申请的一些实施例还提供一种基板干燥方法，该方法采用上述实施例提供的干燥系统对涂布有光刻胶的基板100进行干燥。基板干燥方法如图9所示，包括s101～s105。
s101，将基板100放置于真空干燥装置中第一腔室01的支撑架4上，利用抽真空管2对第一腔室01进行抽真空，对基板100进行低压干燥。
由上述对真空干燥装置的描述可知，第一腔室01联通有抽真空管2，抽真空管2可对第一腔室01进行抽真空，使基板100处于低压环境，有利于光刻胶中溶剂的挥发。
第一腔室01包括支撑架4，支撑架4上包括多个支撑杆40，其中多个支撑杆中的第一支撑针411和第二支撑针421对基板100起到主要支撑作用。且第一支撑针411位于基板100上多个子基板101之间的区域，第二支撑针421位于所有子基板101所在区域的外侧。这样一来，可以降低低压干燥过程中支撑针导致的mura的发生几率。
s102，利用进气管3向第一腔室01充气，使第一腔室01内的气压恢复到大气压。
进气管3可以连接有气体源，例如可以为干燥空气(cda)或氮气(n2)，在低压干燥完成后，通过进气管3向第一腔室01充入cda或n2，使第一腔室01恢复到大气压状态，方便将基板100从第一腔室01传出。
s103，如图10中的(a)所示，调整加热干燥装置中的固定装置7，使第五支撑针651远离加热板6一端距离加热板6的高度为65～70mm，并将基板100从第一腔室01传输至第二腔室02，放置于第五支撑针651上，保持3s。
当低压干燥完成后，将第一腔室01恢复到大气压状态，利用例如机械手等将基板100从第一腔室01传输到第二腔室02，放置在第二腔室02中的第五支撑针651上。
为了方便取放基板100，避免加热板6对取放动作造成干涉，此步骤中对基板100起到支撑作用的第五支撑针651远离加热板6一端需要高于加热板6一定高度。例如第五支撑针651高于加热板6的高度65、68、70mm，可根据机械手取放基板100的状态进行调整。其中，第五支撑针651远离加热板6一端的高度相比第四支撑针641远离加热板6的一端的高度高3-4mm。
当基板100从第一腔室01传输到第二腔室02时，处于不稳定状态，例如可能发生抖动等，此时固定装置7的高度需要保持一段时间，例如保持3s左右的时间，以使基板100稳定。
s104，如图10中的(b)所示，调整固定装置7，使固定装置7带动第四支撑针641和第五支撑针651同步下降，直至第五支撑针651远离加热板6的一端距离加热板6的高度为4～6mm时，保持50～80s，对基板100进行预加热。
当将基板100从第一腔室01传输到第二腔室02后，为了防止基板100的温度突然升高导致基板100损坏，需要将基板100置于远离加热板6一段距离的位置进行预加热，使基板100缓慢升温。
在此步骤中，设置第五支撑针651远离加热板6的一端距离加热板6的高度为4～6mm，例如可以为4mm、5mm、6mm，保持50～80s时间，可根据工艺需要进行调整。此外，由上述可知，第五支撑针651远离加热板6一端的高度相比第四支撑针641远离加热板6的一端的高度高3-4mm，因此此步骤中第四支撑针641远离加热板6的一端距离加热板6的高度为1～2mm。由于基板100中间位置的第四支撑针641在预加热步骤中对基板100起到非主要支撑作用，因此对基板100的影响较小，降低基板100上对应位置产生mura的几率。
s105，如图10中的(c)所示，调整固定装置7，使固定装置7带动第四支撑针641和第五支撑针651同步下降，直至基板100完全置于加热板6上，保持80～110s，对基板100进行加热干燥。
此时，第五支撑针651不再对基板100起支撑作用，完全由加热板6支撑。
当对基板100预加热完成后，通过调整固定装置7，使基板100完全放置于加热板6上由加热板6来支撑，使加热板6对基板100进行充分加热，加热时间为80～110s，例如可以为80s、85s、90s、95s、100s、110s，可根据基板100上光刻胶的干燥情况进行调整。
此外，在本申请的一些实施例中，为了防止基板100与加热板6之间产生的静电吸附作用，在加热干燥完成后固定装置7带动第四支撑针641和第五支撑针651升起时，因静电吸附受力导致基板100破损，如图10中的(c)所示，在加热板6上设置有第六支撑针661。第六支撑针661固定在加热板6上，第六支撑针661远离加热板6一端距离加热板6的高度为0.3mm，在加热干燥过程中，第六支撑针661对基板100进行支撑，防止基板100直接贴附在加热板6上，产生静电吸附作用导致基板100破损。
需要说明的是，在上述预加热过程中，对基板100进行充分的预加热，基板100上各区域温度均匀，因此此处第六支撑针661对基板100的影响较小，不会因第六支撑针661而导致基板100产生mura。
以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
1.一种支撑架，其特征在于，包括：
支撑座；
多个支撑杆；所述多个支撑杆中每个支撑杆沿第一方向延伸，所述多个支撑杆沿第二方向间隔且平行设置，并固定于所述支撑座上，所述第一方向和所述第二方向垂直；所述多个支撑杆包括一个第一支撑杆和两个第二支撑杆，所述第二支撑杆位于所述多个支撑杆的最外侧，所述第一支撑杆与两个所述第二支撑杆的间距相等；所述第一支撑杆上设有多个第一支撑针，每个所述第二支撑杆上设有多个第二支撑针；
其中，所述多个第一支撑针和所述多个第二支撑针的高度方向为垂直所述支撑座设置所述支撑杆的表面的方向，且所述多个第一支撑针和所述多个第二支撑针用于对基板进行支撑，该基板包括多个结构相同的子基板；所述第一支撑杆上多个所述第一支撑针与所述第二支撑杆上多个所述第二支撑针之间的区域，用于使该基板中的多个子基板位于该区域内。
2.根据权利要求1所述的支撑架，其特征在于，所述第一支撑杆上沿所述第一方向设置有多个间隔设置的第一固定槽，且所述第一支撑杆上的所述第一固定槽的个数大于所述第一支撑杆上第一支撑针的个数，所述多个第一支撑针中的每一个分别固定于一个所述第一固定槽内。
3.根据权利要求2所述的支撑架，其特征在于，所述第一支撑杆上的多个所述第一固定槽等间距排布，且任意相邻两个所述第一固定槽的间距为0.5～2cm。
4.根据权利要求2所述的支撑架，其特征在于，所述第一固定槽内设置有第一铁块，所述第一支撑针靠近所述支撑座的底部嵌设有第一磁块，所述第一支撑针的底部与所述第一铁块远离所述支撑座的表面接触。
5.根据权利要求1所述的支撑架，其特征在于，所述第一支撑杆上设置有凹槽，所述凹槽沿所述第一方向延伸；
所述第一支撑针的部分位于所述凹槽内；
在靠近每个所述第一支撑针的位置处对应设置有一个固定件，所述固定件用于对所述第一支撑针进行固定，使所述第一支撑针垂直所述第一支撑杆。
6.根据权利要求5所述的支撑架，其特征在于，所述固定件包括方卡子；
所述方卡子包括两个块状的夹持块，两个所述夹持块相互靠近的侧面上分别设置有半圆柱状开口，形成沿所述第一支撑针高度方向延伸，且用于容置所述第一支撑针的容置孔。
7.根据权利要求1所述的支撑架，其特征在于，所述第二支撑杆上沿所述第一方向设置有多个间隔设置的第二固定槽，且所述第二支撑杆上的所述第二固定槽与所述第二支撑杆上所述第二支撑针的个数相同，所述第二支撑针与所述第二固定槽的位置一一对应；
所述第二固定槽内设置有第二铁块，所述第二支撑针靠近所述支撑座的底部嵌设有第二磁块，所述第二支撑针的底部与所述第二铁块远离所述支撑座的表面接触。
8.根据权利要求1-7任一项所述的支撑架，其特征在于，多个所述支撑杆还包括多个第三支撑杆，多个所述第三支撑杆分设于所述第一支撑杆两侧；
所述第三支撑杆上设置有两个所述第二支撑针、至少一个所述第一支撑针以及多个第三支撑针；所述第三支撑杆上的两个所述第二支撑针位于所述第三支撑杆的两端；所述第三支撑杆上的一个所述第一支撑针位于所述第三支撑杆的中间位置；相对所述支撑座设置所述支撑杆的表面，所述第三支撑针远离该表面一端的高度低于所述第一支撑针和所述第二支撑针远离该表面的一端的高度。
9.根据权利要求8所述的支撑架，其特征在于，所述第三支撑杆上沿所述第一方向设置有多个间隔设置的第三固定槽，每个所述第一支撑针、每个所述第二支撑针和每个所述第三支撑针均位于一个所述第三固定槽内；
所述第三支撑针包括螺杆，与所述第三支撑针对应的所述第三固定槽内壁上具有与所述螺杆匹配的螺纹。
10.一种真空干燥装置，其特征在于，包括：第一腔室，所述第一腔室内设置有用于支撑基板的支撑架，所述支撑架为如权利要求1-9任一项所述的支撑架；
所述第一腔室联通有抽真空管和进气管。
11.一种干燥系统，其特征在于，包括真空干燥装置和加热干燥装置；
所述真空干燥装置为如权利要求10所述的真空干燥装置。
12.根据权利要求11所述的干燥系统，其特征在于，所述加热干燥装置包括第二腔室，所述第二腔室内设置有加热板、以及穿过所述加热板的多个第四支撑针和多个第五支撑针；多个所述第四支撑针和多个所述第五支撑针用于支撑基板；
多个所述第四支撑针沿第一方向排成一行；多个所述第五支撑针排成多行，多行第五支撑针沿第二方向分布，多行第五支撑针中的部分行和其余部分行分设于一行第四支撑针两侧，所述第五支撑针远离所述加热板一端的高度相比所述第四支撑针远离所述加热板的一端的高度高3-4mm；
所述加热干燥装置还包括固定装置，所述固定装置位于所述加热板下方并用于固定所述第四支撑针和所述第五支撑针，且所述固定装置不与所述加热板接触。
13.根据权利要求12所述的干燥系统，其特征在于，所述加热干燥装置还包括升降装置，所述升降装置用于驱动所述固定装置进行升降。
14.一种基板干燥方法，其特征在于，采用如权利要求12～13任一项所述的干燥系统对基板进行干燥，所述基板干燥方法包括：
将所述基板放置于真空干燥装置中第一腔室的支撑架上，对所述基板进行低压干燥；
将所述基板从所述第一腔室传输至第二腔室，放置于第五支撑针上，保持一定时间；其中，第五支撑针远离加热板一端距离所述加热板的高度为65～70mm；
使所述第五支撑针和第四支撑针同步下降，直至所述第五支撑针远离所述加热板一端距离所述加热板的高度为4～6mm，保持50～80s，对基板进行预加热；
使所述第五支撑针和第四支撑针同步下降，直至将所述基板置于所述加热板上，保持80～110s，对所述基板进行加热干燥。
技术总结