本发明涉及显示装置技术领域，具体地，涉及一种显示基板及其制造方法及显示面板。
背景技术：
目前，oled(有机发光二极管)由于其具有自发光、广视角、反应时间短、效率高、色域广、厚度薄及可柔性卷曲等优点而备受关注，成为显示领域的主要研究对象之一。
随着科技的发展，oled显示器件也朝着更大、更薄的方向发展，然而大尺寸器件随之而来的就是ir-drop(压降)的影响。由于阴极层具有较大的方阻，当器件显示面积越大时，受ir-drop的影响，显示区中距离外围走线较远的中部区域的亮度较显示区边缘处的亮度会比较低，即出现中间暗，四周亮的现象。
技术实现要素：
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种显示基板及其制造方法及显示面板。
为实现本发明的目的，第一方面提供一种显示基板，包括衬底基板和沿远离所述衬底基板的方向依次设置在所述衬底基板上的阳极层、发光层及阴极层，所述阳极层包括呈阵列排布的多个阳极，以及辅助电极，所述辅助电极位于所述衬底基板的显示区的指定区域内，各相邻的两行和/或两列所述阳极之间；
所述阴极层包括本体和连接部，所述本体位于各所述阳极上，所述连接部位于各所述辅助电极和与之相邻的各所述阳极之间的间隔中，且分别与所述本体和所述辅助电极的侧面连接，所述辅助电极用于将流经所述阴极层的电流导向阴极绑定区。
可选地，所述辅助电极的侧面相对于所述衬底基板的表面倾斜，以增大与所述阴极层的接触面积。
可选地，所述辅助电极的侧面相对于所述衬底基板的表面倾斜的角度大于等于70°，且小于90°。
可选地，所述指定区域至少包括所述显示区的中心区域。
可选地，还包括设置于所述阳极层和所述发光层之间的像素限定层，所述像素限定层包括多个限定单元，各所述限定单元与各所述阳极一一对应设置，用于将所述显示区分隔成多个像素单元；
所述限定单元设置有多个开口，各所述开口对应各所述辅助电极，沿所述辅助电极的长度方向设置，且所述开口在所述衬底基板上的投影至少在所述辅助电极的宽度方向完全覆盖所述辅助电极。
可选地，各所述开口至少覆盖各所述辅助电极位于所述显示区的中心区域的部分，对于每个所述辅助电极设置一个，或者
对于每个所述辅助电极，沿所述辅助电极的长度方向，与在所述辅助电极同侧的多个所述阳极一一对应地设置多个。
可选地，各所述开口的侧壁相对于所述衬底基板的表面倾斜。
可选地，各所述开口的侧壁相对于所述衬底基板的表面倾斜的角度的取值范围是30°～50°。
可选地，所述辅助电极与所述阳极的材质相同。
为实现本发明的目的，第二方面提供一种显示面板，包括显示基板，所述显示基板为第一方面提供的显示基板。
为实现本发明的目的，第三方面提供一种显示基板的制作方法，包括：
在衬底基板上形成阳极层，所述阳极层包括呈阵列排布的多个阳极，以及辅助电极，所述辅助电极位于所述衬底基板的显示区的指定区域内，各相邻的两行和/或两列所述阳极之间；
在具有所述阳极层的所述衬底基板上形成像素限定层，所述像素限定层包括多个限定单元，各所述限定单元与各所述阳极一一对应设置，用于将所述显示区分隔成多个像素单元；所述限定单元设置有多个开口，各所述开口对应各所述辅助电极，沿所述辅助电极的长度方向设置，且所述开口在所述衬底基板上的投影至少在所述辅助电极的宽度方向完全覆盖所述辅助电极；
在具有所述像素限定层的所述衬底基板上形成发光层；
在具有所述发光层的所述衬底基板上形成阴极层，所述阴极层包括本体和连接部，所述本体位于各所述阳极上，所述连接部位于各所述辅助电极和与之相邻的各所述阳极之间的间隔中，且分别与所述本体和所述辅助电极的侧面连接；
其中，所述辅助电极用于将流经阴极层的电流导入阴极绑定区。
可选地，所述在衬底基板上形成阳极层，包括：
在所述衬底基板上形成采用阳极材料；
采用一次构图工艺形成所述阳极层中的所述阳极和所述辅助电极。
本发明具有以下有益效果：
本申请提供的显示基板，在衬底基板的显示区的指定区域内、各相邻的两行和/或两列阳极之间设置有辅助电极，该辅助电极可以与金属走线连接，或者直接与阴极绑定区连接，以将该指定区域内的电流导向阴极绑定区，避免电流到达阴极层后，经过距离最短的阴极层流至最近的金属走线，再从金属走线流入阴极绑定区，从而可以降低电流传输路径上的电阻，减小由于阴极层电阻较大而造成的压降，可以提高指定区域的显示亮度，尤其在指定区域为显示区的中心区域时，可以有效改善显示器件中间暗、四周亮的现象。另外，本实施例的显示基板，其辅助电极与阳极同层设置，可以采用一次构图工艺形成；且其阴极层与辅助电极的侧面连接，再采用openmask蒸镀公共层(如空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层)时，无需设置开口，也不会影响阴极层和辅助电极相接触位置的导电性，从而可以大大简化整体工艺流程，有效降低该显示基板的制作成本。
附图说明
图1为本申请实施例提供的显示基板的俯视结构示意图一(在整个显示区开口)；
图2为本申请实施例提供的的显示基板的局部放大结构示意图(图中发光层和阴极层未示出)；
图3为图1中a-a(图5中b-b、图6中d-d)处的剖视结构的局部示意图；
图4为图5中c-c处的剖视结构示意图；
图5为本申请实施例提供的显示基板的俯视结构示意图二(在显示区的中心区域对应一个辅助电极设置一个开口)；
图6为本申请实施例提供的显示基板的俯视结构示意图二(在显示区的中心区域对应一个辅助电极设置多个开口)；
图7为本申请实施例提供的显示基板的在显微镜下的光学图像；
图8为本申请实施例提供的显示基板的制作顺序图(具有开口处)；
图9为本申请实施例提供的显示基板的制作顺序图(没有开口处)；
图10为本申请实施例提供的显示基板的制作方法的流程示意图。
具体实施方式
下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。
本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。
本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，当我们称元件被“连接”或“耦接”到另一元件时，它可以直接连接或耦接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或无线耦接。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。
下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。
本实施例提供一种显示基板，如图1-图4所示，该显示基板包括衬底基板1和沿远离衬底基板1的方向依次设置在衬底基板1上的阳极层、发光层4及阴极层5，阳极层包括呈阵列排布的多个阳极21，以及辅助电极22，辅助电极22位于衬底基板1的显示区的指定区域内、各相邻的两行和/或两列阳极21之间；阴极层5包括本体和连接部，如图3所示，本体位于各阳极21上，连接部位于各辅助电极22和与之相邻的各阳极21之间的间隔中，且分别与本体和辅助电极22的侧面连接，辅助电极22用于将流经阴极层5的电流导向阴极绑定区。
其中，绑定区可以理解为显示基板上用于与绑定有ic(integratedcircuit，集成电路)的线路板进行电连接的区域，为非显示区，本实施例提供共阴极的显示基板，可以通过阴极绑定区与绑定有ic的线路板进行电连接。通常情况下，可以在显示基板周围设置金属走线20，金属走线20同时与阴极层5和阴极绑定区连接，可以将流经阴极层5的电流导向阴极绑定区。可以理解的是，本实施例提供的辅助电极22与阴极绑定区直接连通，或者通过金属走线20连通，由于阴极层5为薄膜结构，其电阻较大，而辅助电极22为线状，在两者电阻率的数量级相同或相差不大(如相差一两个数量级)的情况下，辅助电极22的电阻较阴极层5的电阻会小的多，则电流会自动选择从辅助电极22流入阴极绑定区。
本实施例提供的显示基板，在衬底基板1的显示区的指定区域内、各相邻的两行和/或两列阳极21之间设置有辅助电极22，该辅助电极22可以将该指定区域内的电流导向阴极绑定区，避免电流到达阴极层5后，经过距离最短的阴极层5流至最近的金属走线20，再从金属走线20流入阴极绑定区，从而可以降低电流传输路径上的电阻，减小由于阴极层5电阻较大而造成的压降，可以提高指定区域的显示亮度，尤其在指定区域为显示区的中心区域时，可以有效改善显示器件中间暗、四周亮的现象。另外，本实施例的显示基板，其辅助电极22与阳极21同层设置，可以采用一次构图工艺形成；且其阴极层5与辅助电极22的侧面连接，在采用openmask蒸镀公共层(如空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层)时，无需设置开口31，也不会影响阴极层5和辅助电极22相接触位置的导电性，从而可以大大简化整体工艺流程，有效降低该显示基板的制作成本。
需要说明的是，本实施例对阳极21、辅助电极22及阴极层5的具体材质和形状不作具体限定，例如，阳极21可以但不限于是经典的方块形状，基于顶发光显示基板，阳极21的主材质可以但不限于导电的二氧化钛与ag的叠层结构，也可以是二氧化钛与铜、铝等金属材质的叠层结构，为降低阳极21的电阻，可以适当提高阳极21的厚度，如其厚度可以为200nm～260nm。辅助电极22的材质与阳极21中的金属材质相同，以便于简化工艺步骤，辅助电极22的厚度可以与阳极21的厚度相同，以便于加工。阴极层5的材质也可以是镁、铝、银及其合金等，作为顶发光显示基板，为便于光线穿过，其阴极层5的厚度通常较薄，本实施例中可以为几纳米至几十纳米，如13nm。
具体地，鉴于共阴极的显示基板，中间暗四周亮的现象比较明显，上述指定区域可以至少包括显示区的中心区域，以有效改善显示区出现的中间暗四周亮的现象。需要说明的是，本实施例并不以此为限，基于设置辅助电极22可以提高辅助电极22所在区域亮度的原理，本领域技术人员可以根据实际情况，在任何有需要提高亮度的区域设置辅助电极22。
于一具体实施方式中，如图1和2所示，该显示基板还可以包括设置于阳极层和发光层4之间的像素限定层3，像素限定层3包括多个限定单元，各限定单元与各阳极21一一对应设置，用于将显示区分隔成多个像素单元10，以实现各像素单元10的单独控制和单独发光。如图1和图2所示，限定单元可以设置有多个开口31，各开口31对应各辅助电极22，沿辅助电极22的长度方向设置，如图3所示，开口31在衬底基板1上的投影可以至少在辅助电极22的宽度方向完全覆盖辅助电极22，以将辅助电极22的侧面裸露出来，实现阴极层5与辅助电极22的侧面连接。
具体地，像素限定层3可以采用不导电的有机材料制作，其可以但不限于是聚酰亚胺材料，厚度可以为1200nm～1800nm之间，以便取得良好的隔离作用。进一步地，像素限定层3采用聚酰亚胺材料时，厚度优选1500nm。
需要说明的是，本实施例并不限定开口31的具体形状和大小，只要通过设置开口31，能将辅助电极22的侧面裸露出来，实现阴极层5与辅助电极22的侧面连接即可，如图1所示，该开口31可以沿辅助电极22的长度方向设置，其长度尺寸可以与显示区沿辅助电极22长度方向的尺寸相当，可便于在开口31内形成阴极层5，以及增大阴极层5与辅助电极22侧面的接触面积，保证阴极层5与辅助电极22的有效接触，图1中a-a处的剖面结构如图3所示(图3中仅示出了一个辅助电极22附近的剖面结构)。
具体地，如图5和图6所示，各开口31可以至少覆盖各辅助电极22位于显示区的中心区域的部分，以实现中心区域的阴极层5与辅助电极22的侧面连接。更具体地，如图5所示，可以对于每个辅助电极22可以设置一个长条形的大的开口31，以便于在中心区域的开口31内形成阴极层5，以及增大阴极层5与辅助电极22侧面的接触面积，保证中心区域的阴极层5与辅助电极22的有效接触。或者,如图6所示，可以对于每个辅助电极22，沿辅助电极22的长度方向，与在辅助电极22同侧的多个阳极21一一对应地设置多个小的开口31，以减小阴极层5与辅助电极22的接触面积，可以使电流更集中地流至辅助电极22，从而加快电流从阴极层5流至辅助电极22的速度，提高该显示基板的灵敏度。
进一步地，各开口31的侧壁可以相对于衬底基板1的表面倾斜，防止在像素限定层3上形成阴极层5时，由于阴极层5的本体与连接部之间具有高度差，造成阴极层5断裂的情况，使得采用一次成面膜工艺(如蒸镀)便可得到连续的阴极层5。
更进一步地，各开口31的侧壁相对于衬底基板1的表面倾斜的角度的取值范围可以是30°～50°，各开口31的侧壁采用较缓的坡度，便于阴极层5的本体与连接部在开口31侧壁上进行有效连接，更有利于采用一次成面膜工艺可得到连续的阴极层5。需要说明的是，30°～50°的坡度角只是本实施例的一较佳实施方式，并不是对本实施例的限定，只要其能便于本体和连接部连接即可。
于一具体实施方式中，辅助电极22的侧面可以相对于衬底基板1的表面倾斜，则辅助电极22与阴极层5通过倾斜的表面接触，可以增大辅助电极22与阴极层5的接触面积，以保证阴极层5与辅助电极22有效接触，实现电流从阴极层5向辅助电极22的有效传输。需要说明的是，本实施例并不以此为限，只要能增大辅助电极22与阴极层5的接触面积即可，如辅助电极22的侧面也可以是曲率较大的圆弧面。
进一步地，辅助电极22的侧面相对于衬底基板1的表面倾斜的角度可以大于等于70°，且小于90°。通过光学显微镜(opticalmicroscopy，om)进行形貌分析，在辅助电极22的侧面相对于衬底基板1的表面倾斜的角度大于等于70°且小于90°时，其形貌图像如图7所示，设置该倾斜角既可以有效增加辅助电极22与阴极层5的接触面积，还可以防止在辅助电极22的侧面上形成发光层4或公共层，以避免影响阴极层5与辅助电极22的侧面接触。需要说明的是，该倾斜角只是本实施例的较佳实施方式，本实施例并不以此为限，其也可以是90°、60°等，只要能使阴极层5与辅助电极22的侧面接触即可。
基于相同的构思，本实施例还提供一种显示面板，包括显示基板，该显示基板为上述一项实施方式的显示基板。
本实施例提供的显示面板，包括上述任一实施方式的显示基板，至少能实现上述显示基板的有益效果，在此不再赘述。
基于相同的构思，本实施例还提供一种显示基板的制作方法，如图7、图8及图9所示，图8和图9分别为显示基板上像素限定层3具有开口31和不具有开口31的的辅助电极22处的制作顺序图(图中仅示出了包含一个辅助电极22的结构示意图)，图10为该制作方法的流程示意图，如图9所示，该制作方法可以包括以下步骤：
步骤s1，在衬底基板1上形成阳极层，阳极层包括呈阵列排布的多个阳极21，以及辅助电极22，辅助电极22位于衬底基板1的显示区的指定区域内，各相邻的两行和/或两列阳极21之间。其中，辅助电极22用于将流经下述阴极层5的电流导入阴极绑定区。
其中，阳极21的主材质可以但不限于导电的二氧化钛与ag的叠层结构，也可以是与ag的叠层结构铜、铝、银等金属的叠层结构，为降低阳极21的电阻，可以适当提高阳极21的厚度，如其厚度可以为200nm～260nm。辅助电极22的材质可以与阳极21的材质完全相同(如为二氧化钛/银/二氧化钛的多层结构)。
具体地，阳极21和辅助电极22可以采用相同的材质，一次成形。相应地，衬底基板1上形成阳极层，可以包括以下的处理：在衬底基板1上形成采用阳极21材料；采用一次构图工艺形成阳极层中的阳极21和辅助电极22，如此可以大大简化阳极层及显示基板的整体成形工艺，降低制作成本。
步骤s2，在具有阳极层的衬底基板1上形成像素限定层3，像素限定层3包括多个限定单元，各限定单元与各阳极21一一对应设置，用于将显示区分隔成多个像素单元10；限定单元设置有多个开口31，各开口31对应各辅助电极22，沿辅助电极22的长度方向设置，且开口31在衬底基板1上的投影至少在辅助电极22的宽度方向完全覆盖辅助电极22。
步骤s3，在具有像素限定层3的衬底基板1上形成发光层4。具体地，发光层4可以是单色器件也可以是全彩显示器件。需要说明的是，本实施例对发光层的材质和厚度不作具体限定，其可以采用现有的任一可用于制作发光层的材料，其厚度可以为160nm～180nm，优选180nm，以实现光颜色的传递和/或转变等。
步骤s4，在具有发光层4的衬底基板1上形成阴极层5，阴极层5包括本体和连接部，本体位于各阳极21上，连接部位于各辅助电极22和与之相邻的各阳极21之间的间隔中，且分别与本体和辅助电极22的侧面连接。通过上述开口31，阴极层5可以采用一次工艺形成，制作方法简单，可有效降低制作成本。
本实施例提供的显示基板的制作方法，在衬底基板1的显示区的指定区域内、各相邻的两行和/或两列阳极21之间设置有辅助电极22，该辅助电极22可以与金属走线20连接，或者直接与阴极绑定区连接，以将该指定区域内的电流导向阴极绑定区，避免电流到达阴极层5后，经过距离最短的阴极层5流至最近的金属走线20，再从金属走线20流入阴极绑定区，从而可以降低电流传输路径上的电阻，减小由于阴极层5电阻较大而造成的压降，可以提高指定区域的显示亮度，尤其在指定区域为显示区的中心区域时，可以有效改善显示器件中间暗、四周亮的现象。另外，本实施例的显示基板，其辅助电极22与阳极21同层设置，可以采用一次构图工艺形成；且其阴极层5与辅助电极22的侧面连接，在采用openmask蒸镀公共层(如空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层)时，无需设置开口31，也不会影响阴极层5和辅助电极22相接触位置的导电性，从而可以大大简化整体工艺流程，有效降低该显示基板的制作成本。
本技术领域技术人员可以理解，本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地，具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地，现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
以上仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。
1.一种显示基板，包括衬底基板和沿远离所述衬底基板的方向依次设置在所述衬底基板上的阳极层、发光层及阴极层，其特征在于，所述阳极层包括呈阵列排布的多个阳极，以及辅助电极，所述辅助电极位于所述衬底基板的显示区的指定区域内，各相邻的两行和/或两列所述阳极之间；
所述阴极层包括本体和连接部，所述本体位于各所述阳极上，所述连接部位于各所述辅助电极和与之相邻的各所述阳极之间的间隔中，且分别与所述本体和所述辅助电极的侧面连接，所述辅助电极用于将流经所述阴极层的电流导向阴极绑定区。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述辅助电极的侧面相对于所述衬底基板的表面倾斜，以增大与所述阴极层的接触面积。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述辅助电极的侧面相对于所述衬底基板的表面倾斜的角度大于等于70°，且小于90°。
4.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板，其特征在于，所述指定区域至少包括所述显示区的中心区域。
5.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板，其特征在于，还包括设置于所述阳极层和所述发光层之间的像素限定层，所述像素限定层包括多个限定单元，各所述限定单元与各所述阳极一一对应设置，用于将所述显示区分隔成多个像素单元；
所述限定单元设置有多个开口，各所述开口对应各所述辅助电极，沿所述辅助电极的长度方向设置，且所述开口在所述衬底基板上的投影至少在所述辅助电极的宽度方向完全覆盖所述辅助电极。
6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，各所述开口至少覆盖各所述辅助电极位于所述显示区的中心区域的部分，对于每个所述辅助电极设置一个，或者
对于每个所述辅助电极，沿所述辅助电极的长度方向，与在所述辅助电极同侧的多个所述阳极一一对应地设置多个。
7.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，各所述开口的侧壁相对于所述衬底基板的表面倾斜。
8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，各所述开口的侧壁相对于所述衬底基板的表面倾斜的角度的取值范围是30°～50°。
9.根据权利要求1-8任一项所述的显示基板，其特征在于，所述辅助电极与所述阳极的材质相同。
10.一种显示面板，包括显示基板，其特征在于，所述显示基板为权利要求1-9任一项所述的显示基板。
11.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成阳极层，所述阳极层包括呈阵列排布的多个阳极，以及辅助电极，所述辅助电极位于所述衬底基板的显示区的指定区域内，各相邻的两行和/或两列所述阳极之间；
在具有所述阳极层的所述衬底基板上形成像素限定层，所述像素限定层包括多个限定单元，各所述限定单元与各所述阳极一一对应设置，用于将所述显示区分隔成多个像素单元；所述限定单元设置有多个开口，各所述开口对应各所述辅助电极，沿所述辅助电极的长度方向设置，且所述开口在所述衬底基板上的投影至少在所述辅助电极的宽度方向完全覆盖所述辅助电极；
在具有所述像素限定层的所述衬底基板上形成发光层；
在具有所述发光层的所述衬底基板上形成阴极层，所述阴极层包括本体和连接部，所述本体位于各所述阳极上，所述连接部位于各所述辅助电极和与之相邻的各所述阳极之间的间隔中，且分别与所述本体和所述辅助电极的侧面连接；
其中，所述辅助电极用于将流经阴极层的电流导入阴极绑定区。
12.根据权利要求11所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成阳极层，包括：
在所述衬底基板上形成采用阳极材料；
采用一次构图工艺形成所述阳极层中的所述阳极和所述辅助电极。
技术总结