本实用新型涉及半导体加工设备技术领域，具体涉及一种新型晶圆研磨抛光设备。
背景技术：
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆；在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，而成为有特定电性功能的集成电路产品。
晶圆生产包括晶棒制造和晶片制造两大步骤，它又可细分为以下几道主要工序，其中晶棒制造只包括下面的第一道工序，其余的全部属晶片制造，所以有时又统称它们为晶柱切片后处理工序，该工序包括晶棒成长、晶棒裁切与检测、外径研磨、切片、圆边、表层研磨、蚀刻、去疵、抛光、清洗检验、包装。其中晶圆研磨的目的在于去掉切割时在晶片表面产生的锯痕和破损，使晶片表面达到所要求的光洁度，在研磨抛光时，需要将二氧化硅的抛光液始终对准研磨位置。
但是在研磨时，抛光液会四处飞溅，长时间使用工作箱内壁会附着较多的抛光液残留，传统都是人工清洗，费时费力，增加了工作人员的劳动量，给工作人员带来了负担。
技术实现要素：
解决的技术问题
针对现有技术所存在的上述缺点，本实用新型提供了一种新型晶圆研磨抛光设备，能够有效地解决现有技术在研磨时，抛光液会四处飞溅，长时间使用工作箱内壁会附着较多的抛光液残留，传统都是人工清洗，费时费力，增加了工作人员的劳动量，给工作人员带来了负担的问题。
技术方案
为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：
一种新型晶圆研磨抛光设备，包括由上圆柱形和下圆台形组成的工作箱，所述工作箱的内部通过多根环形阵列分布的连板支撑有安装座，所述安装座的底面中心处通过支柱固定连接有放置在地面的底座，所述工作箱的顶面上固定安装有与其同轴的双轴电机，且双轴电机处于竖直状态，所述双轴电机的下输出轴穿入工作箱连接有横板，所述横板左右两端固定连接有第一清刷件，且第一清刷件贴合在工作箱的上部内壁，同时双轴电机的上输出端固定连接有连接杆，所述连接杆的另一端固定有第二清刷件，且第二清刷件贴合在工作箱的下部内壁，所述工作箱的顶部固定安装有储液箱，所述储液箱的底部通过导液管连接有环形导管，且环形导管通过多个管道固定焊接在工作箱外壁上，所述工作箱上开设有多个与管道对应导通的进液孔。
更进一步地，所述横板的下侧面左侧和右侧分别安装有箱体和气缸，所述箱体的底部依次连接有喷液管和喷液头，所述气缸的底端固定连接有研磨石，便于在研磨时喷出抛光液。
更进一步地，所述安装座的顶面固定连接有电机罩，且电机罩内安装有单轴电机，所述单轴电机的输出端上固定安装有工作台，能够带动工作台转动进行研磨加工。
更进一步地，所述底座的内部为空心状，且支柱的底部与底座内壁之间安装有加强筋，通过加强筋能够提高立柱的稳定性。
更进一步地，所述气缸与研磨石之间至少固定有两个弹簧，弹簧能够起到缓冲作用。
更进一步地，所述第一清刷件和第二清刷件均包括杆体，所述杆体的外表面粘接有刷毛，通过杆体公转带动刷毛清刷箱体内壁。
有益效果
采用本实用新型提供的技术方案，与已知的公有技术相比，具有如下有益效果：
1、本实用新型通过在工作箱的顶部安装双轴电机，通过双轴电机带动第一清刷件和第二清刷件同步在工作箱的内壁上转动，同时在工作箱的顶部注入稀盐酸溶液对抛光液进行溶解，本实用新型实现半自动化清洗工作箱内壁，减少了人工操作，减轻了工作人员的工作负担，提高了工作效率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型的剖面结构示意图；
图2为本实用新型的安装座俯视结构示意图；
图3为本实用新型的环形导管俯视剖面结构示意图；
图中的标号分别代表：1-工作箱；2-连板；3-安装座；4-支柱；5-底座；6-双轴电机；7-横板；8-第一清刷件；9-连接杆；10-第二清刷件；11-储液箱；12-导液管；13-环形导管；14-管道；15-进液孔；16-箱体；17-气缸；18-喷液管；19-喷液头；20-研磨石；21-电机罩；22-单轴电机；23-工作台。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
下面结合实施例对本实用新型作进一步的描述。
实施例
本实施例的一种新型晶圆研磨抛光设备，参照图1-3：包括由上圆柱形和下圆台形组成的工作箱1，工作箱1的内部通过多根环形阵列分布的连板2支撑有安装座3，安装座3的底面中心处通过支柱4固定连接有放置在地面的底座5，工作箱1的顶面上固定安装有与其同轴的双轴电机6，且双轴电机6处于竖直状态，双轴电机6的下输出轴穿入工作箱连接有横板7，横板7左右两端固定连接有第一清刷件8，且第一清刷件8贴合在工作箱1的上部内壁，同时双轴电机6的上输出端固定连接有连接杆9，连接杆9的另一端固定有第二清刷件10，且第二清刷件10贴合在工作箱1的下部内壁，工作箱1的顶部固定安装有储液箱11，储液箱11的底部通过导液管12连接有环形导管13，且环形导管13通过多个管道14固定焊接在工作箱1外壁上，工作箱1上开设有多个与管道14对应导通的进液孔15。
其中，横板7的下侧面左侧和右侧分别安装有箱体16和气缸17，箱体16的底部依次连接有喷液管18和喷液头19，气缸17的底端固定连接有研磨石20，安装座3的顶面固定连接有电机罩21，且电机罩21内安装有单轴电机22，单轴电机22的输出端上固定安装有工作台23，底座5的内部为空心状，且支柱4的底部与底座5内壁之间安装有加强筋，气缸17与研磨石20之间至少固定有两个弹簧，第一清刷件8和第二清刷件10均包括杆体，杆体的外表面粘接有刷毛。
工作原理：清洗时，启动双轴电机6，同时打开注入有稀盐酸溶液的储液箱11上的阀门，双轴电机6的输出轴在转动时，其下输出轴通过横板7固定连接有一对左右对称设置的第一清刷件8，由于第一清刷件8贴合在工作箱1的上内壁，因此第一清刷件8的刷毛能够对工作箱1上内壁进行清刷，同时储液箱11内的稀盐酸溶液经过导液管12流入到环形导管13内，通过环形导管13的分流作用，稀盐酸溶液经过多个管道14流淌进工作箱1内部，最终由工作箱1的进液孔15沿着工作箱1的内壁向下流淌，通过不断地下流的稀盐酸溶液和第一清刷件8的配合能完成对抛光液(主要成分为二氧化硅)的溶解，与此同时，双轴电机6的上输出轴通过连接杆9与第二清刷件10固定连接，并且第二清刷件10的杆体贴合在工作箱1的下内壁上，由于安装座3与工作箱1是通过多个环形阵列的连板2实现连接，使得安装座3侧边形成了镂空状，稀盐酸溶液会自流至工作箱1的下内壁，并与第二清刷件10完成工作箱1下内壁的清刷工作，最终稀盐酸溶液和残留的抛光液会流淌至底座5内部，本实用新型实现半自动化清洗工作箱1内壁，减少了人工操作，减轻了工作人员的工作负担，提高了工作效率。
此外，横板7底部安装的箱体16内部装有抛光液，在研磨时，晶圆放置在工作台23上，通过单轴带动工作台23转动，气缸17伸出带动底部的研磨石20与晶圆进行研磨，并且在研磨石20与气缸17轴体之间连接有至少两个弹簧，在研磨时起到了缓冲作用，保护晶圆，同时喷液管18上的连接供液泵不断地将抛光液从喷液头19喷向研磨处，并且抛光液能够自然流淌至底座5内部存放，方便回收利用。
以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不会使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。
1.一种新型晶圆研磨抛光设备，其特征在于：包括由上圆柱形和下圆台形组成的工作箱，所述工作箱的内部通过多根环形阵列分布的连板支撑有安装座，所述安装座的底面中心处通过支柱固定连接有放置在地面的底座，所述工作箱的顶面上固定安装有与其同轴的双轴电机，且双轴电机处于竖直状态，所述双轴电机的下输出轴穿入工作箱连接有横板，所述横板左右两端固定连接有第一清刷件，且第一清刷件贴合在工作箱的上部内壁，同时双轴电机的上输出端固定连接有连接杆，所述连接杆的另一端固定有第二清刷件，且第二清刷件贴合在工作箱的下部内壁，所述工作箱的顶部固定安装有储液箱，所述储液箱的底部通过导液管连接有环形导管，且环形导管通过多个管道固定焊接在工作箱外壁上，所述工作箱上开设有多个与管道对应导通的进液孔。
2.根据权利要求1所述的一种新型晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述横板的下侧面左侧和右侧分别安装有箱体和气缸，所述箱体的底部依次连接有喷液管和喷液头，所述气缸的底端固定连接有研磨石。
3.根据权利要求1所述的一种新型晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述安装座的顶面固定连接有电机罩，且电机罩内安装有单轴电机，所述单轴电机的输出端上固定安装有工作台。
4.根据权利要求1所述的一种新型晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述底座的内部为空心状，且支柱的底部与底座内壁之间安装有加强筋。
5.根据权利要求2所述的一种新型晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述气缸与研磨石之间至少固定有两个弹簧。
6.根据权利要求1所述的一种新型晶圆研磨抛光设备，其特征在于，所述第一清刷杆和第二清刷杆均包括杆体，所述杆体的外表面粘接有刷毛。
技术总结