本实用新型涉及砂轮制作技术领域，具体涉及一种砂轮静平衡架。
背景技术：
静平衡测量的基本原理是基于这样一个普遍现象：任何物体在地球引力的作用下，其重心总是处于最低位置。由于回转刚体重心偏离转轴轴心线，不能使转动刚体在任意转动位置保持静止(即静平衡)这种现象称为静不平衡。译
目前，测量转动刚体静平衡的装置主要是静平衡架，在测量砂轮等金属回转构件的静平衡状态时，一般采用平衡调节磁体来做微调，但是现有技术中，平衡调节磁体和静平衡架一般分开摆放，有时在使用静平衡架时不能快速找到平衡调节磁体或者使用后平衡调节磁体摆放位置不当造成丢失，对后续实用造成不便。
技术实现要素：
本实用新型提供了一种砂轮静平衡架，解决了现有技术中有时在使用静平衡架时不能快速找到平衡调节磁体以及使用后平衡调节磁体摆放位置不当造成丢失的技术问题。
本实用新型解决上述技术问题的方案如下：一种砂轮静平衡架，包括底座、两个支架，所述底座包括座体和平行铺设于所述座体上端面的两个导轨，两个所述支架均包括平衡杆和位于所述平衡杆两端的支杆，同一所述支架的两个支杆分别可滑动安装于两个所述导轨上，两个所述支架的所述平衡杆平行设置，所述座体的上端面形成有至少两个容置槽，以用于容置至少两种平衡调节磁体，所述座体上安装至少两个活动盖，所述活动盖与所述容置槽一一对应设置以打开或闭合对应的所述容置槽。
本实用新型提供的将两个支架设置在导轨上，通过改变支架的位置，可以调节两个支架之间的距离，使得该静平衡架能适应不同长度的砂轮转轴；同时在座体上端面设置容置平衡调节磁体，可以再使用时迅速取用，使用完后，将平衡调节磁体放在容置槽中，盖上活动盖，能有效避免随意摆放造成丢失，方便再次使用。
上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本实用新型的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
图1为本实用新型结构的正面示意图；
图2为本实用新型结构的俯视示意图；
图3为本实用新型结构的左视示意图
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的范围。在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本实用新型。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
如图1至图3所示，本实用新型提供了一种砂轮静平衡架，其特征在于，包括底座1、两个支架2、3，底座1包括座体11和平行铺设于座体上端面的两个导轨12、13，两个支架均包括平衡杆和位于平衡杆两端的支杆，同一支架2的两个支杆分别可滑动安装于两个导轨12、13上，两个支架2、3对应的两个平衡杆平行设置，以支架2为例，其包括平衡杆21、和支杆22、23，支杆22、23分别可滑动安装于两个导轨12、13上，座体11的上端面形成有至少两个容置槽，以用于容置至少两种平衡调节磁体，容置槽的个数可以根据实际情况设置，以方便取用和能够满足平衡调节要求为佳。
在本实施例中，容置槽的个数为四个，即容置槽11a、11b、11c、11d，且均匀分布在座体上，具体的，在不同的容置槽内容置不同种类的平衡调节磁体，可以有效的实现静平衡调节的使用，如，在容置槽11a、11b、11c、11d内分别容置重量为1g、2g、5g、7g的平衡调节磁体，可以在静平衡调节过程中有效的满足需求。
座体11上安装至少两个活动盖；
对应的，在本实施例中，活动盖的数目也为4个，即活动盖111、112、113、114，活动盖111、112、113、114与容置槽11a、11b、11c、11d一一对应设置，以打开或闭合对应的容置槽11a、11b、11c、11d。
通过活动盖的设置将对应容置槽配合，可以有效地保护平衡调节磁体。
具体的，以容置槽11a为例，容置槽11a的开口为矩形，容置槽11a对应的活动盖111铰接于对应的矩形的一侧，容置槽11a包括一容置腔体a1和一取件部a2，平衡调节磁体为柱状结构且并列放置于对应的容置腔体a1，取件部a2具有一凸台a3，凸台a3的上端面沿容置槽11a的长度方向形成有一取件槽a31。
当操作人员在选取容置槽内平衡调节磁体，手指可以顺着取件槽将平衡调节磁体取出，方便简单。
座体11的下端面靠近边缘的位置安装有四个高度调节装置112，四个高度调节装置112分别位于同一个矩形的四个顶点位置，用于调节座体上对应位置的高度。
高度调节装置112包括与座体的下端面螺纹连接的螺柱1121以及固定连接于螺柱1121下端的脚垫1122。
本实用新型提供的将两个支架设置在导轨上，通过改变支架的位置，可以调节两个支架之间的距离，使得该静平衡架能适应不同长度的砂轮转轴；同时在座体上端面设置容置平衡调节磁体，可以再使用时迅速取用，使用完后，将平衡调节磁体放在容置槽中，盖上活动盖，能有效避免随意摆放造成丢失，方便再次使用。
以上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制；凡本行业的普通技术人员均可按说明书附图所示和以上所述而顺畅地实施本实用新型；但是,凡熟悉本专业的技术人员在不脱离本实用新型技术方案范围内，利用以上所揭示的技术内容而做出的些许更动、修饰与演变的等同变化，均为本实用新型的等效实施例；同时,凡依据本实用新型的实质技术对以上实施例所作的任何等同变化的更动、修饰与演变等，均仍属于本实用新型的技术方案的保护范围之内。
1.一种砂轮静平衡架，其特征在于，包括底座、两个支架，所述底座包括座体和平行铺设于所述座体上端面的两个导轨，两个所述支架均包括平衡杆和位于所述平衡杆两端的支杆，同一所述支架的两个支杆分别可滑动安装于两个所述导轨上，两个所述支架对应的所述平衡杆平行设置，所述座体的上端面形成有至少两个容置槽，以用于容置至少两种平衡调节磁体，所述座体上安装至少两个活动盖，所述活动盖与所述容置槽一一对应设置以打开或闭合对应的所述容置槽。
2.根据权利要求1所述的砂轮静平衡架，其特征在于，所述容置槽的开口为矩形，所述容置槽对应的所述活动盖铰接于对应的所述矩形的一侧，所述容置槽包括一容置腔体和一取件部，所述平衡调节磁体为柱状结构且并列放置于对应的所述容置腔体，所述取件部具有一凸台，所述凸台的上端面沿所述容置槽的长度方向形成有一取件槽。
3.根据权利要求1所述的砂轮静平衡架，其特征在于，所述座体的下端面靠近边缘的位置安装有四个高度调节装置，四个高度调节装置分别位于同一个矩形的四个顶点位置，用于调节所述座体上对应位置的高度。
4.根据权利要求3所述的砂轮静平衡架，其特征在于，所述高度调节装置包括与所述座体的下端面螺纹连接的螺柱以及固定连接于所述螺柱下端的脚垫。
技术总结